Programm Workshop 4: Beschichtungen für den optischen Gerätebau Mittwoch, 14. Oktober 2015 09:00 Uhr GDD-optimierte IBS-Beschichtungen für Femtosekunden-Laser Michael Kennedy, Tobias Groß, Wolgang Ebert, LASEROPTIK GmbH, Garbsen 09:30 Uhr Neuartige Konzepte zum optischen Breitband-Monitoring für die hochpräzise Schichtabscheidung Kai Starke, Cutting Edge Coatings GmbH, Hannover 10:00 Uhr Dispersive optics: From design to application Vladimir Pervak, Ludwig Maximilians Universität, München 10:30 Uhr Kaffeepause 11:30 Uhr Neuste Entwicklung in optischen Sensoren durch Integration von Interferenzfilter- und Halbleitertechnologie Georg Ockenfuss, JDS Uniphase Corporation, CA, USA 12:00 Uhr Innovative Anlagenkonzepte für die Herstellung optischer Präszisionsschichten Silvia Schwyn Thöny, Evatec Ltd, Flums, Schweiz 12:30 Uhr Organische Nanostrukturen in komplexen Schichtsystemen zur Breitbandentspiegelung Ulrike Schulz, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena 13:00 Uhr Mittagspause 14:00 Uhr Schichten für den DUV-Spektralbereich Helmut Bernitzki, JENOPTIK Optical Systems GmbH, Jena 14:30 Uhr Herstellung, Charakterisierung und Einsatzmöglichkeiten von Metallinselfilmen für optische Schichtsysteme Mario Held, OptoTech Optikmaschinen GmbH, Wettenberg 14:50 Uhr Herstellung hochreflektierender Schichtsysteme mittels Magnetronsputtern Harro Hagedorn, Bühler Alzenau GmbH, Alzenau 15:10 Uhr Die Hohlkathoden-Glimmentladung: Wiedergeburt einer vielseitigen Plasmaquelle für industrielle Anwendungen als PVD/PECVD -Tool für optoelektronische Bauelemente? Bernd Szyszka, Ruslan Muydinov, Nivin Alktash, Yuan-Ruen Tseng, Darja Erfurt, Frank Schmidt, Kai Ortner, Ralf Bandorf, Thomas Jung, TU Berlin, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig Programm – Workshop 4 1 15:30 Uhr Kaffeepause 16:30 Uhr Neue Entwicklungen optischer Beschichtungen Michael Vergöhl, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST, Braunschweig 17:00 Uhr Aktuelle Entwicklungen der Analyse und Kontrolle von IBSBeschichtungsprozessen Henrik Ehlers, Laser Zentrum Hannover, Hannover 17:30 Uhr Ende 1. Workshoptag Donnerstag, 15. Oktober 2015 09:00 Uhr Carl Zeiss – Enabling the Nano-Age-World Roland Lörcher, Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen 09:30 Uhr Direktes optisches Monitoring für Strahlteilerschichten Dirk Isfort, Carl Zeiss Jena GmbH, Oberkochen 10:00 Uhr Großflächige präzisionsoptische Beschichtungen durch reaktivem Puls-Magnetron-Sputtern Peter Frach, Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahlund Plasmatechnik FEP, Dresden 10:30 Uhr Kaffeepause 11:30 Uhr Industrienahes Forschungszentrum für optische Schichten in der Schweiz Andreas Ettemeyer, Interstaatliche Hochschule für Technik Buchs, Buchs, Schweiz 11:50 Uhr Dielektrische Materialien in dc und dc gepulsten MagnetronSputterprozessen Nikolaus Weinberger, Stefan Schlichtherle, Georg N. Strauss, Universität Innsbruck, Innsbruck, Austria; PhysTech Coating Technology GmbH, Pflach, Austria 12:10 Uhr Filterarrays für die Spektralsensorik Thorsten Best, Optics Balzers AG, Jena 12:30 Uhr Plasmacharakterisierung und neue Ansätze zur Steuerung von PIAD-Prozessen zur Herstellung von Dünnschichtoptiken Rüdiger Foest, Jens Harhausen und Detlef Loffhagen, Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie (INP Greifswald), Greifswald 13:00 Uhr Workshopende Programm – Workshop 4 2