スライド 1

モスハイジ成形品について
半導体製造でCMP廃水が発生します
研磨スラリー
シリコン
ウェーハ
カッター
単
結
晶
表面研磨
CMP廃水(シリカ超微粒子)が発生する
CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学機械研磨)
CMP廃水処理システム
モスハイジ法
従来法
モスハイジによるCMP廃水処理
高分子凝集剤によるCMP廃水処理
CMP廃水(シリカ超微粒子)
CMP廃水(シリカ超微粒子)
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高分子凝集剤
高強度モスハイジ成形品
ろ過材
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ろ過水・多い
ろ過水・ 少ない
超微粒子はフロック化し容易に除去、
ろ過水のリサイクルが可能。
超微粒子は凝集しにくく、ろ過材
の細孔に詰まり、ろ過が難しい。
モスハイジの微粒子凝集性能
CMP廃水(シリカ超微粒子)
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モ
ス
ハ
イ
ジ
吸着
自己凝集
高強度モスハイジ成形品による
カオリンコロイド分散廃水の凝集沈殿効果
モスハイジ処理後
(カオリンコロイド分散廃水)
処理前
(カオリンコロイド分散廃水)
注)カオリン: シリカ主成分の超微粒子粘土鉱物で水中でコロイド分散する。