MiniLab 125 series
フレキシブル薄膜実験装置シリーズ
“Covers from R&D tool to low volume production in a professional environment”
R&D から小規模生産までカバーするロードロック式真空装置 MiniLab シリーズ最上位機種
MiniLab-125 参考写真
Sputtering Sources
Sample Platen
装置寸法：1,700(W) x 590(D) x 1450(H)mm
4inchカソード x 3（*最大4）
基板800℃加熱回転式基板ホルダ
【構成可能プロセス】
◉ 抵抗加熱蒸着方式・
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・抵抗加熱源（7cc）x 12源（最大）, 有機蒸着源（最大基板Φ250mm）x 4源
◉ 電子ビーム蒸着方式・・・7cc x 4源, もしくは4cc x 6源マルチターレット式ソースチェンジャー
◉ スパッタリング・
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・2 , 3 , 4 or 6 DC/RFマグネトロンスパッタソース
（フレキシブルヘッド式）x 4
【装置標準構成】
◉ チャンバー：D型ステンレス水冷式チャンバー 500(W) x 500(D) x 500(H)mm
◉ 真空排気系：ターボ分子ポンプ 700ℓ/sec ロータリーポンプ 28㎡/hr
◉ ピラニー真空ゲージ, or バラトロンゲージ+MFCによるAPCコントロール
◉ 到達真空度：8x10-7mbar
◉ 水晶式膜厚モニタ, コントローラ
◉ 基板シャッター, 自動切替マスクカルーセル
（自動マルチシャッターチェンジャー）
◉ PLC自動真空排気/プロセスコントロール Windows専用ソフトウエア
（もしくは手動プロセス制御）
【オプション】
◉ 基板加熱（石英ランプ加熱Max500℃, 抵抗加熱ヒーターMax800℃）, 基板ペルチェ冷却
◉ 基板上下自動昇降, 基板回転
◉ ドライポンプ
◉ ロードロック自動搬送機構（枚葉式 or バッチ式）