化合物半導体開管型拡散炉 OD-2500 目次 はじめに 1．機種名 2 2 2．装置概要 2.1 目的 2.2 加熱対象物 2.3 処理方法 2.4 制御方法 2 3．各部構成 2 4．装置仕様および規格 4.1 加熱ヒーター 4.2 昇降ユニット 4.3 トランスファーユニット 4.4 開管型アンプル 4.5 ガス供給系 4.6 排気系 4.7 制御系 3 5．ユーティリティ 4 5.1 装置外観寸法 5.2 装置重量 5.3 塗装色 5.4 電源容量 5.5 排気 5.6 冷却水 1 はじめに 本書について 本仕様書は、化合物半導体開管拡散炉に関し適用します。 1．機種名 化合物半導体開管拡散炉 2．装置概要 2.1 目的：本装置は、化合物半導体基板にＺｎを熱拡散させる為の装置です。 また、石英アンプルを開管方式とする事で、ランニングコストを削減 出来る構造となっております。 2.2 加熱対象物：φ２ｉｎｃの化合物基板 2.3 処理方法：加熱拡散 2.4 制御方法：ＰＬＣ制御 3．各部構成 3.1 外観寸法：幅１０００×奥行き１０００×高さ１８００ｍｍ 上記寸法は、装置本体寸法です。 （ポンプ等は除く） 3.2 加熱ヒーター 3.3 昇降ユニット 3.4 トランスファーユニット 3.5 開管型アンプル 3.6 ガス供給系 3.7 排気系 2 4． 装置仕様および規格 4.1 4.2 4.3 4.4 加熱ヒーター 4.1.1 発熱方式 4.1.2 ゾーン数 4.1.3 制御方式 4.1.4 常用温度 ：抵抗加熱方式 ：３ゾーン制御 ：Ｐ．Ｉ．Ｄ制御 ：Ｍａｘ６００℃ 昇温スピード：平均１０℃／ｍｉｎ 昇降ユニット 4.2.1 動力源 4.2.2 駆動方式 4.2.3 ガイド方式 4.2.4 運転方式 ：モーター駆動 ：ボールネジ ：リニアボールガイド ：自動運転 トランスファーユニット 4.3.1 動力源 4.3.2 駆動方式 4.3.3 ガイド方式 4.3.4 運転方式 ：手動 ：手動 ：リニアローラーガイド ：手動 開管型アンプル（１セット付属） 4.4.1 材質 ：石英ガラス 4.4.2 カセット ：φ２ｉｎｃウェーハを３枚チャージ可能 4.4.3 ソース ：専用のソース皿にて供給 ※ 4.5 4.6 4.7 ガス供給系 4.5.1 ガス種 4.5.2 接続径 排気系 4.6.1 真空排気 制御系 4.7.1 制御方式 4.7.2 運転方式 開管型アンプルは、ビーカー，ビーカー底板， カセット，内蓋，外蓋からなっています。 重ね合わせて行くだけで、適度な封止性を発揮す る構造となっております。 ：Ｎ２・・・Ｍａｘ２００ｓｃｃｍ ：ＶＣＲ１／４（オネジ） ：ロータリーポンプ ２８０Ｌ／ｍｉｎ ：ＰＬＣ ：手動にて基板をチャージした後に、自動運転に 移行する半自動運転方式 3 5．ユーティリティ 5.1 装置外観寸法 ：幅１０００×奥行き１０００×高さ１８００ｍｍ 5.2 装置重量 ：５００Ｋｇ 5.3 塗装色 ：架台部：紺色系（マンセル５ＰＢ４/２半ツヤ） カバー：白色系（マンセル５Ｐ９／１半ツヤ） 5.3 電源容量 ：ＡＣ２００Ｖ １５ＫＶＡ ３相 5.4 ガス供給系 ：Ｎ２・・・・・・・・・・・ Ｍａｘ２００ｓｃｃｍ 接続径：ＰＴ１／４（メネジ） ：動力用エアー・・・・・・・５Ｋｇｆ／ｃｍ２ １０ＮＬ／ｍｉｎ 5.5 排気 ：筐体排気：φ５０ストレート プロセス排気：φ５０ストレート 注）真空ポンプ排気は、一度装置内に取り込みます。 5.6 冷却水 ：ＰＴ３／８メスネジ ＩＮ ３㎏／㎝２以上 ４㎏／㎝２以下 ＯＵＴ １㎏／㎝２以下 流量：３Ｌ／ｍｉｎ 4 6．参考追加仕様（別料金のオプション設定となりますので、通常は装備されません） 6.1 温度測定（データーロガーにて監視） 6.1.1 ヒーター天部：Ｋ熱伝対・・・１カ所 6.1.2 ヒーター上段：Ｋ熱伝対・・・１カ所 6.1.3 ヒーター中段：Ｋ熱伝対・・・１カ所 6.1.4 ヒーター下段：Ｋ熱伝対・・・１カ所 6.1.5 ヒーター底部：Ｋ熱伝対・・・１カ所 6.2 ヒーター劣化監視用テストポートの設置 6.2.1 ヒーター抵抗を測定する為の端子を、測定しやす場所に設置致します。 6.3 Ｎ２封止拡散が行える仕様 6.3.1 排気系に封止バルブを設置 6.3.2 弱加圧に対応できる様に、反応管に抜け止め加工を施す 6.4 酸素モニター 6.4.1 将来、酸素モニターの設置を想定した排気ガスサンプリングポートのみ を設置致します。 （酸素モニターは含まれません） 6.5 排気配管をＮＷ２５化 6.5.1 排気配管の大口径化 6.5.2 配管加熱ヒーターの大容量化 6.5.3 昇降，トラバースユニットの補強 6.6 ドライポンプ化 6.6.1 ドライポンプの設置 6.6.2 吸い込み流量制御機器の設置 5
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