Strömungssimulation im Anwendungsbereich «Thermisches Spritzen»

Strömungssimulation im Anwendungsbereich
«Thermisches Spritzen»
ANSYS Conference & 20. Schweizer CADFEM Users’ Meeting – 10. September 2015
Helbling Technik
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CADFEM Usersmeeting 2015 | Strömungssimulation im Anwendungsbereich «Thermisches Spritzen»
erstellt: 10.09.2015 | WRE | CADFEMUsersmeeting_WRE_20150910
Inhalt
1. Was ist Thermisches Spritzen?
2. PS-PVD (Plasma Spraying – Physical Vapor Deposition)
3. Modellierungsansätze
4. Fazit / Nächste Schritte
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Was ist Thermisches Spritzen?
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Was ist Thermisches Spritzen?
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-
Chemical reaction
Electric arc
Heater
Laser
-
Abradables
Metals, Alloys
Ceramics
Carbides
-
Argon
Helium
Hydrogen
Hydrocarbons
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Was ist Thermisches Spritzen?
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-
Chemical reaction
Electric arc
Heater
Laser
-
Abradables
Metals, Alloys
Ceramics
Carbides
-
Argon
Helium
Hydrogen
Hydrocarbons
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Überblick
200 mm
 Thermischer Beschichtungsprozess
 Tiefe Umgebungsdrücke bis 1.5 mbar (abs)
 Plasmapistole 03CP mit zwei radialen Injektoren
 Beschichtung aus der Dampfphase
 Erzeugung von thermischen Schutzschichten (YSZ) mit
kolumnarem Aufbau
 Alternativprozess zum etablierten EB-PVD mit
folgenden Vorteilen:
 Höhere Auftragsraten
 Beschichtung auch auf schattierten Oberflächen
APS
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PS-PVD
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Aufgabenstellung
 Erweiterung des Prozessfensters beim PS-PVD
 Prozess nicht stabil genug für bestimmte Parameter
 Schichtaufbau des Spritzmaterials innerhalb der Düse
 Tränenbildung mit Tropfenabriss an Düsenaustrittskante
 Kritisch für die kommerzielle Beschichtung von Grossserien
Welche Effekte sind für dieses ungewünschte Phänomen
verantwortlich?
Numerische Simulation:
 trägt dazu bei, den Prozess besser zu verstehen.
 hilft, Einflüsse durch Geometrievariationen effizient zu analysieren.
 unterstützt die Entwickler bei der Lösungsfindung.
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Prozessparameter
Stationäre Betrachtung mit Ansys CFX
 3 Domains (Gas, Kathode, Umhüllende)
 Strukturiertes Hex-Gitter mit 5.8 mio Zellen
 Auf 24 Cores gerechnet
Plasma-Gasgemisch:
 35 slpm Argon
 60 slpm Helium
 10 slpm Wasserstoff
Trägergasfluss:
 32 slpm Argon (300K)
Pulvermenge:
 20 g/min YSZ (d32 = 10mm  d = 1.5mm)
Umgebungsdruck:
 1.5 mbar (abs)
Elektrische Leistung:
 2200 A / 52 V (114 kW)
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Elektrischer Lichtbogen
 Jakob’s Leiter
 Thermische Strahlung
Plasma-Strömung
Beeinflussung
 Ionisation
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
Partikelverhalten
 Partikelverdampfung
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Knudsen-Zahl als Kenngrösse
 Kontinuität nicht mehr gegeben.
 Elektrischer Lichtbogen
 Ionisation
 Jakob’s Leiter
 Navier-Stokes-Gleichungen ausserhalb der Düse
nicht mehr gültig.
Kn 

