2次元原子層材料により、次世代デバイスを実現します

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基礎研究
E-4
グラフェン・遷移金属ダイカルコゲナイド
2次元原子層材料により、次世代デバイスを実現します
近年、厚さ1nm以下のグラフェン*1や遷移金属ダイカルコゲナイド(TMDC)*2などの層状物質を用いて、新規物性の探索や光・電子デバ
イス開発が世界中で行われています。NTT研究所では、大面積基板上への層状物質の高純度結晶成長と新物性の探索、それを用いた
次世代デバイスの開発をめざして研究を進めています。
特
ヒーター
徴
■ 層と層は、ファン・デル・ワールス力によって弱く結合しており、
1層まで剥離することが可能
■ TMDCは、遷移金属とカルコゲン原子の組み合わせにより、
半導体や金属・超伝導として性質が変化
■ 半導体として振る舞うTMDCの多くは、層数によってバンド
構造が変化
ヒーター
ヒーター
SiC*3の熱分解によるグラフェン成長
CVD*4 によるhBN*5 ・グラフェン成長
■ 異なる層状物質を互いに積層させることで、新規物性が発現
■ 非常に大きな励起子束縛エネルギー*7や光吸収係数*8
■ 1nm以下の1原子層・分子層で構成されたデバイスの実現
Se
Mo
単層MoSe2
利用シーン
■ 超低消費電力で動作する、極微小電子デバイス
0.5 nm
GaAs基板
■ 次世代高効率発光・受光デバイス
■ 層間に陽イオンを蓄えることが可能で、電池材料として期待
■ 人工光合成用触媒
*1 A.Geim,K.Novoselov両博士は、スコッチテープ用いた単層グラフェンに関して2004年に発表、2010年ノーベル賞を受賞
*2 モリブデンやタングステンなどの遷移金属Tと、カルコゲン原子である硫黄、セレン、テルルXによる化合物TX2
*3 シリコンと炭素の化合物 *4 化学気相成長 *5 層状の窒化ホウ素 *6 分子線エピタキシ *7 半導体中で、熱や光によって励
起された電子・正孔対の束縛エネルギーのことで、大きいほど安定 *8 光の吸収しやすさを示す定数
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