液晶フォトレジスト用 PDF

ＭＥＩＷＡ
ＰＬＡＳＴＩＣ
ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ，ＬＴＤ．
フォトレジストベース樹脂用
明和化成のフォトレジストベース樹脂用ノボラックはお客様のニーズに合わした製品づくりを
行っております。また記載グレード以外もオーダーメイド対応しております。
分子量
項目
m/p比
DR
Å/s
Fe,Na
(ppb)
備考
80/20
2400～2900
3400～4600
0～200
〃
3800～4600
1700～2300
0～200
50/50
4700～5200
630～770
0～200
〃
5300～6400
430～580
0～200
〃
12000～15000
130～170
0～200
〃
16000～20000
85～115
0～200
40/60
3100～3800
950～1250
0～200
〃
5300～6400
280～380
0～200
〃
3700～4500
680～920
0～500
ダイマー５％
〃
4700～5700
340～460
0～500
ダイマー５％
記載数値は保証値ではありません。
2007．8
ＭＥＩＷＡ
ＰＬＡＳＴＩＣ
ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ，ＬＴＤ．
明和化成株式会社
〒755-0067　山口県宇部市大字小串1988番地の20
ホームページ　http://www.meiwakasei.co.jp
問い合わせ：営業部　TEL03-3503-0061　FAX03-3503-0065
当社製品は工業用化学製品です。家庭用には使用しないで下さい。
ご使用になる前には必ず製品安全データシート（MSDS）をご確認下さい。
特別な取扱をする場合は、用法に適した安全対策を実施の上、お取扱下さい。

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