次のリンクは新しいウィンドウを開きます原薬合成用溶媒

原薬合成用溶媒
原薬製造工程において最終品位や収率に影響を及ぼす、水分、不揮発物及び有害性の高いベンゼ
ンを規格保証した高純度な溶媒をご用意いたしました。季節変動、ロット間差による品位のばらつ
きがないため、安心してご使用いただけます。医薬品原薬、中間体等の合成に是非ご検討ください。
特
長
適正な管理によりコンタミリスクを低減
低ベンゼン保証(1ppm 以下)
不揮発物、水分を低減した高純度溶媒
【保証項目】
酢酸エチル
ヘキサン
保証項目
規格値
保証項目
規格値
純度(GC)
99.5 %以上
純度(GC)
96.0 %以上
外観(ハーゼン)
10 以下
水分
0.01 % 以下
密度(20 ℃)
0.898 g/mL∼0.902 g/mL
不揮発物
2 ppm 以下
屈折率
1.370∼1.374
酸(CH3COOH として)
0.002 %以下
水分
0.02 % 以下
油脂
試験適合
不揮発物
2 ppm 以下
チオフェン類
試験適合
酸(CH3COOH として)
0.005 % 以下
ベンゼン(GC)
1 ppm 以下
ベンゼン(GC)
1 ppm 以下
硫酸着色物質
試験適合
エタノール(GC)
0.1 %以下
硫化物及び還元性物質
試験適合
メタノール(GC)
0.1 %以下
酢酸メチル(GC)
0.1 %以下
硫酸着色物質
試験適合
【製品リスト】
製
品
名
保証項目
酢酸エチル
特級
+
水分、不揮発物、ベンゼン
ヘキサン
特級
+
水分、不揮発物、ベンゼン
包 装
3L
15 kg
180 kg
3L
11 kg
130 kg
価格(\)
7,000
☆
5,500
☆
☆
製品番号
57600-76
57600-82
57600-84
57601-76
57601-82
57601-84
上記製品以外にも溶媒の各種カスタムメイドを承っております。ご要望の際は最寄りの弊社営業所までご連絡ください。
関連製品
残留溶媒試験用試薬
残留溶媒試験法は、医薬品中に存在する有機溶媒の量をガスクロマトグラフ法により定量し、その限界
値を超えて有機溶媒が医薬品中に存在しないことを確認するものです。従来、市販されている残留溶媒試
験用ならびに一般試薬のほとんどは、低沸点不純物が除去されておらず、GC チャート上で試薬由来の不純
物ピークと目的化合物のピークが重なるため使用できませんでした。
弊社の残留溶媒試験用試薬はメタノール等の低沸点不純物の含有量を低減し、残留溶媒適合性試験に
より品質を保証しています。
N,N-ジメチルホルムアミド GC ブランク例
【GC 測定条件】
pA
カラム
注入口温度 : 200℃
メタノール→
5
: DB-WAX(内径0.53mm, 長さ60m, 膜厚1μm)
スプリット比 : 5 : 1
カラム温度
: 40℃(0分)-3℃↑/分-100℃(0分)-10℃↑/分-230℃(7分)
試薬注入量 : 5μL
検出器
4
0
5
10
15
20
min
: FID
検出器温度 : 250℃
【製品リスト】
製品番号
製
品
名
10378-07
ジメチルスルホキシド
10344-07
25336-02
規
格
包 装
価格(\)
残留溶媒試験用
500 mL
5,800
N,N-ジメチルホルムアミド
残留溶媒試験用
500 mL
5,800
N-メチル-2-ピロリジノン
残留溶媒試験用
500 mL
8,000
2015.2