平成26年度 実用研究 研究機関:新潟県工業技術総合研究所 下越技術支援センター ワイドギャップ半導体を使った電力変換回路の特性評価 研究概要 ワイドギャップ半導体デバイス※1と従来のシリコンデバイスの特性 を測定・評価してカタログには載らない長所、短所を把握し設計ノ ウハウを習得する。 研究項目 ・ハーフブリッジ回路※2のシミュレーション、設計、試作 ・シリコントランジスタとの比較(電力変換効率など) ※1ワイドギャップ半導体とは・・・ ○半導体の禁制帯幅がシリコン(1.12eV)に比べ大きいこと。 ○高耐圧、低損失、高温駆動が可能。 ○炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)が製品化されている。 ※2ハーフブリッジ回路とは・・・ ○2個のトランジスタを交互にON/OFFして信号を変形する電力 図 ハーフブリッジ回路 変換の基本回路 新潟県工業技術総合研究所
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