2C1-16 耐プラズマエッチング性石英ガラス New Silica Glass for Plasma Etching Processes 特 長 Features プラズマに対して高耐久性 High durability for Plasma etching 従来の石英ガラスと同様な物理的特性を持ち、耐プラズマ性をおよそ50％向上させた石英ガラスです。 Comparing with the traditional Quartz Glass,this new developed material has almost the same physical properties and has approximately 50% improved for its plasma etched durability. 開発品 New material 通常石英ガラス Clear fused silica 条件 condition 3.7 3.7 500MHz 誘電率 dielectric constant 誘電正接（tanδ） dielectric loss angle プラズマエッチング速度 plasma etched speed −4 −4 ＜1×10 ＜1×10 50nm/min 100nm/min 500MHz CF4＋O2 gas 形 状 Shape リング、プレート、窓（８”プロセス用） Ring,Plate,Window(8”process) 用 途 Applications CVD・ドライエッチング・アッシング工程等に使用されるプラズマ反応装置のフォーカスリング、 シールドリング、ウィンドウなど Focus ring,Shield ring or Window of plasma reacting equipment for CVD ,Dry Etching or Ashing process. 効 果 Advantage 低いエッチング速度により、パーティクルの発生の抑制と長寿命化を達成 Low etching rate leads to Low particle generation and Longer life time. お問い合わせ先：信越石英株式会社 第3事業部 TEL.03-3348-1911 FAX.03-3348-4919 For business contact:Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd.Division-3
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