平成28年度ナノプロセシング施設（NPF）単価表平成28年4月1日設定

平成２８年度ナノプロセシング施設（NPF）単価表
平成２８年４月１日設定
「ナノテクノロジープラットフォーム事
業」の対象となる場合（注２）
装置番号
施設名称
設置場所
装置分類
備考（注１）
共用施設等
運転等費
使用料
「ナノテクノロジープラットフォーム事
業」の対象外となる場合（注２）（注３）
技術指導共用施設等
運転等費
等費
使用料
技術指導
等費
（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）
NPF001
電子ビーム描画装置
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
有償トレーニング
3,500
2,000
3,000
19,000
4,000
6,000
NPF002
電子線描画装置
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
有償トレーニング
2,000
2,000
3,000
12,000
4,000
6,000
NPF003
イオンコーター
CR1 クリーンルーム
表面処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF004
高分解能電界放出電子顕微鏡(FE-SEM)
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
3,400
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF005
低真空走査電子顕微鏡
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
2,200
2,000
3,000
12,000
4,000
6,000
NPF006
マスクレス露光装置
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
有償トレーニング
6,400
2,000
3,000
33,000
4,000
6,000
NPF008
スピンコーター
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF009
コンタクトマスクアライナー[MJB4]
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
有償トレーニング
1,000
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF010
マスクアライメント露光装置
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
有償トレーニング
1,300
2,000
3,000
9,000
4,000
6,000
NPF011
i線露光装置
CR3 イエロールーム
リソグラフィー装置
技術代行専用
12,000
2,000
3,000
59,000
4,000
6,000
NPF012
ドラフトチャンバー（右）
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF013
ドラフトチャンバー（左）
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF014
有機ドラフトチャンバー
CR1 クリーンルーム
ウェット処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF015
酸アルカリドラフトチャンバー
CR1 クリーンルーム
ウェット処理装置
800
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF016
スターラーウォーターバス[SWB-10L-1]
CR1 クリーンルーム
ウェット処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF017
スマートウォーターバス[TB-1N]
CR2 イエロールーム
リソグラフィー装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF018
反応性イオンエッチング装置 (RIE)
CR1 クリーンルーム
エッチング装置
有償トレーニング
1,900
2,000
3,000
12,000
4,000
6,000
NPF019
多目的エッチング装置
CR5 クリーンルーム
エッチング装置
技術代行専用
6,400
2,000
3,000
33,000
4,000
6,000
NPF021
プラズマアッシャー
CR1 クリーンルーム
表面処理装置
800
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF022
UVクリーナー
CR1 クリーンルーム
表面処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF023
真空蒸着装置
CR5 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
4,000
2,000
3,000
20,000
4,000
6,000
NPF024
小型真空蒸着装置
CR5 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
1,600
2,000
3,000
10,000
4,000
6,000
NPF025
スパッタ装置
CR1 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
1,800
2,000
3,000
11,000
4,000
6,000
NPF026
RF・DCスパッタ装置
CR1 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
3,100
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF027
ECRスパッタリング装置
2F 一般実験室
成膜装置
有償トレーニング
4,600
2,000
3,000
24,000
4,000
6,000
NPF028
多元同時スパッタ装置
CR5 クリーンルーム
成膜装置
技術代行専用
3,100
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF029
メッキ装置