k BT

L
2 2 pL
Flow regime
Continuum Regime
Slip flow
Transition flow
Free Molecular flow
 Beschränkung der Simulations-Domain
 Thermische Strahlung
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
 Partikelverdampfung
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Knudsen number range
gas flows
< 0.01
0.01 - 0.1
0.1 - 2
>2
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Elektrischer Lichtbogen
 Ionisation
 Magneto-HydroDynamik
 Ohm’sche Gesetz
𝑗 = −𝜎 ∙ 𝑔𝑟𝑎𝑑 f
 Magnetische Potential
∆𝐴 = −𝜇0 ∙ 𝑗
 Magnetfeld
𝐵 = 𝑟𝑜𝑡 𝐴
 Lorentzkraft
𝐿= 𝑗𝑥𝐵
𝑗2
S=
𝜎
 Widerstandserwärmung
 Jakob’s Leiter
 Reale Stoffdaten der Gase als f(p,T)
 Thermische Strahlung
 Interpolationsfunktion
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
 Partikelverdampfung
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Instationäres Phänomen
 Lichtbogen bewegt sich aufgrund thermischer und
 Elektrischer Lichtbogen
 Ionisation
magnetischer Effekte
 Ansatzpunkt wandert entlang Anode
Cathode (-)
 Jakob’s Leiter
-+
 Thermische Strahlung
Anode (+)
 Ansatzpunkt durch künstliche Wärmequelle an
konstanter Position gehalten
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
 Partikelverdampfung
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Netto-Emissionsmodell als f(p,T)
 Strahlung als Energie-Senke modelliert
 Elektrischer Lichtbogen
 Skalierung aufgrund wandgeführtem Lichtbogen
 Ionisation
 Jakob’s Leiter
 Thermische Strahlung
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
 Partikelverdampfung
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Einige physikalische Effekte und deren Modellierung
 Tiefer Umgebungsdruck, hohe Temperaturen
 Elektrischer Lichtbogen
 Ionisation
 Anpassung des Widerstansdkoeffizienten cd für
sphärische Partikel als f(Re, Ma, Tp, T) über
UserFortran
 Anpassung des Nusselt-Zahl Nu für sphärische
Partikel als f(Re, Pr, Tp, T) über UserFortran
 Anpassung des Breakup-Modells für spontanen
Partikelzerfall für Tp > 300°C über UserFortran
 Jakob’s Leiter
 Anpassung des Massentransfer von mit
UserFortran
 Thermische Strahlung
 Partikeltransport und –erwärmung
 Partikelzerfall
 Partikelverdampfung
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Postprocessing
 Spontane Rekondensation im Fluid
 Keimbildung findet statt, wenn Partialdruck pYSZ
des verdampften Materials YSZ dessen
Dampfdruck pv,YSZ(T) massiv übersteigt.
 Werte für die Sättigung S > 106 kritisch
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𝑝𝑌𝑆𝑍
𝑆=
𝑝𝑣.𝑌𝑆𝑍 (𝑇)
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Postprocessing
 Spontane Rekondensation im Fluid
 Keimbildung findet statt, wenn Partialdruck pYSZ
des verdampften Materials YSZ dessen
Dampfdruck pv,YSZ(T) massiv übersteigt.
 Werte für die Sättigung S > 106 kritisch
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𝑝𝑌𝑆𝑍
𝑆=
𝑝𝑣.𝑌𝑆𝑍 (𝑇)
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Postprocessing
 Spontane Rekondensation im Fluid
 Keimbildung findet statt, wenn Partialdruck pYSZ
des verdampften Materials YSZ dessen
Dampfdruck pv,YSZ(T) massiv übersteigt.
 Werte für die Sättigung S >106 kritisch
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PS-PVD (Plasma Spraying - Physical Vapor Deposition)
Postprocessing
 = - 45°
Tc = 300 K
 = 0°
Tc = 300 K
 = 0°
Tc = 550 K
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 = + 45°
Tc = 300 K
 = 0°
Tc = 1300 K
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Fazit
 Thermische Spritzprozesse prädestiniert für numerische Analyse.
 Simulation des komplexen PS-PVD Prozesses erfolgreich durchgeführt.
 Wesentliche physikalische Effekte modelliert.
 Gute Übereinstimmung mit integralen Messgrössen.
 Einflüsse durch Parametervariation schnell und effizient abschätzbar.
 Nächste Schritte:
 Weitere Untersuchung von Parameter- und Geometrievariationen
 Fertigung von Prototypen
 Tests
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Danksagung
Dr. Malko Gindrat
Gruppenleiter «Technologie-Entwicklung»
Dr. Georg Mauer
Institut für Energie- und Klimaforschung (IEK-1)
Gruppenleiter «Thermische Beschichtungstechnik»
Stefan Rezanka
Institut für Energie- und Klimaforschung (IEK-1)
Doktorand «Thermische Beschichtungstechnik»
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Vielen Dank für Ihre Aufmerksamkeit!
Ihr Ansprechpartner
Reto Wäger
Berechnungsingenieur
Helbling Technik AG
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CH-5000 Aarau
Telefon +41 62 836 45 78
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