MPGDの開発 (Micro Pattern Gas Detector) ー2次元読出し基板の現状 2枚基板のみ完成したのでその報告 KEK;村上 武 TM2005/11/4 基板構成図 RP-0538 概略側面図 変更点: 液状レジス トL2面をカバーフィルムに変更 2005.9.13 長谷川 2 0 0 5 .9 .1 5 長谷川( 修正1) NiAuメッキ(Ni3μm以上、ボンディングAu0.2μm以上) 液状レジスト(緑)*日本ポリテック「NPR-80G」 A B CN CN カバーレイ追加 (ポリイミド12.5μm、接着剤15μm) *新日鐵化学「SPC-15A-12A」 銅メッキ 25μm(ボタンメッキ) A' B' ボンディングシート(熱可塑性ポリイミド35μm) ベース材料 *新日鐵化学「SPB-035」 ポリイミド50μm、銅箔8/8μm *東レフィルム加工「PI50-CCW-08DO」 厚み設計値 A-A’ 約 90μm 製品仕様 B-B’ 約 200μm (ただし、スルホールメッキ部分のみ、約250μm) 4層FPC (両面×2層構成) シルクなし 電気検査(フライングチェッカー)有り ボタンメッキ仕様(厚み25μmレベル) 部品実装無し スルホールランド部設計 φ0.4ランド-φ0.15穴 ストリップラインの狙い寸法 75μmをメイン 製作枚数 2枚 10月7日納入希望 TM2005/9/27 2次元読出し基板の写真 25μ指定のストリッツプライン 25μラインが細っていたり蛇行がある プリプレグ(ボンデングシート) エッチングで抜けない(残銅処理部) (0.5~1mm) ストリッツプライン TM2005/11/4 2次元読出し基板の写真 25μ指定のストリッツプライン テアドロップ ストリッツプライン 75μ 100μ レジスト不良 TM2005/11/4 2次元読出し基板の写真 パターン幅340μ スペース60μ ストリッツプライン ボンデングパッド部 TM2005/11/4 2次元読出し基板の写真 2枚目 ストリッツプライン ボンデングパッド;チェッカによる打痕 入力部ボンデングパッド TM2005/11/4 2次元読出しストリップライン測定結果 Nikon;NEXIV VMR-3020(レー ザー) ーパタン幅340μ指定のラインは±3μ以内の出来 (μ) ストリップラインの線幅測定;場所と2枚と6回の平均値 120 110 100 設計値 90 測定値、エラー幅 80 70 60 50 40 30 20 25μ線幅 40μ線幅 50μ線幅 75μ線幅 100μ線幅 TM2005/11/4 2枚完成 今回2枚完成しているが下記に示す問題点がある。 1、ストリップラインが平らでない(厚み;50μ部分) 製造時に4面テンションをかけて接着張り合わせているが、過熱等するので 熱 収縮の影響とパターンの銅の影響がでてくる。 難しい。 →半田面に硬質基板の張り合わせ(プレス接合・ノンプレス接合) 2、エッチングで抜けない部分が発生(残銅)→事後処理でOK 3、ボンディングパッドにチェッカー痕(フライングチェッカー)あり 4、歩留まり2割 ボタンメッキでのズレ・フォトレジストが抜けない等 不良品は事後の工程には行かず全て廃棄処分。工場には途中工程の品物 が あるので追加には納期が短く出来るだろう(太洋の回答) TM2005/11/4 導電性接着テープ 1、CHOMERICS.Inc.;銅箔、導電性あり粘着、フラット面 120度;粘着のリ軟化してピンセットで面移動 70度;粘着のリ軟化してピンセットでわずかな面移動 2、3M;銅箔、導電性なし粘着、エンボス面 120度;粘着のリ軟化してピンセットで面移動 70度;粘着のリ軟化してピンセットで面移動 3、3M;AL箔、導電性あり粘着、フラット面、90μ 120度;粘着のリ軟化してピンセットで面移動 70度;粘着のリ軟化してピンセットでわずかな面移動 **このことからワイヤーボンディングはAl線が望まれかつ非加熱。 TM2005/11/4
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