モスハイジ成形品について 半導体製造でCMP廃水が発生します 研磨スラリー シリコン ウェーハ カッター 単 結 晶 表面研磨 CMP廃水(シリカ超微粒子)が発生する CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学機械研磨) CMP廃水処理システム モスハイジ法 従来法 モスハイジによるCMP廃水処理 高分子凝集剤によるCMP廃水処理 CMP廃水(シリカ超微粒子) CMP廃水(シリカ超微粒子) ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● 高分子凝集剤 高強度モスハイジ成形品 ろ過材 ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ↓ ろ過水・多い ろ過水・ 少ない 超微粒子はフロック化し容易に除去、 ろ過水のリサイクルが可能。 超微粒子は凝集しにくく、ろ過材 の細孔に詰まり、ろ過が難しい。 モスハイジの微粒子凝集性能 CMP廃水(シリカ超微粒子) ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● モ ス ハ イ ジ 吸着 自己凝集 高強度モスハイジ成形品による カオリンコロイド分散廃水の凝集沈殿効果 モスハイジ処理後 (カオリンコロイド分散廃水) 処理前 (カオリンコロイド分散廃水) 注)カオリン: シリカ主成分の超微粒子粘土鉱物で水中でコロイド分散する。
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