プログラム

Technical Program
NGL WS
2015
Oral Presentations 1
Monday 6 July ― Kuramae Hall
Openning
10:00
次世代リソグラフィ技術研究会委員長挨拶
Openning Remarks by the Chairman of the NGL Research Committee
石原直（東大）
Sunao Ishihara (UTokyo)
Plenary Presentations
Session Chair: Sunao Ishihara (UTokyo)
10:05
シリコンフォトニクスとSi-CMOSプロセス
Silicon Photonics and Si-CMOS Process
最上徹（PETRA）
Toru Mogami (PETRA)
10:45
Industrialization of EUV Lithography: progress update
森崎健史（ASML-J）
Kenji Morisaki (ASML-J)
―　Coffee Break　―
11:25
Optical Lithography & Multiple Patterning Technology
Session Chair: Masato Hiroshima (Toshiba)
11:40
側壁マルチパターニングのレイアウト設計手法
Self-aligned Multiple Patterning-aware Routing
中嶌史晴、児玉親亮、中山幸一、野嶋茂樹、小谷敏也（東芝）
Fumiharu Nakajima, Kodama, Koichi Nakayama, Shigeki Nojima, and Toshiya Kotani (Toshiba)
12:05
7nmノードに向けたマルチパターニングの開発状況
Recent Progress in Multi-patterning Towards 7nm Node
八重樫英民（東京エレクトロン）
Hidetami Yaegashi (TOKYO ELECTRON)
12:30
階層ベイズモデルを用いたOPC
Optical Proximity Correction with Hierarchical Bayes Regression
松縄哲明1、Bei Yu2、David Z. Pan2（東芝1、テキサス大2）
Tetsuaki Matsunawa1, Bei Yu2, and David Z. Pan2（Toshiba1, Univ. Texas2）
12:55
― Lunch Break　―
Directed Self-Assembly （DSA）
Session Chair: Noriyuki Hirayanagi (Nikon)
14:10
COOL プロセスを用いたDSAによるサブ15nmラインパターニング
Sub-15nm Line Patterning using DSA with Coordinated Line Epitaxy (COOL) Process
笠原佑介、清野由里子、佐藤寛暢、小林克稔、金井秀樹、宮城賢、峯岸信也、久保田仁
小寺克昌、木原尚子、戸花敏勝、白石雅之、野村聡、川門前善洋、東司（EIDEC）
Yusuke Kasahara, Yuriko Seino, Hironobu Sato, Katsutoshi Kobayashi, Hideki Kanai, Ken Miyagi, Shinya Minegishi, Hitoshi Kubota
Katsuyoshi Kodera, Naoko Kihara, Toshikatsu Tobana, Masayuki Shiraishi, Satoshi Nomura, Yoshiaki Kawamonzen, and Tsukasa Azuma (EIDEC)
14:35
半導体自己組織化（DSA）技術の応用状況レビューと将来デバイスへ向けたチャレンジ
Review of DSA Application for Semiconductor Devices and the Challenge Toward Future Devices
永原誠司（東京エレクトロン）
Seiji Nagahara (TOKYO ELECTRON)
15:00
Sub-10 nm 垂直配向ラメラ構造の形成に向けたブロック共重合体の設計
Block Copolymer Design For Perpendicular Orientated Lamellar Structures with Sub-10 nm Features
早川晃鏡（東工大）
Teruaki Hayakawa (Tokyo Tech)
―　Coffee Break　―
15:25
15:40 - 18:10
Poster Presentations
Poster Session A - Royal Blue Hall
Poster Session B - Kuramae Hall
Oral Presentations 2
Tuesday 7 July ― Kuramae Hall
Extreme Ultraviolet Lithography（EUVL）
Session Chair: Toshiro Itani (EIDEC)
9:30
EUVリソグラフィ研究事始め
Early Stage of EUVL Development
木下博雄（兵県大）
Hiroo Kinoshita （Univ. Hyogo）
9:55
半導体量産用高出力ＬＰＰ－ＥＵＶ光源の開発の最新状況
Update of High Power LPP-EUV Source Development for High Volume Semiconductor Manufacturing
溝口計（ギガフォトン）
Hakaru Mizoguchi (GIGAPHOTON)
10:20
ERL-FELをベースにした大強度EUV光源開発の検討
Feasibility Study on High Power EUV Light Source Based on ERL-FEL
河田洋（高エ研）
Hiroshi Kawata (KEK)
10:45
EUV量産に向けたTrackプロセスの最新状況
The Latest Status of Track Process Toward EUV High-volume Manufacturing
園田明弘（東京エレクトロン）
Akihiro Sonoda (TOKYO ELECTRON)
11:10
―　Coffee Break　―
E-Beam, Metrology & Mask Technology
Session Chairs: Shoji Hotta (Hitachi) and Morihisa Hoga (DNP)
11:25
インライン測定器の測定ロバスト性改善に向けて
Robustness Improvement of Inline Metrology System
阿部秀昭（東芝）
Hideaki Abe (Toshiba)
11:50
TEMおよびCD-SEM画像によるFinFETの形状測定
Line Profile Measurement of FinFET Features by TEM and CD-SEM Images
高増潔（東大）
Kiyoshi Takamasu (UTokyo)
12:15
電子線リソグラフィにおけるSub-10nmパターン形成の分子動力学解析
Molecular Dynamics Study of Sub-10 nm Pattern Formation in Electron Beam Lithography
安田雅昭（大府大）
Masaaki Yasuda (Osaka Pref. Univ.)
