FPD露光装置総合カタログ2014-2015 ( PDF:0.99MB)

FX-101S
FPD 露光装置総合
Gen 10 Plate FPD Lithography System for Ultra-large Panel
Production
第10世代プレートサイズ対応
超大型パネルの生産に最適な FPD 露光装置
Key Features
特長
Multi-lens System
マルチレンズシステムを搭載
High Throughput
High throughput for ultra-large plate sizes is achieved using a wide exposure field coupled
with a high-speed stage. Two 60-inch wide panels can be exposed in a single scan.
高スループット
広い露光範囲と高速ステージにより、超大型プレートサイズにおいても高い
スループットを実現。露光範囲は一回のスキャン露光で60インチワイド
パネルを2面焼き付けることが可能。
2,880 mm × 3,130 mm プレートサイズの場合：
毎時270枚
（65インチワイドパネル）
毎時410枚
（60インチワイドパネル）
毎時810枚
（40インチワイドパネル）
2,880 mm × 3,130 mm plate size: 2 70 panels/hr (65-inch wide panel)
410 panels/hr (60-inch wide panel)
810 panels/hr (40-inch wide panel)
High Resolution
An excellent resolution of 3 μm (L/S) across the entire plate
High Alignment Accuracy
An accuracy of ±0.6 μm or less is achieved using simultaneous multi-point alignment
with the ultraprecise stage.
Improved Exposure Performance
100-8331 東京都千代田区丸の内3-2-3 富士ビル
www.nikon.co.jp/
NIKON CORPORATION
Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku,
Tokyo 100-8331, Japan
www.nikon.com/
100-8331 東京都千代田区有楽町1-12-1（新有楽町ビル）
www.nikon.co.jp/
NIKON CORPORATION
Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku,
Tokyo 100-8331, Japan
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Tokyo 100-8331, Japan
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高解像度
プレート全面で3 μｍ
（L/S）
の高解像度を実現。
高精度アライメント
多点同時アライメントの採用と高精度ステージにより、±0.6 μm以下を実現。
露光性能の向上
Performance
FX-101S
Resolution (L/S) (switchable)
解像度（L/S）
（切替可）
Projection magnification
投影倍率
Alignment accuracy
アライメント精度
Plate size
プレートサイズ
Takt time
タクトタイム
WARNING
3.5 µm (g+h+i-line), 3.0 µm (i-line) (option)
1:1
≦ ±0.6 µm
2,880 mm  3,130 mm
70 sec./plate
Conditions: 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2
TO ENSURE CORRECT USAGE, READ THE CORRESPONDING MANUALS CAREFULLY BEFORE USING YOUR EQUIPMENT.
All of the products in this brochure are under export restriction. The export of these products is controlled by Japanese Foreign Exchange and Foreign Trade and
International export control regime. They shall not be exported without authorization from the appropriate government authorities.
Performance and equipment are subject to change without any notice or obligation on the part of the manufacturer.
Products and brand names are trademarks or registered trademarks of their respective companies. March 2016
©2016 NIKON CORPORATION
NIKON CORPORATION
NIKON PRECISION TAIWAN LTD.
Shinagawa Intercity Tower C, 2-15-3, Konan, Minato-ku, Tokyo 108-6290, Japan
Tel: +81-3-6433-3641 Fax: +81-3-6433-3758
NIKON SINGAPORE PTE LTD.
FPD Lithography Business Unit
Sales Department
3F-1, 2, 3, 5 No. 28, Tai Yuen Street, Chu Pei City, Hsin Chu Hsien, Taiwan
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NIKON PRECISION EUROPE GmbH
Precision Division
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NIKON PRECISION KOREA LTD.