CR1 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
1,600
2,000
3,000
10,000
4,000
6,000
NPF030
プラズマCVD装置
CR5 クリーンルーム
成膜装置
有償トレーニング
3,100
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF031
原子層堆積装置[FlexAL]
CR5 クリーンルーム
成膜装置
技術代行専用
2,800
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF032
原子層堆積装置ミリング機能
CR5 クリーンルーム
ミリング装置
1,800
2,000
3,000
11,000
4,000
6,000
NPF033
アルゴンミリング装置
CR5 クリーンルーム
ミリング装置
有償トレーニング
1,800
2,000
3,000
11,000
4,000
6,000
NPF034
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
CR1 クリーンルーム
イオンビーム装置
技術代行専用
6,500
2,000
3,000
33,000
4,000
6,000
NPF035
イオンスパッタ(FIB付帯装置)
CR1 クリーンルーム
表面処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF036
FIB-SEM
CR1 クリーンルーム
イオンビーム装置
技術代行専用
8,000
2,000
3,000
41,000
4,000
6,000
NPF037
イオン注入装置[IW-630]
1F 一般実験室
イオンビーム装置
技術代行専用
9,500
2,000
3,000
57,000
4,000
6,000
NPF038
二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
2F 一般実験室
イオンビーム装置
技術代行専用
5,300
2,000
3,000
28,000
4,000
6,000
NPF039
オゾンクリーナー
2F 一般実験室
表面処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF040
高速昇降温炉(RTA)
CR1 クリーンルーム
熱処理装置
有償トレーニング
1,700
2,000
3,000
10,000
4,000
6,000
NPF041
ウェハー酸化炉
CR1 クリーンルーム
熱処理装置
有償トレーニング
1,300
2,000
3,000
9,000
4,000
6,000
NPF042
クリーンオーブン右
CR2 イエロールーム
熱処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF043
クリーンオーブン左
CR2 イエロールーム
熱処理装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF044
マッフル炉
CR1 クリーンルーム
熱処理装置
700
2,000
3,000
6,000
4,000
6,000
NPF045
触針式段差計
CR1 クリーンルーム
プローブ装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF046
走査プローブ顕微鏡1(SPM1)
[NanoscopeⅣ/Dimension3100]
CR1 クリーンルーム
プローブ装置
有償トレーニング
2,000
2,000
3,000
12,000
4,000
6,000
NPF047
走査プローブ顕微鏡2(SPM2)[SPM-9600/9700]
CR1 クリーンルーム
プローブ装置
有償トレーニング
2,000
2,000
3,000
12,000
4,000
6,000
NPF048
ナノサーチ顕微鏡(SPM3)[SFT-3500]
CR1 クリーンルーム
プローブ装置
有償トレーニング
2,600
2,000
3,000
15,000
4,000
6,000
NPF049
ナノプローバ[N-6000SS]
CR1 クリーンルーム
プローブ装置
技術代行専用
4,800
2,000
3,000
25,000
4,000
6,000
NPF050
四探針プローブ抵抗測定装置
CR1 クリーンルーム
測定装置
有償トレーニング
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF051
デバイスパラメータ評価装置
CR1 クリーンルーム
測定装置
有償トレーニング
1,300
2,000
3,000
9,000
4,000
6,000
NPF052
デバイス容量評価装置
CR1 クリーンルーム
測定装置
有償トレーニング
700
2,000
3,000
6,000
4,000
6,000
NPF053
ワイヤーボンダー
CR1 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
1,000
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF054
ダイシングソー
CR4 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
2,800
2,000
3,000
15,000
4,000
6,000
NPF055
スクライバー
CR4 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF056
研磨機
CR4 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF057
ラッピングマシン(CMP)
CR4 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
1,800
2,000
3,000
11,000
4,000
6,000
NPF058
ウェハー圧着機
CR1 クリーンルーム
加工装置
有償トレーニング
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF059
レーザー顕微鏡
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
1,000
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF060
短波長レーザー顕微鏡[VK-9700]
