5.7. Spezielle Literatur 5.7.1 Fachbücher 5.7. Spezielle Literatur [5-1] Goodhew, P.J. & Humphreys, F.J.: "Elektronenmikroskopie: Grundlagen und Anwendungen", McGraw-Hill Book Co. London 1991, ISBN 3-89028-782-4.*) [5-2] Bethge, H. & Heydenreich, J.: "Elektronemikroskopie in der Festkörperphysik", Springer-Verlag Berlin 1982, ISBN 3-540-11361-4.*) [5-3] Beyer, H., & Riesenberg (Hrsg.): "Handbuch der Mikroskopie", Verlag Technik, Berlin 1988, ISBN 3-341-00283-9.*) [5-4] Grasenik, F. u.a.: "Elektronemikroskopie" Expert Verlag, Ehningen 1991, ISBN 3-88508-906-8.*) [5-5] Philips Analytical: "XL Serie Rasterelektronenmikroskope, Bedienungsanleitung" Eindhoven (NL) Firmenschrift 1994. [5-6] Hamann, C. & Hietschold, M.: "Raster-Tunnel-Mikroskopie", Akademie Verlag, Berlin 1991, ISBN 3-05-501272-0. *) [5-7] Fasching, G.: "Werkstoffe für die Elektrotechnik", Springer Verlag Wien, 1994, ISBN 3-211-82610-6. *) [5-8] Zerbst, M.: "Meß- und Prüftechnik", Halbleiterelektronik Bd. 20, Springer-Verlag, Berlin 1986, ISBN 3-549-15878-2. [5-9] Wiesendanger, R. (Ed.): „Scanning Probe Microscopy”, Springer Verlag 1998, ISBN 3-540-63815-6. *) [5-10] EDAX International: "Bedienungsanleitung DX Serie" EDAX International, 85 McKee Drive, Mahwah, NJ 07430, Firmenschrift 1992. [5-11] Sorge, R.: „Simultane HF/NF-MOS CV Technik”, Bericht IHP GmbH Frankfurt (O.) 1997. [5-12] Barbottin, G. and A. Vapaille: "Instabilities in Silicon Devices", Vol. 1, Vol. 2 North-Holland 1986, ISBN 0-444-87944-7, 0-444-700016-1, 0-444-0017-X. *) [5-13] Schroder, D.K.: "Semiconductor Material and Device Characterization", J. Wiley & Sons, Inc. N. Y.1990, ISBN 0-471-51104-8. *) [5-14] Nicollian, E. H., J.R. Brews: "MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology", J. Wiley & Sons, N.Y. 1982, ISBN 0-471-08500-6. *) [5-15] Glück, B. K. „Bestimmung von Generationsparametern, Dotierung und Isolatorleckstrom mittels Ladungsmessung am MIS-System zur Charakterisierung von Materialeigenschaften”, Dissertation, Institut für Halbleiterphysik 1990. [5-16] Sorge, R.: „Double Sweep LF-CV Technique ..”, Solid State Electr. Vol. 38 (1995), No. 8, 1479-1484. [5-17] Beck, F.: "Präparationstechniken für die Fehleranalyse an integrierten Halbleiterschaltungen", VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1988, ISBN 3-527-26879-0. *) [5-18] Bogenschütz, A.F.: "Ätzpraxis für Halbleiter", Carl Hanser Verlag, München 1967. [5-19] Pfüller, S.: „Halbleitermeßtechnik”, Verlag Technik, Berlin 1976. [5-20] Lüth, H.: „Surfaces and Interfaces of Solid Materials”, Springer Verlag 1998, ISBN 3-540-58576-1. *) C:\userfhl\FHLET\Fach\Mst_hl\Vorles\MST_Vorl\v5mst7lit.lwp Seite 5.7 - 1 Periodika [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8] IEEE: "Joun. of Microelectromechanical Systems", ISSN 1057-7157. *) vde-Verlag: "me - Mikroelektronik / Mikrosystemtechnik", ISSN 0931-2714. *) MICRO, ISSN 1081-0595. Angel Publ.: „European Semiconductor”, ISSN 0265-6027. IEEE: „Electron Device Letters”, ISSN 0741-3106. IEEE: „Electron Devices”, ISSN 0018-9383. IEEE: „Transaction on Reliability” PUB ID: 007-1091. IEEE: „Transaction on Semiconductor Manufactoring” PUB ID: 007-1451. Internet: http://www.ieee.org http://www.semi.org *) Literatur in der FHL-Bibl. unter Tech 509 (Mikrosystemtechnik, Elektronik) u.a. verfügbar. C:\userfhl\FHLET\Fach\Mst_hl\Vorles\MST_Vorl\v5mst7lit.lwp Seite 5.7 - 2