レーザ光
17-24 Singal-Dong, Giheung-Gu, Yongin-Si, Gyeonggi-Do, Korea
Tel: +82-31-288-5601 Fax: +82-31-288-5609
ビームをのぞきこまないこと
Max. 1mW CW He-Ne 633nm
クラス2 レーザ製品
安全に関するご注意
ご注意
■ご使用の前に「使用説明書」
をよくお読みの上、正しくお使いください。
本カタログに掲載した製品および製品の技術（ソフトウェアを含む）は「外国為替および外国貿易法」に定める規制貨物等（特定技術を含む）
に該当します。輸出する場合には政府許可取得等適正な手続きをお取りください。
・このカタログは2016年3月現在のものです。仕様と製品は、製造者側がなんら債務を被ることなく予告なしに変更されます。
・このカタログに掲載の会社名および商品名は各社の商標または登録商標です。
©2016 NIKON CORPORATION
http://www.nikon.co.jp/pec
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Printed in Japan 4CEJ-SUQH-10 (1603-0.6)T
2016-2017
FPD Lithography Systems
FX-68S
FX-66S2/66S
Gen 6 Plate FPD Lithography System
Delivering a High Resolution of 1.5 μm
第6世代プレートサイズ対応
1.5 μ m の高解像度を達成した FPD 露光装置
Gen 6 Plate FPD Lithography Systems
Delivering a Resolution of 3 μm with High Productivity
第6世代プレートサイズ対応
高生産性を実現した3 μ m 解像度 FPD 露光装置
The FX-68S supports the production of leading edge high-resolution smalland medium-sized panels from Gen 6 plates. The scanner method enables
improved productivity, excellent resolution and high alignment accuracy.
第6世代プレートによる最先端高精細中小型パネルの生産に対応。スキャ
The FX-66S2/66S supports the production of small- and medium-sized
panels from Gen 6 plates. With the high productivity and stable exposure
performance, the FX-66S2/66S enables the high volume production of
small- and medium-sized panels with a resolution of 3 μm or less (L/S).
第6世代のプレートによる中小型パネルの生産に対応した FPD 露光装置
ナー方式により、生産性向上と高解像度・高精度アライメントを同時に実
現しました。
Key Features
特長
Multi-lens System
High Resolution
In order to achieve higher resolution, we developed a new i-line projection lens and an
innovative correction system that takes advantage of our multi-lens system in large
plate exposure. In this correction system, the focal surface follows inclination changes
in a plate. This enables the high volume production of panels with a high resolution of
1.5 μm (L/S) in Gen 6 plates.
高解像度
高解像度化のために i 線の投影レンズを新規開発。さらにプレート面の傾
斜とその変化に対して焦点面を最適に追従させる画期的な補正システム
を開発搭載。これらにより第6世代プレートで1.5μ m（L/S）の高解像度で
の量産を実現。
高精度アライメント
位置計測の干渉計システムを新規設計し、計測精度と位置制御性能を上げ
ることにより高精度アライメントを実現。
High Alignment Accuracy
The new interferometer system for position measurement is designed to realize high
accuracy alignment by enhancing measurement accuracy and position control
performance.
高スループット
新開発の投影レンズとステージにより、第6世代プレートで4スキャンを
可能とし、高スループット
（毎時78プレート）
を実現。
High Throughput
With the new projection lens and stage, the FX-68S achieves high throughput of 78
plates per hour by enabling 4-scan on a Gen 6 plate.
特長
Key Features
マルチレンズシステムを搭載
高解像度
3.0μm
（L/S）
の高解像度を達成。
High Alignment Accuracy
Alignment accuracy is improved using simultaneous multi-point alignment with the
ultraprecise stage.
高精度アライメント
多点同時アライメントと高精度ステージにより、アライメント精度を向上。
Improved Exposure Performance
The FX-66S2/66S employs a variety of calibration functions developed utilizing our
unique technology and provides enhanced exposure performance stability.
FX-68S
Projection magnification
投影倍率
Alignment accuracy
アライメント精度
Maximum plate size
最大プレートサイズ
Takt time
タクトタイム
Performance
第6世代プレートによる中小型パネルの生産に対応。スキャナー方式により、
生産性向上と高解像度・高精度アライメントを同時に実現しました。
Key Features
Multi-lens System
High Throughput
高スループット
高解像度
2.0μm
（L/S）
の高解像度を達成。
High Resolution
Both models achieve a high resolution of 2.0 μm (L/S).
High Alignment Accuracy
Alignment accuracy is improved using simultaneous multi-point alignment with the
ultraprecise stage.
Improved Exposure Performance
The FX-67S2/67S employs a variety of calibration functions developed utilizing our
unique technology and provides enhanced exposure performance stability.
