マイクロチップレーザー: ⇒手の平サイズでロボットや自動機への搭載が容易 ⇒高出力パルスレーザーで問題となるレーザーの伝送が不要 高出力小型パワーレーザー: ⇒高出力で高繰り返しのため、スループットが大幅に向上 ⇒LD適用により長高寿命・高効率でダウンタイムが少ない ⇒ユーティリティ含めオールインワン ⇒クリーン環境以外でも使用可能な高い耐環境性を実現 応用事例 マーキング、微細機械加工、切断、フォーミング、スクライビング、クリーニング、材質改善(ピーニング) イグニッション、3Dプリンター、分光、LIDAR、イメージング、テラヘルツ光源、メディカル、エンターテイメント 仕様は2015年10月時点の計画中のものであり、変更になる可能性があります。 また、皆様のニーズに応じ、適宜変更していく予定です。 マイクロチップレーザー 高出力小型パワーレーザー ピーク出力 約100MW(最大500MW) 約30MW(最大100MW) 平均出力 約2W(最大10W) 約300W(最大900W) 波長 1064nm (118nm~300mmまで設計可能) 1064 nm (波長変換で532、355nmも対応可能) エネルギー 20 mJ (最大100mJ) 1J (最大3J) パルス幅 400ps-1ns (<100ps~10nsまで設計可能) 10-40ns 繰り返し周波数 100Hz 300Hz ビーム径 f5-6mm 約f15mm 偏光 直線偏光 直線偏光 M2 <2 約10 装置寸法 重量 電源容量 <20mJ時 ヘッド部:W100 x D150 x H60mm 開発機(電源含む、チラー除く): 電源部:19inchラック(3U~4U) W1200 x D2400 x H1800mm <3mJ時(現行機) ヘッド部:f8mm x 40mm 電源部:W280 x D350 x H160mm ヘッド部重量 <1kg(@20mJ時) <200g(@3mJ) 数百W(@100mJ時) バッテリー駆動(@3mJ) 将来機(電源、チラー含む): W1200 x D1700 x H1600mm 約2000kg 約25kW(チラー含む) 冷却 >30mJの場合要水冷 水冷 耐環境温度 10-30℃ 10-30℃(但し結露なきこと) 特徴 パッシブQスイッチ ヘッド姿勢に因らず使用可能 据付調整後は光学系の調整不要 ランニングコスト・ダウンタイム大幅低減
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