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廣沢 友二, Yuuji Hirosawa
主にドライエッチング装置、スパッタ装置、P-CVD装置
を担当しています。
自己PR:大学では化学を専攻してましたが卒業後、真空
装置メーカーに就職しフィールドエンジニアとして6年間、
真空装置各種機器、真空ポンプのメンテナンス、修理、
改造業務に携わりました。
2014年4月よりNPFスタッフの一員としてドライエッチング装置、スパッタ装
置、CVD装置の技術支援業務をしています。
担当装置:RIE(反応性イオンエッチング装置)、多目
的エッチング装置、酸化物エッチング装置、RF・DC
スパッタ装置、多元同時スパッタ装置、プラズマ
CVD装置、分光エリプソメータ
左のSEM画像は当施設のドライエッチング装置であ
るICP-RIE装置(多目的エッチング装置)にて、実際に
50μmエッチングした際のサンプルです。