メインクリーンルーム装置名正担当者内線副担当者

メインクリーンルーム
装置名
パイロ酸化炉
水素アニール炉
Alエッチャー
STS ICP RIE#1
STS ICP RIE#2
ANELVA RIE#1
ANELVA RIE#2
FAB
イオン注入装置
P-TEOS CVD
EVGボンダ
YOUTECプラズマCVD
プラズマSiN-CVD
TEL LPCVD
DFR CONTACT ETCHER
エリプソメーター(CR)
接触式段差計
UV照射器
UHV-CVD
RTA#1
SiNエッチャー
O2アッシャー
微細電極形成装置
SiCN Cat-CVD
イオンビームミリング装置
ICP RIE ペガサスA
超臨界CO2乾燥装置
正担当者
鈴木(田中徹研:M2)
原島(田中徹研:D1)
谷川(田中徹研:D1)
池ヶ谷（田中徹研:M1)
中村（小野研:M2）
古林（末永研:研究員）
藩（小野研:D1）
Borriboon（羽根研:D3）
鈴木(田中徹研:M2)
小島(技術部)
福士（小野研:研究員）
谷川(田中徹研:D1)
橋口（田中徹研:D3)
木野(田中徹研:助教)
木野(田中徹研:助教)
池ヶ谷（田中徹研:M1)
後藤（田中徹研:M2)
鈴木(田中徹研:M2)
木野(田中徹研:助教)
菅原(田中徹研:D1)
池ヶ谷（田中徹研:M1)
鈴木(田中徹研:M2)
池ヶ谷（田中徹研:M1)
戸田（小野研:准教授）
小島（湯上研:M2)
島崎（小野研:M1）
佐藤（小野研:M2)
内線
6909
6909
6909
6909
5810
7281
5810
6965
6909
6256
6256
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
5810
6925
5810
5810
副担当者
菅原(田中徹研:D1)
木野(田中徹研:助教)
木野(田中徹研:助教)
菅原（田中徹研:D1)
島崎（小野研:M1）
菅原（田中徹研:D1)
内線副担当者
6909
6909
6909
6909
5810
6909
木野(田中徹研:助教)
渡辺（技術部）
鈴木（羽根研:M2）
菅原(田中徹研:D1)
6909
6256
6965
6909
原島(田中徹研:D1)
池ヶ谷(田中徹研:M1)
鈴木（田中徹研:M2）
木野（田中徹研:助教）
原島(田中徹研:D1)
橋口（田中徹研:D3)
木野(田中徹研:助教)
木野(田中徹研:助教)
菅原(田中徹研:D1)
木野(田中徹研:助教)
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
6909
内線
金属蒸着室
装置名
ANELVAスパッタ
JEOLスパッタ
EIKOスパッタ
DC対向ターゲットスパッタ
RF対向ターゲットスパッタ（大阪真空）
EB蒸着
RFスパッタ（Alスパッタ）
SHIBAURAスパッタ#1
SHIBAURAスパッタ#2
ECRスパッタ
4探針測定器
先端融合ウェハボンダ
正担当者
筏井（坂研:M1）
武田（桑野研:M2）
佐本（羽根研:研究員）
Kaushik（田中秀研:助手）
田中（田中秀研:教授）
柚木（田中秀研:研究員）
菅原(田中徹研:D1)
後藤（田中徹研:M2）
山田（小野研:M2）
原（桑野研:准教授）
谷川（田中徹研:D1)
Wang（田中秀研:D3）
内線
6898
4771
6965
6937
6937
6937
6909
6909
5810
4771
6909
6937
副担当者
松浦（坂研:M2）
大塚（桑野研:M1）
内線副担当者
6898 小桧山（湯上研:D2)
4771
中澤（羽根研:D1）
池ヶ谷（田中徹研:M1)
長井（小柳研:研究員）
6965
6909
4119 小島（技術部)
原島（田中徹研:D1)
平野（田中秀研:助教）
6256
6937
イエロールーム
装置名
レーザー描画装置
EVGアライナー
EVG接合用基板洗浄
EVGプラズマ表面活性化装置
2流体洗浄装置
ミカサ片面アライナー
HMDS処理装置
正担当者
原島（田中徹研:D1)
早坂（田中秀研:D2)
福士（小野研:研究員）
福士（小野研:研究員）
佐本（羽根研:研究員）
坂本（技術部）
坂本（技術部）
内線
6909
6937
6256
6256
6965
6256
6256
副担当者
内線副担当者
後藤（田中徹研:M2),池ヶ谷（田中徹研:M1)
6909 小島（技術部）
鈴木（田中徹研:M2)
6909
内線
6256
暗室
装置名
JEOL-EB
JEOL-SEM
正担当者
木野（田中徹研:助教）
木野（田中徹研:助教）
内線
6909
6909
副担当者
池ヶ谷（田中徹研:M1)
池ヶ谷（田中徹研:M1)
内線
内線副担当者
6909
6909
内線
6925
6256
レーザー加工室
装置名
YAGレーザー
薄膜評価装置
パレリン蒸着
MBE
ホール効果測定装置
PL測定装置
PLD
正担当者
薛（小野研:D2）
小島(技術部）
浅尾（田中秀研:研究員）
田村（羽根研:D3）
田村（羽根研:D3）
平野（田中秀研:助教）
早坂（田中秀研:D2）
内線
5810
6256
6937
6965
6965
6937
6937
副担当者
内線副担当者
羽根（羽根研:教授）
6965
佐本（羽根研:研究員）
長谷川（田中秀研:B4)
6965
6937
分析室
装置名
FE-SEM
熱電子SEM
FIB
SIMS
蛍光X線膜厚計
マルチターゲットスパッタ
急冷機構付真空加熱装置
正担当者
渡辺（技術部）
Nurasyikin（小野研:B4）
廣本（桑野研:M2）
