1.SiC
加熱機構
反応性
装置
温度分布
雰囲気中
装置
装置
加熱 出来
基板回転過熱機構及
加熱 出来 方式
幅広 実績 有
大型基板
対応可能
実施例
装置 広 使用
Φ "～Φ "迄シリーズ化されております。
基板加熱機構
加熱
及
対応可能
写真
Φ "円形基板用
Φ "～Φ "円形基盤用】
傾斜温度測定
温度傾斜
有
様御提供
加熱機構
高速昇温 降温加熱 最適
光源
加
超高真空中
反応
雰囲気中
装置
装置
容易
安価
特徴 有
迄対応可能です。
基板回転加熱機構及
使用 反射鏡 工夫
加熱 出来
真空
装置等 使
基板
Φ "～Φ "
実施例
加熱
加熱基板機構
nm固体
効率
温 必要
使用 光学系及 真空中
以上 加熱 行
出来
最適
光導入部 工夫 加
真空
装置他
高
実施例
全景
電源
加熱
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各種 BN タイプと特性

音の性質