豊田工業大学ナノテクプラットフォーム利用者各位
日頃は本学ナノテクプラットフォームをご利用いただきありがとうございます。
この度、ナノテクPF活動の一環として、下記の講演・実習会を開催いたします。
ご興味がおありの方は、ぜひご参加いただきたく、ご案内申し上げます。
記
「フォトレジスト材料とプロセス技術-技術紹介と実習」
日時：10月15日（木）13:30～
場所：講演は大会議室（１号棟３階）、実習は新クリーンルーム
参加費：無料
Ⅰ．講演
講師：安藤友之氏（東京応化工業株式会社）
フォトレジスト材料は、リソグラフィ技術を支えるために高度に発展してきた。
現在、様々なフォトレジスト製品が製造されている。
微細加工を適切に行うには、その材料特性と、実際のプロセスにおけるポイント
を踏まえることが重要となる。
これらのいくつかを紹介する。
Ⅱ．実習
フォトレジストのパターン形成実験
参加をご希望の方は、豊田工業大学研究支援部研究協力G安田
までメールにてご連絡ください。
e-mail；[email protected]
以上

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