光触媒式腐食性ガス分解装置エアプリフ ® 光触媒式腐食性ガス分解装置 AIRPURIF CLシリーズ仕様用途密閉構造の配電盤内に侵入した腐食性ガスを分解することで、電子機器の腐食による誤動作及び劣化を防止し、機器の延命化に役立ちます。 CL110 CL400 AC100V AC100V 品番定格入力電圧（許容電圧範囲：AC85∼264V）（許容電圧範囲：AC85∼121V） 50/60Hz（周波数許容範囲：47-63Hz）定格周波数特長 1.独自開発の光触媒フィルタにより、優れたガス分解性能を発揮。 2.水洗いと天日干しにより、光触媒フィルタのガス分解能力が回復。 3.フィルタ交換不要な為、環境に優しく地球に優しい。強：4 5 V A 省エネ：2 6 V A 13VA以下消費電力商用周波数（50/60Hz）：AC1500V 1分間絶縁耐力 DC500V 50MΩ以上絶縁抵抗 DC500V 100MΩ以上動作周囲温度 0∼50℃ 湿度 30∼85%RH（ただし結露なきこと）適用腐食性ガス・硫化水素（H2S）・二酸化硫黄（SO2）・窒素酸化物（NOx）導入の目安 8.3kg 1.3kg 質量強：1.3m3/分約0.3m3/分風量省エネ：1.0m3/分 CL110フィルタ年間洗浄回数 3 盤容積 C 光触媒式腐食性ガス分解装置ガス分解装置盤外気 H 2S 濃度 0.5m 0.2m 3 1.0m 換気回数 0.05回/h 0.1回/h 500ppb 2回/年 4回/年 400ppb 2回/年 3回/年 6回/年 300ppb 1回/年 2回/年 5回/年 3回/年 6回/年 200ppb 1回/年 2回/年 3回/年 5回/年 2回/年 4回/年 100ppb 1回/年 1回/年 2回/年 2回/年 1回/年 2回/年 4回/年 6回/年 2回/年 4回/年 50ppb 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 2回/年 3回/年 1回/年 2回/年 0.2回/h 0.3回/h 0.05回/h 0.1回/h 0.2回/h 0.3回/h 0.05回/h 0.1回/h 0.2回/h 0.3回/h 4回/年 6回/年 5回/年 4回/年 6回/年 4回/年 CL400フィルタ年間洗浄回数 3 盤容積盤外気 H 2S 濃度 3 1.0m 1.5m 2.0m 0.2回/h 換気回数 0.05回/h 0.1回/h 0.2回/h 0.05回/h 0.1回/h 500ppb 1回/年 2回/年 4回/年 2回/年 3回/年 300ppb 1回/年 1回/年 3回/年 1回/年 2回/年 4回/年 100ppb 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 50ppb 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年 3 0.2回/h 0.05回/h 0.1回/h 2回/年 4回/年 1回/年 3回/年 5回/年 1回/年 1回/年 1回/年 2回/年 1回/年 1回/年 1回/年 1回/年上記表は､各適用容積・外気濃度･換気回数別にCLシリーズの装置性能を維持する為に必要となる年間あたりの水洗浄回数を示す｡洗浄回数3回以上は､台数を増やすことをお薦めします｡例：換気回数0.1回/hとは､対象空間の空気が､1時間で10%の外気と入れ替わることを示す｡ CL400（盤内組み込みタイプ）特長 1.19インチラックサイズ。 2.長寿命・特殊ランプを採用。 3.フィルタ、ファン、ランプは全てユニット式で取り外し簡単。 4.3つの運転モード（［強］・［標準］・［省エネ］）を選択可能。注：CL400は連続運転2∼3年に1回ランプ交換が必要です。硫化水素（H2S） 210 230 600 12 6 22 3 R 500 300 482 460 65 濃度（ppb） 20 400 375 ●● ●● 運転停止 ● ●● ●● ●−● ●● 100 144 200 100 0 0 2 4 6 時間（分） 8 容積1ｍ3における浄化曲線 C-83 3 ※この製品の仕様は改良のため予告なく変更する場合があります。 10