洗浄 機および 付帯設備 小型基板洗浄機 Ecclear(エク

報道関係各位
2015 年 10 月 1 日
2015 年産業洗浄優秀新製品賞発表について
日本産業洗浄協議会
日本産業洗浄協議会(以下 JICC、東京都港区、会長:目黒弘)は来る 12 月 2 日(水)15 時
より東京ビッグサイトにて開催される 2015 洗浄総合展ワークショップにて「2015 年産業
洗浄優秀新製品賞」の発表および表彰式を行います。
JICC は産業洗浄に関する情報収集、調査、技術開発、研究、普及などを主な業務として、
1994 年 4 月に設立された協議会です。
産業洗浄優秀新製品賞(JICC Best New Product Award)は、工業部品洗浄にかかわる地球
環境保護および技術振興を図り、わが国産業の発展に寄与することを目的として 2015 年度
に設けられました。本年度は 2012 年 4 月以降に開発・商品化された新規性・独創性に富む
下記の新製品が選ばれました。
記
1.受賞製品(順不同)
分類
製品名
小型基板洗浄機
Ecclear(エクリア)
(ア)洗浄
機および
グリーンベーパー洗浄機
付帯設備 カプセル型洗浄機
SPC-030-C
ワンバス式真空洗浄乾燥機
HEARVY
残留異物自動測定器
GRAFINER(グラファイナ―)
(イ)洗浄
パインアルファ ST-251EVA
剤および
炭化水素系マイクロエマルショ
洗浄にか
かわる消
耗品
ン洗浄剤『NS クリーン M タイプ』
ノンハロゲン非引火性洗浄剤
「HA-IS16」
販売開始
会社名
年月日
2014 年 04 月 並木精密宝石(株)
2012 年 10 月 ジャパン・フィールド(株)
2012 年 07 月 ファインマシーン カタオカ(株)
2014 年 01 月 (株)クリンビー
2012 年 7 月
森合精機㈱
2014 年 06 月 荒川化学工業(株)
2013 年 09 月 JX 日鉱日石エネルギー(株)
2012 年 10 月 東ソー(株)
ネオスデタージェント4500LA
酸化性物質除去触媒「オルデト
ックス」
2013 年 10 月 ㈱ネオス
2015 年 04 月 オルガノ(株)
2.副賞
賞状および記念品
3.ロゴマークについて
産業洗浄優秀新製品賞を受賞した製品には、以下のロゴマークもしくはこのモノク
ロ表現を無料で使用することができます。
4.問い合わせ先
日本産業洗浄協議会(JICC)
【所在地】 〒105-0014 東京都港区芝 2-10-4(電巧社ビル 5F)
【電話】 03-3453-8165
【FAX】 03-3453-8167
【e-mail】 [email protected]
【URL】 http//www.jicc.org/
【事務局】執務時間:9 時 30 分~16 時 30 分(土・日祝祭日を除く)
以上
以降、配布文書外
Q&A
(その他)
5.想定 Q&A
(ア) 大賞はあるのか?→大賞は設けていません。
(イ) 一社からの応募件数は制限があったのか?→1 件/社までです。
(ウ) 応募数は?落選した製品はあったのか?→非公開とします。
(エ) 翌年再応募できるのか?→受賞製品は不可ですが、落選のものは再応募できます。
6.スケジュール
2015 年 10 月 1 日 対外発表および各社に受賞通知
10 月 20 日 技術委員会(盾および当日スケジュールについて)
10 月下旬
記念盾発注
12 月 2 日 洗浄総合展にて授賞式
7.授賞式次第
表彰および記念品授与:目黒会長、司会:山内、お手伝い:2 名(女性および天田)
15:00
会長挨拶
15:05~15:30 受賞製品紹介、賞状記念品授与
(15:30
2 分×10 商品概要紹介
商流セミナー)
8.収支概算予想内訳
(ア) 収入
①
申請費収入 5 千円×10 =
5 万円
②
2015 年度事業予算
5 万円
③
追加予算申請
10 万円
--------------------------------------------------------------------------------------------------合計
20 万円
(イ) 支出
①
2015 年度受賞マークデザイン料
②
2015 年度記念盾製作
③
2015 年度賞状作成、筒
5 万円
10 万円
1 万円
--------------------------------------------------------------------------------------------------合計
16 万円
以上