【施設共用募集対象装置の設備仕様】
No.
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設備・装置の種類
装置の概要・条件
マイクロトロン加速器施設
電子ビーム加速器
エネルギー：150 MeV
パルス幅：10 ps（FWHM）
電荷量：～50 pC
エミッタンス：6πmm mrad
繰り返し：10 Hz
X線レーザー実験装置
プラズマ軟X線レーザー
波長：13.9nmのみ
パルスエネルギー：～1μＪ
パルス幅：約10ps
繰り返し：0.1Hz（最大）
担当者・連絡先
小瀧 秀行
TEL: 0774-71-3381
(木津)
実験棟
C101号室
長谷川　登
TEL: 0774-71-3345
(木津)
実験棟
C104号室
村上 洋
TEL: 0774-71-3368
(木津)
実験棟
C202-1号室
フェムト秒レーザー（CLARK社：CPA10）
波長：800nm
パルスエネルギー：5mＪ（最大）
パルス幅：約100fs
繰り返し：10Hz
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フェムト秒レーザーシステム(CPA10)
非線形波長変換システム
70μJ@266nm、500 μJ@400 nm
（パルスエネルギー＠波長）
フェムト秒過渡吸収分光システム
観測波長域450－750 nm
備考
フェムト秒レーザー（CLARK社：CPA1000）
波長：800nm
パルスエネルギー：0.4ｍＪ（最大）
パルス幅：約１50fs
繰り返し：1kHz
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フェムト秒レーザーシステム(CPA1000)
時間分解蛍光分光システム
1)up-conversion法（分解能：150fs）
2)時間相関単一光子計数法
(分解能：数百ps)
及びストリークカメラ
（分解能：数十ps）
村上 洋
TEL: 0774-71-3368
(木津)
実験棟
C222号室
テラヘルツ時間領域分光システム
・（波長：数cm-1から百cm-1程度）
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試料調製・分析機器
1. 紫外・可視・近赤外分光光度計
（SHIMADZU：UV-3101PC）
測定温度：100K～室温
2. 紫外線・可視蛍光分光計
（HITACHI：F-2500）
測定温度：100K～室温
3. 真空グローブボックス
4. スピンコーター（薄膜形成器）
J-KAREN(高強度場生成T3) レーザー装置
高出力・超短パルスレーザー
1) パワーアンプモード
中心波長：810nm
パルスエネルギー：1J
パルス幅：30fs
繰り返し：10Hz（最大）
（１Hz、シングルショットも可能）
2) ブースターアンプモード(J-KAREN-P)
中心波長：810nm
パルスエネルギー：～30J（最大）
パルス幅：30fs
繰り返し：10秒／shot（最大）
（シングルショットも可能）
村上 洋
TEL: 0774-71-3368
(木津)
実験棟
C220号室
金沢 修平
TEL: 0774-71-3385
(木津)
実験棟
C103号室
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kHzチタンサファイアレーザー
X線回折装置
高繰り返しレーザー
波長：800nm
パルスエネルギー：1mJ
パルス幅：60ｆｓ
繰り返し：1ｋHz
X線回折装置（リガク：SLX2000）
1) ターゲット：Cu
（真空封止型（最大3kW））
2) 高精度ゴニオメータ搭載
3) 小角X線散乱測定による多層膜等の薄膜評価
4) 各種解析ソフト搭載（GXRR等）
板倉 隆二
TEL: 0774-71-3489
(木津)
実験棟
C102号室
今園 孝志
TEL: 0774-71-3372
(木津)
実験棟
C128号室
成膜装置（㈱大阪真空）
1) ターゲット数：4元(5インチ角)
2) 成膜プロセス： シーケンサによる自動成膜（手動も可）
3) 膜厚制御法： シャッターによる時間制御（分解能0.1s）
4) 基板： ø50mm × 12mmt（最大）、2個、自公転式
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軟X線平面結像型回折格子評価装置
電子衝突型軟X線源による平面結像型回析格子の評価装置
1) 回折格子の溝本数：1200、2400本/mm
2) 光源：B、C、Mｇ、Aｌ、Si、Pｔ、W等の特性X線
3) 検出器：CCD
ナノ秒レーザー照射装置
YAGレーザー（コンティニアム社）
波長：1064nm
パルスエネルギー：1J
パルス幅：5～9ns
繰り返し：20Hz
QUADRA-Tレーザーシステム
QUADRA-Tレーザーシステム
波長：1030nm
パルスエネルギー：10mJ
パルス幅：1ps
繰り返し：1kHz
今園 孝志
TEL: 0774-71-3372
圓山 桃子
TEL: 0774-71-3344
越智 義浩
TEL: 0774-71-3350
(木津)
実験棟
C127号室
(木津)
実験棟
C203号室
(木津)
実験棟
C102号室