パラジウム膜水素ガス精製装置 パラジウム膜水素ガス精製装置は、マイクロチャンネル パラジウム膜プロセスを利用し、半導体アプリケーション 用に超高純度水素ガスを供給します。 O2,CO,CO2,H2O,CH4,N2を含む全ての出口不純物は、 低いppbレベルまで除去されます。 水素ガスは、H2入口コネクションを経て、システム内に送 られます。水素ガスがパラジウムセルに流れ、膜を通っ て、超高純度水素のみが精製側へ流れます。精製され たガスは、出口コネクションに流れます。パラジウムセル の運転温度は、400℃で、トラップされた不純物は、排気 ガスラインを通って排気されます。スタートアップとシャッ トダウン中に精製装置をパージするために、窒素パージ PS7-PD05 システムが内蔵されています。 □用途 □標準仕様 ・ マイクロプロセッサーPLC ・ ガスクロマトグラフィ(GC) ・ 窒素パージシステム ・ 分析機器のゼロガス/キャリアガス ・ 排気ガスベントライン ・ 窒化ガリウム(GaN)エピタキシャル ・ 熱交換器付き電気ガスプリヒーター ・ SiCエピタキシャル ・ 閉ループ温度コントロール ・ Ⅲ/V、Ⅱ/Ⅵ MOCVD □寸法図 ・ 燃料セル ・ 太陽電池 ・ カーボンナノチューブ □流量グラフ 330 343 【FRONT】 333 23 □サイズ一覧 型式 330 【BACK】 最大流量 (入口圧力180psig、出口圧力0psi) PS7-PD05-8 8 slpm PS7-PD05-21 21 slpm PS7-PD05-50 50 slpm 393 【SIDE】 *ご利用の入口圧力条件での最大流量は、流量グラフをご参照下さい。 【mm】 □機械仕様(全サイズ共通) 精製ガス H2 入口ガス条件 H2: 4.0N (99.99％) パーティクルサイズ 最大20μ、0-35℃、＜0.97MPa 計装エアー/Zパージ供給 10μフィルターに通したCDA/N2 最小-最大圧力：0.48-0.69MPa 窒素パージ 純度99.95％以上 最小－最大圧力：～0.48-0.69MPa 不純物除去 H2O,O2,CO,CO2,N2,CH4,NMHC 入口パーティクルフィルター 0.5μ(標準) 最大圧力損失 180 psid 運転温度(標準) パラジウムセル：400℃ 適用コード/規格 米国電気基準、CEマーキング <1 ppb □機械仕様 型式 寸法(キャビネット)、重量 PS7-PD05-08 前1m 左右0.1m フィードガス入口：1/4インチMVCR 精製ガス出口：1/4インチMVCR ブリードガス出口ベント：1/4インチMVCR 窒素パージ入口：1/4インチMVCR ニューマティック入口：1/4インチFNPT コネクション 排気ガス温度 主電源 PS7-PD05-50 343(H)mm×330(W)mm×384(D)mm < 15 kg 装置周囲間隔 排気ガス流量 PS7-PD05-21 周囲温度+30℃ 0.2 slpm 0.5 slpm 1.1 slpm 250W 350W 550W 電源 100-120 VAC,単相、50/60 Hz 200-240 VAC,単相,50/60 Hz 設置 屋内、大気温度5-35℃ アップ・テック・ジャパン株式会社 〒261-0012 千葉県千葉市美浜区磯辺5-7-2-202 TEL:043-270-4305 FAX:043-216-5838 http://uptechjapan.com
© Copyright 2024 ExpyDoc