12:40
Progress of Electron Multi-Beam Technology for Mask Writing
Hans Loeschner (IMS-NF)
―　Lunch Break　―
13:05
Nanoimprint Lithography（NIL）
Session Chair: Hiroshi Hiroshima (AIST)
14:05
サブ20nmの直径を有する炭素被覆モールド空隙への光硬化性組成物の充填挙動
Filling Behaviors of UV-curable Resins into Carbon-coated Mold Cavities with Sub-20nm Diameters
中川勝、中谷顕史、廣芝伸哉（東北大）
Masaru Nakagawa, Akifumi Nakaya, and Nobuya Hiroshiba (Tohoku Univ.)
14:30
半導体製造用ナノインプリントシステム
Nanoimprint Systems for High-volume Semiconductor Manufacturing
酒井啓太（キヤノン）
Keita Sakai (CANON)
14:55
ナノインプリントを用いたデバイス試作とナノ欠陥技術への挑戦
Device Fabrication using Nanoimprint Lithography　and Challenges for Nano Defect Management Technology
東木　達彦（東芝）
Tatsuhiko Higashiki (Toshiba)
15:20
ＮＩＬテンプレートの量産適用に向けた開発状況
HVM Readiness of Nanoimprint Lithography Templates: Defects, CD, and Overlay
市村公二、栗原正彰、林直也（DNP）
Kouji Ichimura, Masaaki Kurihara, and Naoya Hayashi (DNP)
15:45
16:00 - 17:45
18:00
―　Coffee Break　―
Panel Discussion
7nmノード（hp15nm）以降に向けた次世代リソグラフィ技術
Next Generation Lithography Technology for sub-7nm Node/hp 15nm beyond
Moderators
堀田尚二（日立）、廣島雅人（東芝）、藤井清（ルネサス）
Shoji Hotta (Hitachi), Masato Hiroshima (Toshiba), and Kiyoshi Fujii (RSMC)
Advisor
岡崎　信次（ギガフォトン）
Shinji Okazaki (GIGAPHOTON)
Poster Sessions A
NGL WS
2015
15:40-18:10, Monday 6 July ― Royal Blue Hall
Optical Lithography & Multiple Patterning Technology
マスク位置ずれに対する耐性を持つLELECUTトリプルパターニングのためのマスク割り当て手法
P1
Mask Assignment with Tolerance for Misalignment in LELECUT Triple Patterning
小平行秀1、児玉親亮2、松井知己3、高橋篤司3、野嶋茂樹2、田中聡2（会津大1、東芝2、東工大3）
1
2
Yukihide Kohira , Chikaaki Kodama , Tomomi Matsui3, Atsushi Takahashi3, Shigeki Nojima2, and Satoshi Tanaka2 (Univ, Aizu1, Toshiba2, Tokyo Tech3)
クラスタリングアルゴリズムを用いた高速照明最適化
P2
Fast Source Optimization by Clustering Algorithm
1
1
2
2
2
2
1
1
2
多和田雅師、柳澤政生、橋本隆希、坂主圭史、野嶋茂樹、小谷敏也、戸川望（早大、東芝）
1
1
2
2
2
2
1
1
2
Masashi Tawada , Masao Yanagisawa , Takaki Hashimoto , Keishi Sakanushi , Shigeki Nojima , Toshiya Kotani , and Nozomu Togawa (Waseda Univ. , Toshiba )
マルチパターニング露光装置対応のハイパワーArFエキシマレーザの開発
P3
Development of High Power ArF Excimer Laser Supporting the Next Generation Multiple-patterning Lithography
柿崎弘司（ギガフォトン）
Koji Kakizaki (GIGAPHOTON)
