詳細はこちら

リサーチコンプレックス・実習コースのご案内
Research Complex, MEMS Technical Training
日時
2016 年 6 月 7 日（火）～ 6 月 10 日（金） 4 日間コース
Date & Time
場所
June 7 (Tue) to 10 (Fri) 4-day training course
京都大学ナノテクノロジーハブ拠点
京都大学吉田キャンパス工学部物理系校舎 327 号室
Venue
Center of Nanotechnology Hub in Kyoto University
Room 327, Engineering Science Departments Building, Faculty of Engineering,
Yoshida Campus, Kyoto University
URL
http://www.mnhub.cpier.kyoto-u.ac.jp/access.html
講師
鈴木孝明先生
群馬大学大学院理工学府知能機械創製部門准教授
実習内容
Theme
MEMS 技術を用いたマイクロ流路の作製
1 日目
講義「マイクロ流体デバイスについて」
、フォトマスク作製 (1)
2 日目
フォトマスク作製 (2)、フォトレジ原盤作製 (1)
3 日目
フォトレジ原盤作製 (2)、PDMS 成形
4 日目
原盤・PDMS 観察、マイクロ流路組み立て
Training of MEMS technology - fabrication of microchannel
Day 1 Lecture on microfluidic device, Fabrication of photo-mask (1)
Day 2 Fabrication of photo-mask (2), Fabrication of photoresist master disk (1)
Day 3 Fabrication of photoresist master disk (2), PDMS molding
Day 4 Observation of master disk and PDMS mold, Fabrication of microchannel
言語
日本語
Language
Japanese
主催
理化学研究所健康生き活き羅針盤リサーチコンプレックス推進プログラム
Compass to Healthy Life Research Complex Program, Cluster for Science and
Technology Hub, RIKEN
参加費
20 万円（税込み）／お一人様
※「お支払い期日」
「振込口座」「領収書・請求書の発行」につきましては、
お申込確定の方のみに後日別途ご連絡いたします。
申し込み＆
リサーチコンプレックス戦略室
神吉民子
お問い合わせ
E-mail： [email protected] 電話：078-569-8852
お申込み締切： 5 月 31 日（火） 15 時（※参加枠の都合により先着順とさせていただきます）
■リサーチコンプレックス　実習コース
実習テーマ：MEMS技術を用いたマイクロ流路の作製
開催機関：　京都大学ナノテクノロジーハブ拠点
開催日時：１回目：平成28年 6月7日（火）～10日（金）
工程
日
装置・機器
1日目　10時30分　集合
場所
工学部物理系校舎　328号室
10時30分～10時40分
コース概要説明
10時40分～12時15分
講義　「マイクロ流路について(仮）」
群馬大学　鈴木　孝明　准教授
13時15分～17時30分
フォトマスク作製（１）
安全教育
マイクロ流路作成プロセスの概要説明
描画データ作成
Layout Editor
Layer1，Layer2作成
ブーリアン処理（A-B)
2日目　9時～12時
フォトマスク作製（２）
レーザー描画装置
6号館　クリーンルーム
ガラス基板洗浄　5枚
トルエン/エタノール
6号館　クリーンルーム
Al蒸着　t200nm
真空蒸着装置
1号館　加工評価室
レジスト塗布
スピンコーター
6号館　クリーンルーム
フォトリソ
両面マスクアライナー
6号館　クリーンルーム
フォトリソ・Crエッチング
13時～１７時30分
フォトレジ原盤作製
ガラス基板　5枚
3日目
9時～12時
フォトレジ原盤作製（前日の続き）
13時～１７時30分
国際科学イノベーション棟B1F
PDMS成形
B1F
4日目
9時～12時
フォトレジ原盤/PDMSの観察・測定
卓上SEM／表面段差計
6号館　クリーンルーム
ドライエッチング装置
6号館　クリーンルーム
マイクロ流路加工／組立／評価
ガラス基板/PDMSのアッシング
13時～１6時30分
国際科学イノベーション棟B1F
マイクロ流路組立／評価の続き
液体を流して顕微鏡観察
光学顕微鏡・モニター
地下1階
（蛍光顕微鏡）
まとめ
【実施概要】
1日目　午前：講義
午後：講習会のスケジュール、MEMS技術を用いたマイクロ流路作製についての概要説明
引き続き、簡易CADソフト（Layout　editor）により各自の工夫をこらした簡単なマイクロ流路データを作成。
２日目午前：フォトリソ用フォトマスクを作成。
午後：フォトレジストで原版を作成。
３日目　午前：厚膜レジストを用いてフォトリソグラフィーによりマイクロ流路パターン原盤を作成。
午後：PDMS（シリコーンゴム）を原盤に流し込み熱硬化してPDMSの流路を作成。
４日目　午前：レジスト原盤・PDMS基板の出来上がりを卓上SEMにて観察。
午後：チューブ、治具等を取り付けて液体（インク）を実際に流路に流し込み、２流体が二層流から管路
途中で混ざり合うのを確認する。
まとめ

Download Report