Compact Ion Etching system コ ン パ ク ト イ オ ン エ ッ チ ン グ 参考出品 多 品種少量の除膜に対 応 し た 小 型 イ オ ン エ ッ チ ン グ 装 置 従来のシリーズに小型のラインナップを拡充 多品種少量の小径工具や金型向けの低価格機 超硬 除膜 特 長 ・全膜種（ダイヤモンド、 ＰＶＤ、 ＣＶＤ）の除膜に対応 ・除膜後も形状やシャープエッジを維持 ・表面のクリーニングやバリ取りにも適用可 仕 様 型 式 ： IE300 装 置 サ イ ズ ： W800×D1,200×H1,700mm 装 置 質 量 ： 約700kg 使 用 ガ ス ： Ar, O2 イ オ ン ガ ン ： 3基 最大消費電力 ： 10kW 主 電 源 ： 3相 200V 処理例 AlCrN 系 除膜後も形状やシャープエッジを維持！ er ft A e or ef B 【対応膜種】 カーボン系 ： ダイヤモンド (PCD), ダイヤモンドライクカーボン (DLC) 窒化物系 ： TiAlN, AlCrN, TiN, TiCrN, CrN etc. 産機システム事業部 PB･メカトロ部 〒665-0052 兵庫県宝塚市新明和町1-1 TEL：0798-54-1880 FAX：0798-54-1805 Email：[email protected] URL：http://www.shinmaywa.co.jp/pbp/ '16.6 K-5006
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