バーチャル・アベレーションによるマスク3D効果とレジスト効果のモデル化
P4
Simplified VA(Virtual Aberration) Model to Simulate Mask 3D and Resist Effects
金谷玲二1、藤井光一1、今井基勝1、松山知行1、都築隆夫1、Qun Ying LIN2　(ニコン1、IME2)
1
1
Reiji Kanaya , Koichi Fujii , Motokatsu Imai1, Tomoyuki Matsuyama1, Takao Tsuzuki1, and Qun Ying LIN2 (Nikon1, Institute of Microelectronics2)
7nm node世代に向けた液浸露光技術の取り組み
P5
Recent Progress of Immersion Lithography for 7nm Nodes
疋田雄二朗、舩津貴行、河野博高、柴崎祐一（ニコン）
Yujiro Hikida, Takayuki Funatsu, Hirotaka Kono, and Yuichi Shibazaki (Nikon)
高NA結像における空間像強度シミュレーション
P6
Aerial Image Intensity Simulation in High-NA Imaging
1
2
3
1
2
3
渋谷眞人、高田聡、中島利治（東京工芸大、トプコン、ニコン）
Masato Shibuya1,　Akira Takada2, and Toshiharu Nakashima 3 (Tokyo Polytechnic Univ.1, Topcon2, Nikon3)
Directed Self-Assembly （DSA）
DSAリソグラフィにおけるBCP材料によるCD均一性、位置精度の改善
P7
BCP Approach for CD Uniformity and Placement Error Improvement in DSA Grapho-epitaxy Process
松宮祐、黒澤剛志、矢萩真人、山野仁詩、宮城賢、前橋貴哉、鈴木一生、川上晃也、小室嘉崇、川名大助、平山拓、大森克実（東京応化）
Tasuku Matsumiya, Tsuyoshi Kurosawa, Masahito Yahagi, Hitoshi Yamano, Ken Miyagi, Takaya Maehashi, Issei Suzuki, Akiya Kawaue,
Yoshitaka Komuro, Daisuke Kawana, Taku Hirayama, and Katsumi Ohmori　(TOK)
サブ10nmパターニングに向けたブロックコポリマーDSA
P8
Block Co-polymer Directed Self-assembly for Sub-10nm Patterning
小田智博、西野晃太、Yoshi Hishiro、堀雅史、成岡岳彦、小松裕之、永井智樹、島基之、木村徹 (JSR)
Tomohiro Oda, Kota Nishino, Yoshi Hishiro, Masafumi Hori, Takehiko Naruoka, Hiroyuki Komatsu, Tomoki Nagai, Motoyuki Shima, and Tooru Kimura (JSR)
P9
ラメラナノ構造中の内部欠陥のシミュレーション解析
Simulation Studies on Embedded Defects in Lamellar Nanostructures
金井秀樹、小寺克昌、清野由里子、佐藤寛暢、笠原佑介、小林克稔、久保田仁、木原尚子
川門前善洋、宮城賢、峯岸信也、白石雅之、戸花敏勝、野村聡、東司（EIDEC）
Hideki Kanai, Katsuyoshi Kodera, Yuriko Seino, Hironobu Sato, Yusuke Kasahara, Katsutoshi Kobayashi, Hitoshi Kubota, Naoko Kihara,
Yoshiaki Kawamonzen, Ken Miyagi, Shinya Minegishi, Masayuki Shiraishi, Toshikatsu Tobana, Satoshi Nomura, and Tsukasa Azuma (EIDEC)
E-Beam, Metrology, and Mask Technology
P10
ビルトインレンズマスクによる3次元フォトリソグラフィ
Novel 3-dimensional Photo Lithography by Built-in Lens Mask Lithography
田中利樹、川田博昭、菊田久雄、笹子勝、平井義彦（大府大）
Toshiki Tanaka, Hiroaki Kawata, Hisao Kikuta, Masaru Sasago, and Yoshihiko Hirai (Osaka Pref. Univ.)
