宇宙背景ニュートリノ崩壊光子の 赤外観測の可能性 「背景放射で拓く宇宙創成の物理 -インフレーションからダークエイジまで-」 シンポジウム2011 2011年7月12日 武内勇司,金信弘,武政健一,木内健司,丁亨尚, 園城尊,金井伸也,永田和樹(筑波大), 池田博一,松浦周二(JAXA/ISAS), 佐藤広海(理研),羽澄昌史(KEK), Soo-Bong Kim (Seoul National University) 1 宇宙背景ニュートリノを用いたニュートリノ崩壊探索実験 ニュートリノと電磁場の相互作用 宇宙背景ニュートリノを利用 ニュートリノ遷移輻射光の検出 (ν3→ν1,2+γ) 標準模型では非常に小さい τ~ O(1043) yr いくつかの模型では大きくなる τ≳ O(1017) yr ~110個/cm3/generation,T=1.95K ビッグバン理論で予言されているが実験的には,未発見 ニュートリノ質量の測定 振動実験で測定されている質量二乗差の情報とあわせると質量の 絶対値が得られる 2 2 3 2 E m3 E E2 m22 , E m3 m2 2m3 m(ν3)=50meV, m(ν2)=10meVと仮定 ↓ E(γ)=24meV (λ=51μm : 遠赤外光) 2 ビッグバン宇宙と素粒子物理 2.7K宇宙背景輻射 (420/cm3) 1.9K宇宙背景 ニュートリノ (110/cm3/種類) 3 L-R 対称模型でのニュートリノの寿命 •M. Beg, W. Marciano and M. Rudeman Phys. Rev. D17 (1978) 1395-1401 •R. E. Shrock Nucl. Phys. B206 (1982) 359-379 W 1 W L cos z W R sin z W 2 W L sin z W R cos z WL and WR はそれぞれ V-A, V+A 結合 z は,混合角 ニュートリノ崩壊幅をSU(2)L x SU(2)R x U(1)模型で計算. M(WR)無限大で sinζ=0が標準模型と一致. 実験で与えられた制限:M(WR )<715GeV/c2 , z<0.013, およびm3=50meV, m2=10meVを仮定すると (ν3→ν2+γ) > 1.5x1017yr 標準模型では 2.1x1043yr 4 崩壊光子のスペクトル • 2体崩壊 → ν3静止系では単色 • 1.95Kの熱運動 • Red shift E = E0 /(1+z) Red shift effect Sharp edge with 1.9K smearing 5 CIBと検出器分解能 直径20cm,視野角0.1°の 望遠鏡で3時間の測定を仮定 dN(Eγ)/dEγ for CIB + νdecay τν=1.5x1017yrの設定 νdecay Eγ (eV) Eγ~24meVを1光子毎に分解能2%程度で測定できる検出器が必要 ⇒この条件を満たす検出器を開発する 6 STJ(超伝導トンネル接合)検出器 Superconducting Tunnel Junction 超伝導体 / 絶縁体 / 超伝導体のジョセフソン接合素子 超伝導トンネル接合では、 超伝導体のエネルギーギャップの上に 励起された電子はトンネル効果でトンネ ル障壁を通過。 放射線によって励起された電子によるト ンネル電流を測定することによって、 個々の放射線のエネルギーを測定。 励起された電子 放射線 2Δ S I S 7 STJのエネルギー分解能 発生する準粒子の個数のゆらぎがエネルギー分解能の限界を決める 超伝導ギャップエネルギーが小さいものが有利 STJのエネルギー分解能 Δ: バンドギャップエネルギー F: fano factor E: 放射線のエネルギー Hfを用いた場合の発生準粒子数 N=24meV/1.7Δ=706個@24meV ΔE/E < 1/√N=1/√706=3.8% Si Nb Al Hf Tc[K] 9.23 1.20 0.13 Δ[meV] 1100 1.550 0.172 0.020 Hc[G] 1980 105 13 Hf-STJの作製は成功 すれば世界初 Tc :相転移温度 超伝導膜に用いた金属のTc(相転 移温度)の1/10程度で安定動作。 Hc :臨界磁場 8 Hf-STJの構造 50~200μm角×600nm厚 Hf膜厚は200nm以上必要 絶縁膜(HfOx)は数nm程度 HfOx(1-2nm) Nb Hf(約250nm) Si wafer SiO2 9 KEKの超伝導検出器開発システム イエロールーム アライナー ICP-RIE 10 希釈冷凍機 筑波大低温物性グループ(大塚研)より希釈冷凍機を借用 2009年7月に49mKを達成 最低温49mK I-Vカーブ測定の際の発熱 時間 11 Hf薄膜作製条件 スパッタ条件出し:2.0Pa 70W 圧縮応力 12 Hf薄膜:AFM,TEM観察 酸化層 EDXでO原子確認 Hf Hf 2.0Pa 70W RMS 3.5nm 13 酸化条件:10Torr 1hour 13 Hf-STJ I-V特性 V: 20μV/DIV I: 20μA/DIV I V T~120mK Pixel size: 200μm角 2Δ/e~40μV Rd=1Ω Ic=24μA B~2Gauss) 磁場なし 磁場あり HfのSISでジョセフソン電流を確認! 14 まとめ ニュートリノ崩壊探索のためのHf-STJを開発中 遠~中赤外線域のCIBの測定 HfのSIS構造を作製しjunctionができていることを確認 薄膜作製条件の探索⇒OK 加工方法の探索⇒OK 絶縁膜作成⇒リークカレントを減らす必要がある 計画 Hf-STJ実証試料の製作および光応答測定⇒今年度中を予定 Hf-MKIDの開発 AKARIなどCIBデータの解析 15
© Copyright 2024 ExpyDoc