大村開発研究所 OS-750 概略図&仕様 2014 年 11 月現在 大村ラボ

大村開発研究所
OS-750 概略図&仕様
2014 年 11 月現在
大村ラボ
(仕様)
シート幅:770mm
塗工幅
UV1 灯 160W×1
:マイクログラビアヘッド
N2 パージ有り
MAX750mm
:スロットダイヘッド MAX 300mmor750mm
基材幅
:マイクログラビアの場合
スロットダイの場合
現反
ロールサポート水平型
第1~第3カウンターフロー式
第1~第2下部パネルヒーター有り
第4~第5エアーバー式
150mm~760mm
第1~第2温度設定 40℃~150℃ 第 3~第 5
150mm~760mm
第1~第2パネルヒーター40℃~300℃
基材厚さ:基材幅と関係有り 25μ~188μ 張力全幅 1kg~30kg
機械速度:0,1m/min~50m/min
乾燥炉 2m×5 ゾーン=10m
お勧め塗工速度 5m/min~50m/min
クリーン度
全上のみ吹出し
ヘッド部クラス 500~1000 巻出し部 3000~5000
付帯設備:コロナ処理機
:コア 3or6 巻径 MAX600mm or 重量MAX190kg コア長さ MAX900mm
40℃~175℃
赤外線厚さ計