Qシリーズ仕様一覧表

■仕様一覧表
Q150
Q300
Q150T
概要
TMP
RP（ｵﾌﾟｼｮﾝ）
真空系
Q150R
Q300TT
内部組込み、70ℓ/sec、空冷
内部組込み、70ℓ/sec、空冷
無し
2段式、50ℓ/m、ｵｲﾙﾐｽﾄﾌｨﾙﾀ付き[13034]
5x10-5mbar
スパッタ真空度
-3
-2
-3
カーボン蒸着（抵抗加熱式）
機能・制御
真空蒸着、
アパーチャークリーニング
プロファイル
データログ
3x10 ～5x10 mbar
ピラニゲージ
・マグネトロンスパッタリング
・膜厚設定による制御（要膜厚計[ｵﾌﾟｼｮﾝ]）：
「FTM Terminated Sputter」
・内蔵タイマーによる時間制御：「Timed
Sputter」 (連続60分まで[放熱時間も含む]）
・スパッタ電流： 0～80mA
・ロッド向け：「Pulse Rod」, 「 Ramped carbon」
・ファイバー向け：「Controlled Pulse Cord」,
「Pulse Cord」
・パルス電流：1～90A
・ロッド向け：「Pulse Rod」
・ファイバー向け：「Controlled Pulse Cord」,
「Pulse Cord」
・パルス電流
：1～60A(for ﾌｧｲﾊﾞｰ)、1～90A(for ﾛｯﾄﾞ)
ハイブリッド仕様「-ES」
回転試料ステージ
カーボンロッド蒸着
カーボンファイバー蒸着
スパッタリング&カーボンロッド蒸着
スパッタリング&カーボンファイバー蒸着
CEマーキング
Arガス
設置条件
N2ガス
電源
消費電力
無し
無し
●スパッタリング
「FTM Terminated Sputter」、「Timed
Sputter」、「Process sequence」
●その他
「Vent chamber」、「Vacuum shutdown」
●スパッタリング
「FTM Terminated Sputter」、「Timed Sputter」
●その他
「Vent chamber」、「Vacuum shutdown」
100件
スパッタリング（インサート交換は不可）
スイングアーム付 4"ウエハステージ付属、
スピード可変
水平プラネタリ回転機構付き 8"ウエハステージ付属、スピード可変
QCM法、表示分解能：0.1nm
QCM法、表示分解能：0.1nm、デュアルヘッド
QCM法、表示分解能：0.1nm
カラーTFT、対角145mm、320x240pix
カラーTFT、対角145mm、320x240pix
ホウケイ酸ガラス、I.D150mmxH127mm、防爆ガード(PETｼﾘﾝﾀﾞｰ)付き
ホウケイ酸ガラス、O.D.300 (I.D.283)mmxH127mm、防爆ガード(PETｼﾘﾝﾀﾞｰ)付き
W585xD470xH410(最大650) mm
W585xD470xH410(最大650) mm
サイズ
梱包仕様(参考値、本体のみ)
3x10-2～5x10-1mbar
ピラニゲージ
・マグネトロンスパッタリング
・膜厚設定による制御（要膜厚計[ｵﾌﾟｼｮﾝ]）：
「FTM Terminated Sputter」
・内蔵タイマーによる時間制御：「Timed
Sputter」 (連続60分まで[放熱時間も含む]）
・スパッタ電流
： 0～80mA (ｼﾝｸﾞﾙﾀｰｹﾞｯﾄ)
： 60～240mA (ｵｰﾙﾀｰｹﾞｯﾄ)
50mmステージ付属、スピード可変（8～20rpm）
タッチパネル液晶
重量
5x10 ～5x10 mbar
ピラニゲージ（ｵﾌﾟｼｮﾝでﾌﾙﾚﾝｼﾞｹﾞｰｼ[10428]）
・マグネトロンスパッタリング
・マグネトロンスパッタリング
・膜厚設定による制御（要膜厚計[ｵﾌﾟｼｮﾝ]）：
・膜厚設定による制御（要膜厚計[ｵﾌﾟｼｮﾝ]）：
「FTM Terminated Sputter」
「FTM Terminated Sputter」
・内蔵タイマーによる時間制御：「Timed
・内蔵タイマーによる時間制御：「Timed
Sputter」 (連続60分まで[放熱時間も含む]）
