UVーオゾン処理機

UVーオゾン処理機
(自作)
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何ができるのか?
基板表面上を洗浄できる。
構成
UVランプ
蓋
チャン
バー
静電除去装置
放電
試料
試料を封入したチャンバーに、静電気除去装置(高電圧発生
の際オゾンを生じる)とUVランプによりオゾンを発生させ、
そのオゾンにより試料表面の有機物を取り除く。
オゾン O3: 乾いた気体酸素中の放電で得られ、また
空気への紫外線照射で発生する。毒作用が
1.27Å O 1.27Å
強く、濃いものは呼吸器を侵す。微量でも
O 117° O
長時間吸入すると有害である。
特徴
有機物をオゾンによって分子オーダーで取り除くことが
できる。
実績
・研磨後のプリズムのクリーニング
・UVの併用により、有機層の除去効果が向上する。
H
C
C
H
+
O3
CO2 , CO , H2O
H
作成者:平野