2014/5/12 Progress Report Ito
!"#$"%&'()*+における分光器スペクトル'
()*+ 分光分布
光学系アラインメント
＋高次光カットミラー調整
!"#!$%%&%#'))
アンジュレーター光#
'*#蛍光板
ビームフォーカス位置#
最適化のために使用した#
.十字ワイヤ#/01,-23#
設置試料ホルダ
+,,#-ｍ
!"#!$%%&%#'(
試料位置スポットサイズ
100μm (V) x 300μｍ (H)
強度は弱くなるが位置、形状は#
ほぼ変化しないことを確認
光学系アラインメント後の分解能チェック
hv =140 eV (G1)
15
T=20K,Ana#5, 60x30, Pass20
EF = 136.03
Resolution = 0.0412
ΔE = 41 meV
通常利用状態
x10
3
10
T=20K, Pass20, 60x30, Ana#3
EF = 136.039
Resolution = 0.0128
3000
2000
1000
ΔE = 13 meV
hv =140 eV (G1) 最高分解能
5
0
0
-0.2
5000
-0.1
0.0
hv =370 eV (G2)
0.1
0.2
-0.2
-0.1
0.0
0.1
0.2
hv=370eV
T=20K, Ana#5, 70 x 35, Pass100
EF = 366.531
Resolution = 0.0766
50
200 eV (G1)
通常利用はhv/ΔE 3,000
ΔE = 77 meV
フラックス 10^11 phs/s
最高分解能
200
800 eV (G2)
通常利用はhv/ΔE 2,000
フラックス 10^10 phs/s
4000
3000
2000
1000
0
-0.4
-0.2
0.0
0.2
アニール条件確認
0.4
試料表面処理＋分析系
立ち上げ
4556フォーカス位置確認
Alフィルター透過率およびM4高次光カットミラー反射率
1.0
Al Filter transmission
M4 Mirror (Si X 3) Reflectivity
0.8
0.6
0.4
0.2
0.0
3
4
5
6
7
8
9
2
100
3
4
5
6
7
8
9
1000
光エネルギー
hv = 40 eV (G1) における高次光カット効果の確認
Logプロット
7
10
6
10
AuHO40eVOFFy
AuHO40eVONy
AuHO40eVAlONy
7
10
EK = 70 eVのカットは
Al フィルターが効果的
6
300
1.5
6
10
3rd?
10
200
1.0
5
4th?
4
10
x10
(VB)2nd
5
10 100
Au4f 内殻 (次数 x
0.8
40 eV -84 eVが重
なってしまい定量 0.6
的評価は難しい)
0.4
6
5
1.0
0.5
0.2
5th?
4
10
4
10
0
0.0
0.0
3
10
-0.2
3
10
3
-0.5
10 -100
50
100
150
200
x10
3
10
10
AuHO40eVOFFy
AuHO40eVONy
AuHO40eVAlONy
2.0
6
(VB)1st
[I=5E7]
x10
7
10
線形プロット
-0.4
50
100
150
200