P11
ＳＥＭ画像を用いたリソシミュレーションによるマスク欠陥判定技術の研究
Study of Defect Verification Based on Lithography Simulation with a SEM System
吉川真吾（ＤＮＰ）
Shingo Yoshikawa　（DNP）
P12
可変成形ビーム描画装置におけるレジストヒーティング効果の補正モデル及び補正方法
Correction and Modeling of Resist Heating Effect on VSB Mask Writer
菅沼瑞奈（ニューフレア）
Ｍizuna　Suganuma (NuFlare)
P13
マルチビームＳＥＭの現状とその画像データの今後の検査技術等への応用
Status and Outlook of Multi-beam SEM Technology to be Expected Inspection Application
小檜山勇次、Thomas Kemen, Jan Hemdrik Peters　（Carl Zeiss）
Yuji Kobiyama, Thomas Kemen, and Jan Hemdrik Peters　（Carl Zeiss）
P14
EUVマスクにおける遮光帯欠陥のウェハ転写性評価
Defectivity Evaluation of EUV Reticles with Etched Multilayer Image Border by Wafer Printing Analysis
渡辺原太1、福上典仁1、坂田陽1、小寺豊1、Rik Jonckheere2、Emily Gallagher2、Erik Verduijn3（凸版1、imec2、Globalfoundries3）
Genta Watanabe1, Norihito Fukugami1, Yo Sakata1, Yutaka Kodera1, Rik Jonckheere2, Emily Gallagher2, and Erik Verduijn3
(Toppan1, imec2, Globalfoundries3)
11 nm hp世代EUVマスクに対応するPEM技術を用いたマスクパタン検査技術
P15 Patterned Mask Inspection Technology with Projection Electron Microscope (PEM) Technique
for 11 nm Half-pitch Generation EUV Masks
1
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1
1
2
2
2
2
2
1
2
平野亮一、飯田晋、天野剛、渡辺秀弘、畠山雅規、村上武司、吉川省二、末松健一、寺尾健二（EIDEC 、荏原製作所）
1
1
1
1
2
2
Ryoichi Hirano , Susumu Iida , Tsuyoshi Amano , Hidehiro Watanabe , Masahiro Hatakeyama , Takeshi Murakami , Shoji Yoshikawa2,
Kenichi Suematsu2, and Kenji Terao2 (Toshiba1, EBARA2)
Poster Sessions B
15:40-18:10, Monday 6 July ― Kuramae Hall
Extreme Ultraviolet Lithography（EUVL）
P16
1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作
Development of Transmission Grating of EUV Interference Lithography for 1X nm HP EUV Resist Evaluation
福田裕貴、福井翼、谷野寛仁、九鬼真輝、渡邊健夫、木下博雄、原田哲夫(兵県大)
Yuki Fukuda, Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Masaki Kuki, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, and Tetsuo Harada (Univ. Hyogo)
P17
位相欠陥評価用の集光型コヒーレント回折顕微鏡の開発
Development of Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope for Phase Defect Characterization
橋本拓、原田哲男、木下博雄、渡邊健夫（兵県大）
Hiraku Hashimoto, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, and Takeo Watanabe (Univ. Hyogo)
P18
Sub-14nmhp向け新規EUVレジスト開発
Novel EUV Resist Development for Sub-14nm Half Pitch
金子哲朗、堀雅史、中川恭志、木元孝和、白谷宗大、成岡岳彦、永井智樹、Ramakrishnan Ayothi、日城良樹、島基之、木村徹 (JSR)
Tetsuro Kaneko, Masafumi Hori, Hisashi Nakagawa, Takakazu Kimoto, Motohiro Shiratani, Takehiko Naruoka, Tomoki Nagai,
Ramakrishnan Ayothi, Yoshiki Hishiro, Motoyuki Shima, and Toru Kimura (JSR)
P19
7nmノードを見据えたEUVリソグラフィー用ネガティブトーンイメージングプロセス
Negative-tone Imaging Process for EUV Lithography beyond 7 nm Node
