UVーオゾン処理機 (自作) 27 何ができるのか? 基板表面上を洗浄できる。 構成 UVランプ 蓋 チャン バー 静電除去装置 放電 試料 試料を封入したチャンバーに、静電気除去装置(高電圧発生 の際オゾンを生じる)とUVランプによりオゾンを発生させ、 そのオゾンにより試料表面の有機物を取り除く。 オゾン O3: 乾いた気体酸素中の放電で得られ、また 空気への紫外線照射で発生する。毒作用が 1.27Å O 1.27Å 強く、濃いものは呼吸器を侵す。微量でも O 117° O 長時間吸入すると有害である。 特徴 有機物をオゾンによって分子オーダーで取り除くことが できる。 実績 ・研磨後のプリズムのクリーニング ・UVの併用により、有機層の除去効果が向上する。 H C C H + O3 CO2 , CO , H2O H 作成者:平野
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