Sputter」 (連続60分まで[放熱時間も含む]）
・スパッタ電流
・スパッタ電流： 0～150mA
： 1～140mA (ｼﾝｸﾞﾙﾀｰｹﾞｯﾄ)
・2元ターゲット（2元同時は不可）
： 60～420mA (ｵｰﾙﾀｰｹﾞｯﾄ)
・連続5層まで
スパッタリング
膜厚計(ｵﾌﾟｼｮﾝ)
チャンバー
2x10-2mbar
-2
無し
●スパッタリング
●スパッタリング
「FTM Terminated Sputter」、「Timed Sputter」「FTM Terminated Sputter」、「Timed Sputter」
●カーボン蒸着
●カーボン蒸着
「Pulse Rod」、「 Ramped carbon」、「Controlled 「Pulse Rod」、「Controlled Pulse Cord」、
Pulse Cord」、
「Pulse Cord」
「Pulse Cord」
●その他
●その他
「Vent chamber」、「Vacuum shutdown」、「Glow
「Metal evaporation」、「Aperture cleaning」、
Discharge」
「Vent chamber」、「Vacuum shutdown」、「Glow
Discharge」
10件
スパッタ仕様「-S」
蒸着仕様「-E」
-1
5x10 ～5x10 mbar
ピラニゲージ（ｵﾌﾟｼｮﾝでﾌﾙﾚﾝｼﾞｹﾞｰｼ[10428]）
・マグネトロンスパッタリング
・膜厚設定による制御（要膜厚計[ｵﾌﾟｼｮﾝ]）：
「FTM Terminated Sputter」
・内蔵タイマーによる時間制御：「Timed
Sputter」 (連続60分まで[放熱時間も含む]）
・スパッタ電流： 0～150mA
・バスケットまたは蒸着ボート（モリブデン）によ
る抵抗加熱式
・Upwards/Downwardの切替え可能
・蒸着時間：4分以下
無し
2段式、50ℓ/m、ｵｲﾙﾐｽﾄﾌｨﾙﾀ付き[13034]
2x10-2mbar
-1
Q300RT
・低真空タイプ
・トリプルスパッタターゲット（1元）
・大型試料向け
・貴金属系のみ
・高真空タイプ
・トリプルスパッタターゲット（1元）
・大型試料向け
・酸化しやすいターゲットも可能
5x10-5mbar
スパッタリング
一般仕様
Q300TD
・高真空タイプ
・デュアルスパッタターゲット（2元）
・最上位機種、マルチコーティング向け
・酸化しやすいターゲットも可能
到達真空度(typ.)
真空ゲージ
付属インサート
・低真空タイプ
・3モデル
（スパッタ / カーボン蒸着 / ハイブリッド）
・W-SEM向け
・貴金属系のみ
・高真空タイプ
・3モデル
（スパッタ / カーボン蒸着 / ハイブリッド）
・高分解能FE-SEM向け
・酸化しやすいターゲットも可能
34kg
29kg
37kg
W725xD660xH680mm、42kg
W725xD660xH680mm、37kg
W725xD660xH680mm、45kg
取得
・スパッタリング用（蒸着用途には不要）
・純度99.999%
・圧力：5psi (0.034MPa)
・使用量：3ℓ/min at 4psi （4分間のｽﾊﾟｯﾀ時間でで約0.2ℓ)
・付属のプラスティックチューブ（内径3mm x 外径6mm x L3m）に接続
・ベント用
・純度99.998%
・圧力：5psi (0.034MPa)
・使用量：3ℓ/min at 4psi （1回のベントで約4ℓ）
取得
・純度99.999%
・圧力：5psi (0.034MPa)
・付属のプラスティックチューブ（内径3mm x 外径6mm xL3m）に接続
・純度99.999%
・圧力：5psi (0.034MPa)
・付属のプラスティックチューブ（内径3mm x 外径6mm xL3m）に接続
90～250VAC、50/60Hz
90～250VAC、50/60Hz
1400VA（ﾛｰﾀﾘｰﾎﾟﾝﾌﾟ込み）
1400VA（ﾛｰﾀﾘｰﾎﾟﾝﾌﾟ込み）
（株）アド・サイエンス 1507
■ステージ一覧表
