KrF Scanner 半導体露光装置総合 i-line Scan Field Stepper i線スキャンフィールドステッパー KrFスキャナー CLASS 1 LASER PRODUCT CLASS 1 LASER PRODUCT クラス1レーザ製品 クラス1レーザ製品 KrF scanner with Tandem Stage supports mass production of 110 nm devices and beyond i-line scan field stepper utilizes innovative platform and high-speed wafer stage to deliver maximized throughput タンデムステージ搭載により生産性向上を実現 110 nm以下のデバイス量産に対応した KrF スキャナー 「スカイフック構造」 とウェハステージ高速化により、 さらなる 高スループット化を実現したi線スキャンフィールドステッパー Performance Resolution 解像度 NA NA Exposure light source 露光光源 Reduction ratio 縮小倍率 Maximum exposure field 最大露光範囲 Overlay 重ね合わせ精度 Throughput スループット NSR-S210D NSR-SF155 ≦ 110 nm ≦ 280 nm 0.82 0.62 KrF excimer laser (248 nm wavelength) i-line (365 nm wavelength) 1:4 1:4 26 mm 33 mm 26 mm 33 mm ≦ 9 nm ≦ 25 nm ≧ 176 wafers/hour (76 shots) ≧ 200 wafers/hour (76 shots) NIKON CORPORATION NIKON PRECISION TAIWAN LTD. Shinagawa Intercity Tower C, 2-15-3, Konan, Minato-ku, Tokyo 108-6290, Japan Tel: +81-3-6433-3639 Fax: +81-3-6433-3759 NIKON SINGAPORE PTE LTD. Semiconductor Lithography Business Unit Marketing Department 3F-1, 2, 3, 5 No. 28, Tai Yuen Street, Chu Pei City, Hsin Chu Hsien, Taiwan Tel: +886-3-552-5888 Fax: +886-3-552-5858 Precision Division 23 Church Street, Unit #13-07, Capital Square, Singapore, 049481 Tel: +65-6367-4020 Fax: +65-6367-4021 NIKON PRECISION INC. 1399 Shoreway Road, Belmont, CA 94002-4107, U.S.A. Tel: +1-(650)-508-4674 Fax: +1-(650)-508-4600 NIKON PRECISION SHANGHAI CO., LTD. RM. 601 Xin Jin Qiao Tower, No. 28 Xin Jin Qiao Road, Pudong New District, Shanghai 201206, China Tel: +86-21-5899-0266 Fax: +86-21-5899-1660 NIKON PRECISION EUROPE GmbH Robert-Bosch-Strasse 11, D-63225 Langen, Germany Tel: +49-6103-973-0 Fax: +49-6103-973-333 NIKON PRECISION KOREA LTD. 17-24 Singal-Dong, Giheung-Gu, Yongin-Si, Gyeonggi-Do, Korea Tel: +82-31-288-5601 Fax: +82-31-288-5609 WARNING TO ENSURE CORRECT USAGE, READ THE CORRESPONDING MANUALS CAREFULLY BEFORE USING YOUR EQUIPMENT. The export of this product is controlled by Japanese Foreign Exchange and Foreign Trade Law and International export control regime. It shall not be exported without authorization from the appropriate governmental authorities. Performance and equipment are subject to change without any notice or obligation on the part of the manufacturer. Products and brand names are trademarks or registered trademarks of their respective companies. December 2016 ©2016 NIKON CORPORATION 安全に関するご注意 ご 注 意 ■ご使用の前に「使用説明書」 をよくお読みの上、正しくお使いください。 本製品および製品の技術（ソフトウェアを含む）は「外国為替および外国貿易法」に定める規制貨物等（特定技術を含む） に該当します。 輸出する場合には政府許可取得等適正な手続きをお取りください。 ・このカタログは2016年12月現在のものです。仕様と製品は、 製造者側がなんら債務を被ることなく予告なしに変更されます。 ・このカタログに掲載の会社名および商品名は各社の商標または登録商標です。 ©2016 NIKON CORPORATION http://www.nikon.co.jp/pec 半導体装置事業部 マーケティング部 108-6290 東京都港区港南2-15-3 品川インターシティ C棟 電話 （03） 6433-3639 株式会社ニコンテック 140-0012 東京都品川区勝島 1-5-21 東神ビル 電話（03）5762-8911 Printed in Japan 4CEJ-SUSH-14(1612-003)T 2016-2017 Semiconductor Lithography Systems ArF Immersion Scanner ArF Scanner ArF液浸スキャナー ArFスキャナー Streamlign platform Super high accuracy and throughput with improved overlay accuracy and productivity 重 ね 合 わ せ 精度 と 生産性 を さ ら に 向上 さ せ た 超高精度・ 高スループット ArF 液浸スキャナー The NSR-S631E ArF immersion scanner was developed for high-volume manufacturing of devices at the 7 nm process node (capable of handling multiple patterning) by further enhancing the accuracy and productivity of the NSR-S630D, which applies the proven Streamlign platform. Through the use of a new type of projection lens, as well as improved alignment system mark detection and measurement, the S631E realizes super high accuracy of below 2.3 nm MMO and extremely high throughput of more than 270 WPH (96 shots), contributing to stable volume manufacturing at cutting-edge production lines. NSR-S631E は、NS R-S630D の精度と生産性をさらに向上させ、7 n m プロセス量産用（マルチプルパターニング適応）に開発された、Streamlign Platform 採用の ArF 液浸スキャナーです。 新型投影レンズ、アライメントシステムのマーク検出・計測能力の強化により、 装置間重ね合わせ精度（MMO：Mix and Match Overlay）2.3 nm 以下で スループット毎時270枚以上（96 shots）という極めて高い精度と生産性を 実現。最先端デバイス生産ラインの安定量産に貢献します。 