電子線描画装置
製造：日本電子㈱
型番：JBX-6300SP
設置場所：1階101室
機器外観・描画パターン
4 nm描画パターン
日本電子㈱ 提供
外観
機器の仕様
特長
・高解像度 高精度スポットビームシステム
・高加速100kV高解像度ビーム
・最大200mmウェハまでロード可能
・8nm線幅高解像度描画
・自動補正機能（露光量・露光位置）
• 加速電圧
100kV / 50kV / 25kV
• 電子銃
ZrO/W
• スキャンスピード
50MHz
• 基板サイズ
200mm最大
研究課題
• 課題１
半導体微細構造を応用した機能性光源に関する研究
• 課題２
金属微細構造を応用した光機能素子に関する研究
• 課題３
半導体微細構造を応用した電子機能素子に関する研究
問合先：浜松ホトニクス㈱・新垣 実

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