「◎」標準付属ステージ，「○」オプション
品名
型番
50mmステージ
10067
チルトステージ
備考
Q150
Q300TT, RT
Q300TD
ターゲット～試料ステージ距離：38～79mm（Q150）、25～71mm（Q300）
Φ15/Φ6.5mm試料台または1/8ピンスタブを6個搭載可
◎
○
○
10357
50mmステージのチルト対応タイプ。最大チルト角90度（手動）
ターゲット～試料ステージ距離：37～60mm（Q150）、14～60mm（Q300）
Φ15/Φ6.5mm試料台または1/8"ピンスタブを6個搭載可
○
○
○
スライドガラス用ステージ
10358
ステージサイズ：Φ90mm、スライドガラス（75×25mm）を2枚並べ置き可能（75×
50mm）
ステージを裏返すと、1/8"ピンスタブを6個搭載可
○
○
○
Rotacotaステージ
（プラネタリステージ）
10360
手動チルト化（水平～30°）、高さ調整不可、
Φ15/Φ6.5mm試料台または1/8"ピンスタブを6個搭載可。
（試料の高さによってロングチャンバーが必要な場合があります）
○
○
（ﾛﾝｸﾞﾁｬﾝﾊﾞｰが
必要）
4"ウエハステージ
10458
オフセットギアボックス付
○
4"ウエハステージ
10787
2" / 3" / 4" ウエハ対応
○
◎
6"ウエハステージ
10994
4" / 6" ウエハ対応、ターゲット～試料ステージ距離：25～71mm
○
○
8"ウエハステージ
10826
6" / 8" ウエハ対応
◎
○
（株）アド・サイエンス　1507
■インサート一覧表
「◎」標準付属ステージ，「○」オプション
インサート
スパッタリング
グロー放電
カーボンファイバー蒸着
型番
Q150R 向け
10587
Q150T 向け
10034
Q150R 向け
10262
Q150T 向け
10837
Q150R 向け
10355
Q150T 向け
10455
Q150R 向け
10879
Q150T 向け
Q150R
Q150R S
Q150R E
◎
Q150T
Q150R ES
Q150T S
Q150T E
Q150T ES
◎
○
◎
◎
○
○
○
◎
◎
○
○
10033
◎
◎
カーボンロッド（Φ6.15mm）蒸着
10456
○
○
真空蒸着＆アパチャークリーニング
10457
○
○
カーボンロッド（Φ3.05mm）蒸着
○
○
※カーボンロッドはΦ3.05mmが推奨されます。
10457はUpwards/Downwardsの切替えが可能です。タングステンフィラメント（10個）とモリブデンボートが付属します。
（株）アド・サイエンス　1507
■オプション一覧表
Q150
品名
型番
推奨度
Q300
備考
Q150T
Q150R
Q300TD
Q300TT
Q300RT
本体標準付属品、H127mm。予備、交換用。
○
○
○
○
○
グラスチャンバー
-
ロンググラスチャンバー
-
○
H214mm。
○
○
○
○
○
コーティング保護キット
-
△
製膜によるチャンバー内の汚れを防止するためのマスキングキッ
ト。
脱着が簡単でクリーニングが可能（Q150はロングチャンバー用も
○
○
○
○
○
L型真空ホースアダプタ
-
本体背面のRP接続用ホースアダプタ（ストレート）をL型に変更
奥行きが限られた設置環境に有効
○
○
○
○
○
-
-
○
○
○
○
○
-
○
○
-
-
○
-
-
緊急停止ボタン
11223
-
◎
水晶振動子マイクロバランス（QCM）法
デュアル膜厚計
10779
◎
2チャンネル膜厚計（Q300TDのみ）
水晶振動子
C5460
◎
FTM（10454）の消耗品
○
○
○
○
○
ロータリーポンプ
13034
◎
2段式、50L/m、オイルミストフィルタ、真空ホース、カップリング付
○
○
○
○
○
ダイヤフラムポンプ
11540
△
ロータリーポンプ代替（オイルフリー）
○
-
○
○
-
スクロールポンプ
20063
△
ロータリーポンプ代替（オイルフリー）
-
-