Performance Resolution 解像度 NA NA ≦ 38 nm Exposure light source 露光光源 ArF excimer laser (193 nm wavelength) Reduction ratio 縮小倍率 1:4 Maximum exposure field 最大露光範囲 Overlay 重ね合わせ精度 ≦ 1.7 nm (SMO*1), ≦ 2.3 nm (MMO*2) Throughput スループット ≧ 250 wafers/hour (96 shots), ≧ 270 wafers/hour (96 shots, optional) CLASS 1 LASER PRODUCT 1.35 クラス1レーザ製品 26 mm 33 mm Streamlign platform Employs the proven Streamlign platform Delivers enhanced overlay accuracy and productivity 液浸装置で実績のある Streamlign Platform を搭載 重ね合わせ精度と生産性をさらに向上させたArFスキャナー The NSR-S322F ArF scanner delivers enhanced overlay accuracy and productivity by employing the proven Streamlign platform. The S322F meets the need for higher accuracy and stable volume manufacturing at a customer site. NSR-S322F は、液浸装置で実績のある Streamlign Platform を搭載するとも に、重ね合わせ精度と生産性のさらなる向上を実現。お客様の生産ラインにおいて、 高精度化と安定量産のニーズに応えます。 Performance Resolution 解像度 NA NA ≦ 65 nm Exposure light source 露光光源 ArF excimer laser (193 nm wavelength) Reduction ratio 縮小倍率 1:4 Maximum exposure field 最大露光範囲 Overlay 重ね合わせ精度 Throughput スループット 0.92 CLASS 1 LASER PRODUCT クラス1レーザ製品 26 mm 33 mm ≦ 2.0 nm (SMO*1), ≦ 5.0 nm (MMO*2) ≧ 230 wafers/hour (96 shots) *1 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy 同一号機間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S322F#1 to S322F#1） *2 Mix and Match Overlay: machine-to-machine overlay accuracy 同一機種間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S322F#1 to NSR-S322F#2） *1 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy 同一号機間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S631E#1 to S631E#1） *2 Mix and Match Overlay: machine-to-machine overlay accuracy 同一機種間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S631E#1 to NSR-S631E#2） ArF Immersion Scanner KrF Scanner ArF液浸スキャナー KrFスキャナー Streamlign platform Streamlign platform enables high overlay accuracy and throughput Streamlign Platformの採用により、 高精度・高スループット を実現した ArF 液浸スキャナー The NSR-S622D ArF immersion scanner, which applies the proven Streamlign platform, was developed for use in processing of nodes that are 20 nm or smaller in high-volume manufacturing. The mix and match overlay (MMO) of 3.5 nm or less, achieved through improvements in the autofocus mechanism, enables the S622D to handle multiple patterning and contribute to stable volume manufacturing at cutting-edge production lines. NSR-S622D は、20 nm 以下のプロセス量産用に開発された、Streamlign Platform 採用の ArF 液浸スキャナーです。 オートフォーカス機能を改良し、マルチプルパターニングにも対応可能な 装置間重ね合わせ精度（MMO：Mix and Match Overlay）3.5 nm 以下を 実現。最先端デバイス量産ラインの安定稼動に貢献します。 Performance Streamlign platform Employs Streamlign platform for improved accuracy and productivity 生産性と精度を大幅に向上した Streamlign Platform を採用 The NSR-S220D KrF scanner realizes throughput of more than 230 WPH and high accuracy of below 6 nm MMO. The extendible Streamlign platform contributes to stable volume manufacturing of multigenerational cutting-edge devices and to reducing the cost of ownership. NSR-S220D は、ス ル ー プ ッ ト 毎時230枚以上、装置間重 ね 合 わ せ 精度 6 nm 以下を実現した KrF スキャナーです。 拡張性のある Streamlign Platform は、複数世代にわたる先端デバイスの 安定量産と CoO（Cost of Ownership）低減に貢献します。 Performance Resolution 解像度 ≦ 38 nm NA NA Exposure light source 露光光源 ArF excimer laser (193 nm wavelength) Reduction ratio 縮小倍率 1:4 Maximum exposure field 最大露光範囲 Overlay 重ね合わせ精度 Throughput スループット CLASS 1 LASER PRODUCT 1.35 26 mm 33 mm ≦ 2 nm (SMO*1), ≦ 3.5 nm (MMO*2) ≧ 200 wafers/hour (125 shots) *1 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy 同一号機間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S622D#1 to S622D#1） *2 Mix and Match Overlay: machine-to-machine overlay accuracy 同一機種間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S622D#1 to NSR-S622D#2） クラス1レーザ製品 Resolution 解像度 NA NA ≦ 110 nm Exposure light source 露光光源 KrF excimer laser (248 nm wavelength) Reduction ratio 縮小倍率 1:4 Maximum exposure field 最大露光範囲 Overlay 重ね合わせ精度 Throughput スループット CLASS 1 LASER PRODUCT 0.82 26 mm 33 mm ≦ 3 nm (SMO*1), ≦ 6 nm (MMO*2) ≧ 230 wafers/hour (96 shots) *1 Single Machine Overlay: machine-to-self overlay accuracy 同一号機間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S220D#1 to S220D#1） *2 Mix and Match Overlay: machine-to-machine overlay accuracy 同一機種間の重ね合わせ精度 （例 NSR-S220D#1 to NSR-S220D#2） クラス1レーザ製品
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