【１】FEMによる電界集中解析 目的 ① ニードル上エレポの有効性確認 → そもそも電界集中は起こっているのか？ ② 理想的なニードル形状，電界のかけ方の検討 → 今後に活かす ③ 現状の電界集中の様子を把握 → 現状で電界集中に対してどのような対策が取れるか？ 解析条件 上面2V 20℃の水 ② 様々なニードル形状 ニードル密度高 壷状 特徴② ステンレス製ナノ・ニードル 細胞の大小に依存しない電界集 下面0V HEK細胞 ③ 実際のニードル・ユニットに近い 構造 １０m 5０m 左図：細胞培養のSEM 写真．細胞と 電 “点”で接しているため電界集中がしや 特徴① ナノニードルを大面積で！ ① 従来のエレポ vs. ニード ル 特徴③ 本技術によるステンレス製 ナノ ・ ニ ード ル形状 ： cm 2 オーダーと いう 大面積で製 作可能 レジスト エレポと “瞬間局所加熱”を組 わせた新しい遺伝子導入手法 Φ３００～５００m 深さ：約１００ m 一般的な接着 基板型エレポ 基板加熱 二相ステンレス鋼 ステンレス基板を瞬間加熱するこ とで， 研究さ れていな い「温度に依存した遺 導入効率」を検討． 高いニードルに 電界集中 電界集中は起こってい る！！ 低いニードルは 電界集中していない 【１】FEMによる電界集中解析 目的 ① ニードル上エレポの有効性確認 → そもそも電界集中は起こっているのか？ ② 理想的なニードル形状，電界のかけ方の検討 → 今後に活かす ③ 現状の電界集中の様子を把握 → 現状で電界集中に対してどのような対策が取れるか？ 解析条件 上面2V 20℃の水 ② 様々なニードル形状 ニードル密度高 壷状 上下ともニードル ニードルが低い 下面0V ① 従来のエレポ vs. ニード ル 電界集中は起こってい る！！ 【１】FEMによる電界集中解析 特徴② 製ナノ・ニードル 細胞の大小に依存しない電界集中 HEK細胞 ユニット化した際の解析 １０m 5０m ③ 実際のニードル・ユニットに近い 構造 左図：細胞培養のSEM 写真．細胞と 電極が “点”で接しているため電界集中がしやすい． ドルを大面積で！ 特徴③ るステンレス製 ド ル形状 ： cm 2 いう 大面積で製 エレポと “瞬間局所加熱”を組み合 わせた新しい遺伝子導入手法 レジスト Φ３００～５００m 深さ：約１００ m な接着 エレポ 基板加熱 二相ステンレス鋼 ステンレス基板を瞬間加熱するこ とで，未だ 研究さ れていな い「温度に依存した遺伝子 導入効率」を検討． 高いニードルに 電界集中 ニードルをユニット化することで 若干電界の集中が弱まる傾向 低いニードルは 電界集中していない
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