○
○
○
フルレンジ真空ゲージ
10428
○
-
○
○
-
膜厚計（Film Thiciness Monitor）
ピラニゲージ（標準付属）のアップグレード（要工場設置）
（株）アド・サイエンス　1507
■ターゲット一覧表
[全機種対応]
ターゲット
[TMP仕様のみ]　Q150TS/Q150TES/Q300TT/Q300TD
t(mm)
型番
ターゲット
0.1
SC502-314A
（Q150RS/Q150RES/Q300RT/Q300TD標準付属）
0.2
SC502-314A/0.2
0.3
TK8889
0.1
SC502-314B　（SC7620標準付属）
0.2
SC502-314B/0.2
0.3
TK8891
カーボン
0.1
SC502-314C
アルミニウム
0.2
SC502-314C/0.2
0.3
TK8893
銀
0.1
SC502-314E
パラジウム
0.1
銅
金
金/パラジウム（80/20）
プラチナ
プラチナ/パラジウム（80/20）
ニッケル
t(mm)
型番
0.1
SC502-314D
0.3
TK8845
（Q150TS/Q150TES/Q300TT/Q300TD標準付属）
1.5
TK8889
0.2
TK8867
0.5
TK8846
1.5
TK8869
1
TK8875
0.5
TK8895
1.5
TK8879
鉄
0.1
TK8897
SC502-314G
イリジウム
0.3
TK8899
0.1
SC502-314H
コバルト
0.1
TK8900
0.1
TK8878
錫
0.1
TK8902
0.3
TK8887
モリブデン
0.1
TK8903
マグネシウム
0.3
TK8905
タンタル
0.1
TK8906
3
TK8907
1）ターゲットはΦ57mm（もしくはΦ54mm）のディスク形状です
2）Q300TTには同種のターゲットが3枚必要です
3）50nm以上の厚膜コーティングにはt=0.2mm以上のターゲットをご利用ください
クロム
タングステン
チタン
ITO（90/10）
<試料前処理のためのターゲット選択>
●粒径サイズ：Au < Au/Pd < Pt < Cr < Ir
Cr
適正条件で製膜されたCrの粒径はPTよりも細かく、また安価のためFE-SEM観察に最適です
しかい酸化しやすい特性から高真空仕様のコーターが必須です。大気保管はできずコーティ
ング後すぐに観察する必要があり、再観察が必要なサンプルへの仕様は推奨できません。
Ir
Crと同等以下の粒径で、酸化もしません。
同じく高分解能観察向けに推奨されますが、ターゲットが高価になります。高真空仕様のコー
ターが推奨されます。
Pt
二次電子放射効率もよく、ロータリーポンプ仕様のスパッタコーターでは最も微細な
粒径が得られます。
Auと比較してスパッタレートは遅く、ターゲットが必要です
Au
SEM観察に最もよく使用されます。導電性に優れスパッタレートも早い反面、粒径が大きく主
にW-SEM向けです。
Pd
特に元素分析に適しています
Au/Pd Auよりも粒径が小さく、同様の特性を持ちます。
（株）アド・サイエンス　1507
■カーボン消耗品一覧表
品名
グレード
型番
Standard
C5241
（Q150RE/Q150RES標準付属）
カーボンファイバー（1m）
Fine
C5461
Standard
C5421-10
カーボンファイバー（10m）
Fine
C5461-10
Standard
C5421-100
カーボンファイバー（100m）
Fine
品名
員数
型番
カーボンロッド
（Φ3.05×300mm）
10本
C5422
（Q150TE/Q150TES標準付属）
カーボンロッド
（Φ6.15×100mm）
10本
A0830A
カーボンロッドシェーバー
1個
133232
（Q150TE/Q150TES標準付属）
C5461-100
（株）アド・サイエンス　1507

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