廣沢 友二, Yuuji Hirosawa 主にドライエッチング装置、スパッタ装置、P-CVD装置 を担当しています。 自己PR:大学では化学を専攻してましたが卒業後、真空 装置メーカーに就職しフィールドエンジニアとして6年間、 真空装置各種機器、真空ポンプのメンテナンス、修理、 改造業務に携わりました。 2014年4月よりNPFスタッフの一員としてドライエッチング装置、スパッタ装 置、CVD装置の技術支援業務をしています。 担当装置:RIE(反応性イオンエッチング装置)、多目 的エッチング装置、酸化物エッチング装置、RF・DC スパッタ装置、多元同時スパッタ装置、プラズマ CVD装置、分光エリプソメータ 左のSEM画像は当施設のドライエッチング装置であ るICP-RIE装置(多目的エッチング装置)にて、実際に 50μmエッチングした際のサンプルです。
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