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
1,200
2,000
3,000
8,000
4,000
6,000
NPF061
短波長レーザー顕微鏡[OLS-4100]
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
1,600
2,000
3,000
10,000
4,000
6,000
NPF062
全焦点顕微鏡
CR1 クリーンルーム
観察装置
有償トレーニング
1,000
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF063
分光エリプソメータ
CR1 クリーンルーム
分光装置
有償トレーニング
1,000
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF064
解析用PC(分光エリプソメータ用)
2F データ解析室
分光装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF065
顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
CR1 クリーンルーム
分光装置
有償トレーニング
3,100
2,000
3,000
18,000
4,000
6,000
NPF066
顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
CR1 クリーンルーム
分光装置
有償トレーニング
1,200
2,000
3,000
8,000
4,000
6,000
1/2
平成２８年度ナノプロセシング施設（NPF）単価表
平成２８年４月１日設定
「ナノテクノロジープラットフォーム事
業」の対象となる場合（注２）
装置番号
施設名称
設置場所
装置分類
備考（注１）
共用施設等
運転等費
使用料
「ナノテクノロジープラットフォーム事
業」の対象外となる場合（注２）（注３）
技術指導共用施設等
運転等費
等費
使用料
技術指導
等費
（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）（円/時間）
NPF067
解析用PC(CADおよびSPM， FT-IR， Raman用)
NPF068
2F データ解析室
分光装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
磁気特性測定システム(MPMS)
2F 一般実験室
測定装置
有償トレーニング
1,500
2,000
3,000
8,000
4,000
6,000
NPF070
X線回折装置(XRD)
2F 一般実験室
エックス線装置
有償トレーニング
2,300
2,000
3,000
13,000
4,000
6,000
NPF071
薄膜エックス線回折装置
2F 一般実験室
エックス線装置
有償トレーニング
2,300
2,000
3,000
13,000
4,000
6,000
NPF072
微小部蛍光X線分析装置
CR1 クリーンルーム
エックス線装置
有償トレーニング
1,100
2,000
3,000
7,000
4,000
6,000
NPF073
解析用PC(CADおよびX線用)
2F データ解析室
エックス線装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF074
エックス線光電子分光分析(XPS)装置
2F 一般実験室
エックス線装置
2,500
2,000
3,000
11,000
4,000
6,000
NPF075
解析用PC(XPS用）
2F データ解析室
エックス線装置
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF076
解析用PC(一般解析用)1
2F データ解析室
その他
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF077
解析用PC(一般解析用)2
2F データ解析室
その他
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF078
解析用PC(一般解析用)3
2F データ解析室
その他
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
NPF079
解析用PC(一般解析用)4
2F データ解析室
その他
500
2,000
3,000
5,000
4,000
6,000
有償トレーニング
有償トレーニング
その他
0
1,000
（1回）
0
1,000
（1回）
技術補助及び技術代行（注２）
その他
2,000
3,000
4,000
6,000
装置番号：NPFで装置管理のために使用している番号
設置場所：装置が設置してある部屋
装置分類：装置の利用目的や原理に応じて分類された区分
※この単価表に記載した金額に消費税等は含まれておりません。
（注１）「有償トレーニング」と記載された装置につきましては、最初のご利用の前に有償のトレーニングを受講して頂いております。
「技術代行専用」と記載された装置につきましては、原則技術代行のみでのご利用となります。
（注２）本約款の運転等費及び技術指導等費はナノテクノロジープラットフォーム事業の技術代行料及び技術補助料と下記の対応関係があります。
技術補助料=運転等費＋技術指導等費
技術代行料=運転等費＋技術指導等費
（詳細についてはFAQ：https://unit.aist.go.jp/tiaco/orp/ibec/ja/FAQ.htmlの3-6をご参照ください。）
（注３）成果非公開でご利用の場合は、ここに記載された金額の他に15%の「運営管理費」が加算されます。ご了承ください。
平成28年度のご利用につきましては、ユーザーのご所属により、課金額に下記の係数が掛かります。その他、支援形態や成果公開の可否によって課金額が変わることがございます。詳しく
はNPF事務局（[email protected]）にお問い合わせください。
中小企業(中小企業支援法第2条)　0.5
大学及び公的研究機関　0.8
上記に該当しない場合は　1
その他、「連携千社の会」の会員法人で、ファーストトライアルユースサービスをまだご利用いただいていない法人に関しましては、最初のご利用の内15万円分まで利用料を割り引き致しま
す。詳しくはNPF事務局（[email protected]）にお問い合わせください。
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