HDの超薄膜形成プロセス技術
当社グループの持つ、極めて高い生産性を誇る真空成膜技術
をベースに、市場の高容量化ニーズにこたえています。
昭和電工は世界No.1シェア
●HDの世界シェア
●HDの記録容量推移
H社（内製）
15％
1400
S社（内製）
30％
1200
1000
GB/PL
W社（内製）
24％
昭和電工
27％
800
2.5inch
1.89inch
600
3.5inch
400
F社
4％
200
0
2004
記録メディア専業メーカーとして世界シェアNo.1※
（HDD出荷台数≒5億台/年、メディア生産量≒10億枚/年）
※当社調べ
2006
2008
2010
2012
2014
2016
当社は常に世界に先駆けて、
メディアの最大記録容量
および量産化を実現しています。
超薄膜技術
●ナノスケールでの多層薄膜形成技術
●原子レベルの
エピタキシャル結晶成長技術
50nm＠500GB/pl
Co(hcp)
1bit
13nm
Ru(hcp)
磁気記録層（×5∼6層）
Ru中間層（×2層）
シード層（×1層）
10∼15層
Total≒100nm
軟磁性AFC（×3層）
密着層（×1層）
倍率：×800K
20nm
基 板
倍率： ×4M
5nm

営業所で保存管理の必要な運行管理・整備管理関係の帳票類一覧

5）印刷会社のCase Study

『ミニベロ・折りたたみ』『マウンテンバイク』

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船舶陸上給電用周波数変換装置