椿英明1、二橋亘1、土橋徹1, 2、藤森亨2、後藤孝浩1（富士フイルム1、EIDEC2）
Hideaki Tsubaki1, Wataru Nihashi1, Toru Tsuchihashi1, 2, Toru Fujimori2, and Takahiro Goto1 (FUJIFILM1, EIDEC2)
P20
新規保護基、PAGを適用したEUV化学増幅型レジストの開発
Development of EUV Chemically Amplified Resist which applying Novel Protecting Group and PAG
松丸省吾、藤井達也、神園喬、鈴木健太、山崎広人、新井雅俊、小室嘉嵩、川上晃也、山田知孝、川名大助、平山拓（東京応化）
Shogo Matsumaru, Tatsuya Fujii, Takashi Kamizono, Kenta Suzuki, Hiroto Yamazaki, Masatoshi Arai
Yoshitaka Komuro Akiya Kawaue, Tomotaka Yamada, Daisuke Kawana,and Taku Hirayama （TOK）
P21
Actinic光欠陥検査装置で検出した自然ブランク欠陥の実露光転写評価
EUV Scanner Printability Evaluation of Natural Blank Defects Detected by Actinic Blank Inspection
高木紀明1、渡辺秀弘1、Dieter Van den Heuvel2、Rik Jonckheere2、Emily Gallagher2 (EIDEC1、imec2)
Noriaki Takagi1, Hidehiro Watanabe1, Dieter Van den Heuvel2, Rik Jonckheere2, and Emily Gallagher2 (EIDEC1, imec2)
Nanoimprint Lithography（NIL）
P22
光ナノインプリントリソグラフィに向けた高粘性光硬化性組成物のスクリーン印刷
Screen Printing of Viscous UV-curable Resins for UV Nanoimprint Lithography
廣芝伸哉、田辺明、上原卓也、中川勝（東北大）
Nobuya Hiroshiba, Akira Tanabe, Takuya Uehara, and Masaru Nakagawa (Tohoku Univ.)
P23
連続UVナノインプリントにおける離型層の耐久性の検討
Study of the Resistance of Antisticking Layer against Repeated UV Nanoimprint
伊吉就三、岡田真、春山　雄一、松井真二（兵県大）
Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Yuichi Haruyama, and Shinji Matsusi (Univ. Hyogo)
P24
ナノインプリントにおける離型力のモールド側壁傾斜角依存性
Dependence of De-molding Force on Sidewall Slope Angle of Mold Pattern in Nanoimprint Lithography
植村公亮、栩野貴充、川田博昭、平井義彦（大府大）
Kimiaki Uemura, Takamitsu Tochino, Hiroaki Kawata, and Yoshihiko Hirai (Osaka Pref. Univ.)
P25
TM
フッ素系ROMP（FROMP ）ナノインプリント材料
Fluorinated ROMP Materials (FROMP
TM
) for Use in Nanoimprint Technology
小田隆志、須永忠弘（三井化学）
Takashi Oda and Tadahiro Sunaga (Mitsui Cemical)
P26 ZEPとシュリンク剤を用いたシングルナノメーター・マスターモールドの作製
A Single-nanometer Master-mold Fabrication with ZEP and Shrink-material Followed by NIL and SADP
小林英雄、井山博雅、鈴木宏太、岸本修司（HOYA）
Hideo Kobayashi,　Hiromasa Iyama, Kota Suzuki, and Shuji Kishimoto (HOYA)
P27 ZEP7000を用いた熱リソグラフィによるサブ波長構造体用ローラーモールドの作製
Sub-100nm Resolution Demonstration by Heat-mode (thermal) Lithography with a Polymer Resist ZEP-7000
to Fabricate a Roller Imprint-mold for Sub Wavelength Periodic Structures
野田琢郎、小林英雄、中塚栄（HOYA）
Takuro Noda, Hideo Kobayashi, and Sakae Nakatsuka (HOYA)
R&D Support Program
P28
文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 "微細加工プラットフォーム"
Nanofabrication Platform", Nanotechnology Platform, MEXT
島本直伸1、有本宏1、富井和志2（産総研1、京大2）
1
Naonobu Shimamoto , Hiroshi Arimoto1, and Kazushi Tomii2 (AIST1, Kyoto Univ.2)

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