小島（技術部）
小島（技術部）
Tsai（小野研:助手）
小林（芳賀研;D3)
内線
6256
6937
4771
6256
6256
5810
5251
副担当者
小桧山（湯上研:D2)
内線副担当者
6925 小島（技術部）
清水(康)（桑野研:M1）
4771
光学測定室
装置名
紫外分光エリプソメーター
XeF2エッチャー
光パラメトリック発信器
マルチチャンネル分光器
ASTeXプラズマCVD
赤外接合評価装置
フェムト秒レーザ
光造形装置
断面試料作製研磨装置
断面試料作製ミリング装置
圧縮引張試験機
正担当者
小島（技術部）
伊藤（芳賀研:研究員）
佐々木（羽根研:助教）
佐々木（羽根研:助教）
朱（小野研:M2)
小島（技術部）
松永（芳賀研:助教）
松永（芳賀研:助教）
渡辺（技術部）
渡辺（技術部）
田中（田中秀研:教授）
内線
6256
5251
6965
6965
5810
6256
5251
5251
6256
6256
6937
副担当者
内線副担当者
福士（小野研:研究員）
6256
小島（技術部）
小島（技術部）
6256
6256
内線
内線
6256
内線
組立評価室
装置名
めっきセット#1
めっきセット#2
ハイポスHIPOS
レーザードップラー振動計
紫外線露光装置
8.5GHzインピーダンスアナライザー
屈折率測定装置
ワイヤボンダ
14GHzネットワークアナライザー
プローバー
インピーダンスアナライザー
半導体パラメータアナライザ
ウェハプローブステーション
LSIテスタ
正担当者
坂本（技術部）
坂本（技術部）
Imran（小野研:M2）
Imran（小野研:M2）
原（桑野研:准教授）
門田（田中秀研:客員教授）
佐々木（羽根研:助教）
鈴木（田中秀研:M1)
平野（田中秀研:助教）
石川（田中秀研:助手）
松本（芳賀研:M2)
室山（田中秀研:准教授)
石川（田中秀研:助手）
室山（田中秀研:准教授)
内線
6256
6256
5810
5810
4771
6937
6965
6937
6937
6256
5251
6937
6256
6837
副担当者
佐藤（田中秀研:M1）
佐藤（田中秀研:M1）
内線副担当者
6937
6937
内線
石川（田中秀研:助手）
6256 宮口（田中秀研:研究員）
6937
宮口（田中秀研:研究員）
6937
宮口（田中秀研:研究員）
6937
電気実験室
装置名
基板加工装置
旋盤
ボール盤
フライス盤
正担当者
石川（田中秀研:助手）
田中(康）（田中秀研:D1）
田中(康）（田中秀研:D1）
田中(康）（田中秀研:D1）
内線
6256
6937
6937
6937
副担当者
内線副担当者
塚本（田中秀研:助教）
塚本（田中秀研:助教）
塚本（田中秀研:助教）
6937
6937
6937
3階実験室
装置名
研磨装置
ポリテック
全真空顕微FTIR
フリップチップボンダ
研削装置
ポリテック　高周波レーザードップラ計
紫外可視近赤外分光光度計
レーザダイサー
接合力評価装置
インピーダンス/マテリアルアナライザ
正担当者
小島（技術部）
猪股（小野研:助教）
小島（技術部）
福士（小野研:研究員）
塚本（田中秀研:助教）
平野（田中秀研:助教）
小島（技術部）
福士（小野研:研究員）
平野（田中秀研:助教）
大内（芳賀研:M2)
内線
6256
5810
6256
6256
6937
6937
6256
6256
6937
5251
副担当者
Feng(桑野研:D1)）
小島（技術部）
戸田（小野研:准教授）
小桧山（湯上研:D2）
内線副担当者
4771
6256
5810
6925
田中（田中秀研:教授）
田中（田中秀研:D2）
田中（田中秀研:教授）
浅野（田中秀研:D1）
6937
6937
6937
6937
内線
内線
ナノマシニング棟
装置名
JEOL EB 5000LSS
縮小カメラ・現像
ESCA分析装置
走査型プローブ顕微鏡Ｏｌｙｍｐｕｓ
走査型プローブ顕微鏡Shimazu
ホットフィラメントCVD
投影露光装置
PE-CVD（CNTs）
レーザードップラー振動計
マスクレス露光装置
レーザー描画装置
UHV-STM&AFM
簡易マスク作製装置
パターンジェネレーター
正担当者
橋田（羽根研:M2）
猪股（小野研:助教）
小島（技術部）
吉田（田中秀研:准教授）
吉田（田中秀研:准教授）
吉田（田中秀研:准教授）
小島（技術部）
安（小野研:D3）　山上（小野研:B4）
戸津（西澤センター:准教授）
小島（技術部）
小野（小野研:教授）
室山（田中秀研:准教授）
小島（技術部）
内線副担当者
6965 Kaushik（田中秀研:助手）
5810
6256 田中(康）（田中秀研:D2）
6937
6937
6937
6256
5810
5810
229-4113
6256 渡辺（技術部）
5810 吉田（田中秀研:准教授）
6937
6256
内線副担当者
6937
6256 武田（桑野研:M2）
6937
4771
フロンティア棟
装置名
ダイサー
正担当者
廣本（桑野研:M2）
内線
4771
副担当者
清水（優）（桑野研:M1）
内線副担当者
4771 Tsai（小野研:助手）
内線
5810
量子
装置名
全自動多目的X線回折装置
正担当者
小島（技術部）
内線
6256
副担当者
山本（渡辺研:M1）
内線副担当者
7911 西澤（田中秀研:M1）
内線
6937
内線
6937

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