真空機器 - KEK

50GeV-Ring/真空機器
湯浅由將
冨澤正人、白壁義久
金澤健一、森本佳秀
目次
• 設計
– 真空機器
• 真空ポンプ、ポート
• ゲートバルブ
– 真空ダクト
• 偏向電磁石、四極電磁石
– 接続機器
• ベローズ
• シール、フランジ、カップリング
• R&D
2001/02/20
大強度陽子加速器計画技術報告会
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真空ポンプ
• 目標真空度=1*10-7Torr
• 耐放射線性
– 粗引き
ターボ分子ポンプ(磁気浮上式)
+スクロールポンプ(オイルフリー)
• ビームタイム中退避
– 本引き
イオンポンプ
• 常時設置
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真空ポンプ
• 仕様と台数
粗引きポンプ
TMP600l/s
標準 50m/区間
イオンポンプ
400l/s
標準 20m/区間
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Arc 部
Insertion 部
3*8
3*4
3*25
3*6+
Inj+Abort: 4
Slow: 9
RF+Fast: 9
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真空ポート
• 構成
–
–
–
–
RFスリット
ゲージ、リークポート
ベローズ
ゲートバルブ
(粗引き着脱用)
– 台車
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ゲートバルブ
• 構成
– RFコンタクト
• 台数
– Arc部:
• 4区間(~100m/区間)
– Insertion部:
• 挿入機器群に合わせて
2区間(~50m/区間)
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真空ダクト
• 標準ダクト
– 材質:SUS316L
– 形状:円形(φ130)
• 電磁石用ダクト
– アパーチャーの確保
– 磁極とのクリアランス
– 渦電流効果の低減(薄肉、高比抵抗)
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真空ダクト
• 偏向電磁石
– 材料:SUS316L
– 形状:レーストラック型
• 100V*129φ
• 肉厚2mm
• コイル部で形状変換
– アパーチャー
• ~100V*70~129H
– 渦電流効果
• ΔBeddy(55mm)/Binj
=2.9*10-4
• Pavg=3.9(W/m)
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真空ダクト
• 偏向電磁石
– 材料:SUS316L
– 形状:レーストラック型
• 100V*129φ
• 肉厚2mm
• コイル部で形状変換
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強度計算
• ANSYS
– 最大変位
~0.48mm
– 最大応力
~959kgf/cm2
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真空ダクト
– 材料:SUS316L
• 四極電磁石
– 形状1:
– 形状2:
• 円形(φ130)ベース
• 磁極干渉部湾曲
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• 菱形(192H*149V)ベース
• 頂点部湾曲
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接続機器
• ベローズ
– RFコンタクト
– ベローズ内に
フィンガーコン
タクト付きライ
ナー
(KEK-B参考)
– フランジ接続に
必ず挿入
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取合い
• B-st-Q
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接続機器
• シール
– HELICOFLEX(Δ-Type)
• フランジ
– 小段差
• クイックカップリング
– スペース対策
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R&D(進行中)
• 偏向電磁石ダクト製作(プロトタイプ)
– 製作方法
– 強度試験
– 表面処理方法
• シール、フランジ設計
– サンプル試作
– シール試験
• 各機器基本設計
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R&D(予定)
• 真空特性
– 材料:低渦電流効果(高強度、高比抵抗)
E(*104kgf/cm2) σ(*102kgf/cm2)
SUS316L
197
28
Inconel625
211
28
Ti-Alloy
102
97
ρ(μΩcm)
74
120
150
– 表面処理:ガス放出率低減
• 製作性
– 真空ポート
• RFスリット、ベローズ
• セラミック-金属接合
– 異形真空ダクト
• 四極電磁石、取出し部四極電磁石
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