高精度アライメント
多点同時アライメントと高精度ステージにより、アライメント精度を向上。
露光性能の向上
独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、
総合的により安定した露光性能を実現。
Performance
FX-67S2
アライメント精度
最大プレートサイズ
Takt time タクトタイム
タクトタイム
1,500 mm  1,850 mm
53 sec./plate
Conditions: 1,500 mm  1,850 mm,
4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2
55 sec./plate
Conditions: 1,500 mm  1,850 mm,
4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2
FX-86SH2/86S2
Gen 8 Plate FPD Lithography Systems for Large Panel
Production
第8世代プレートサイズ対応
大型パネルの生産に最適な FPD 露光装置
The FX-86SH2/86S2 incorporates techniques from both the FX-67S, which
is ideal for high-definition panel production, and the FX-101S, which
supports ultra-large plates, enabling high-definition large panel production.
The FX-86SH2/86S2 achieves reduced takt time compared with previous
Gen 8 lithography systems. The FX-86SH2 also enables a high resolution of
2.2 μm.
高精細パネルの生産に適した FX-67S と、超大型プレートサイズに対応した
FX-101S の技術を融合し、高精細大型パネルの生産に対応。既存の第8世代
装置に比べて、タクトタイムを短縮しました。FX-86SH2では、2.2μm の
FX-67S
≦ ± 0.5 μm
57 sec./plate
Conditions: 1,500 mm  1,850 mm,
4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2
61 sec./plate
Conditions: 1,500 mm  1,850 mm,
4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2
高解像度
FX-86SH2では、2.2μ m
（L/S）
の高解像度を達成。
High Alignment Accuracy
The optimally designed measurement system, which incorporates an interferometer, has
led to improved measurement stability and a high alignment accuracy of ±0.5 μm.
Improved Exposure Performance
The FX-86SH2/86S2 employs a variety of calibration functions developed utilizing our
unique technology and provides enhanced exposure performance stability.
高精度アライメント
干渉計による位置計測システムを新たに最適設計したことにより計測安定
性が向上し、±0.5μ m の高精度アライメントを実現。
露光性能の向上
独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、
総合的により安定した露光性能を実現。
Performance
Resolution (L/S)
1,500 mm  1,850 mm
特長
高スループット
2,200 mm × 2,500 mm プレートサイズの場合：
毎時587枚
（46インチパネル）
毎時378枚
（55インチパネル）
High Resolution
The FX-86SH2 achieves a high resolution of 2.2 μm (L/S).
2.0 μm (g+h+i-line)
1:1
高解像度も実現しています。
マルチレンズシステムを搭載
Multi-lens System
High Throughput
2,200 mm × 2,500 mm plate size: 5 87 panels/hr (46-inch panels)
378 panels/hr (55-inch panels)
マルチレンズシステムを搭載
Maximum plate size
最大プレートサイズ
1:1
≦ ± 0.6 μm
Key Features
特長
Alignment accuracy Maximum plate size
46 sec./plate
Conditions: 1,500 mm  1,850 mm, 4 scans, 30 mJ/cm2
The FX-67S2/67S supports the production of small- and medium-sized
panels from Gen 6 plates. The scanner method enables improved
productivity, excellent resolution and high alignment accuracy.
投影倍率
アライメント精度
≦ ±0.35 µm
第6世代プレートサイズ対応
2 μ m の高解像度を達成した FPD 露光装置
解像度（L/S）
投影倍率
Alignment accuracy 3.0 μm (g+h+i-line)
1,500 mm  1,850 mm
Gen 6 Plate FPD Lithography Systems
Delivering a High Resolution of 2 μm
Projection magnification Projection magnification Takt time 1:1
FX-66S
解像度（L/S）
1.5 µm (i-line)
FX-67S2/67S
Resolution (L/S)
露光性能の向上
独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、
総合的により安定した露光性能を実現。
FX-66S2
Performance
解像度（L/S）
高スループット
High Resolution
Both models achieve a high resolution of 3.0 μm (L/S).
Resolution (L/S)
Resolution (L/S)
マルチレンズシステムを搭載
Multi-lens System
High Throughput
露光性能の向上
Improved Exposure Performance
です。高い生産性と安定した露光性能で、3 μ m（L/S）以下の解像度に
よる中小型パネルの量産を実現します。
解像度（L/S）
Projection magnification 投影倍率
Alignment accuracy アライメント精度
Maximum plate size
最大プレートサイズ
Takt time タクトタイム
FX-86SH2
FX-86S2
2.2 μm (g+h+i-line)
3.0 μm (g+h+i-line)
1:1
≦ ±0.5 μm
2,200 mm  2,500 mm
49 sec./plate
Conditions: 2,200 mm  2,500 mm, 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2

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