2014/5/12 Progress Report Ito !"#$"%&'()*+における分光器スペクトル' ()*+ 分光分布 光学系アラインメント +高次光カットミラー調整 !"#!$%%&%#')) アンジュレーター光# '*#蛍光板 ビームフォーカス位置# 最適化のために使用した# .十字ワイヤ#/01,-23# 設置試料ホルダ +,,#-m !"#!$%%&%#'( 試料位置スポットサイズ 100μm (V) x 300μm (H) 強度は弱くなるが位置、形状は# ほぼ変化しないことを確認 光学系アラインメント後の分解能チェック hv =140 eV (G1) 15 T=20K,Ana#5, 60x30, Pass20 EF = 136.03 Resolution = 0.0412 ΔE = 41 meV 通常利用状態 x10 3 10 T=20K, Pass20, 60x30, Ana#3 EF = 136.039 Resolution = 0.0128 3000 2000 1000 ΔE = 13 meV hv =140 eV (G1) 最高分解能 5 0 0 -0.2 5000 -0.1 0.0 hv =370 eV (G2) 0.1 0.2 -0.2 -0.1 0.0 0.1 0.2 hv=370eV T=20K, Ana#5, 70 x 35, Pass100 EF = 366.531 Resolution = 0.0766 50 200 eV (G1) 通常利用はhv/ΔE 3,000 ΔE = 77 meV フラックス 10^11 phs/s 最高分解能 200 800 eV (G2) 通常利用はhv/ΔE 2,000 フラックス 10^10 phs/s 4000 3000 2000 1000 0 -0.4 -0.2 0.0 0.2 アニール条件確認 0.4 試料表面処理+分析系 立ち上げ 4556フォーカス位置確認 Alフィルター透過率およびM4高次光カットミラー反射率 1.0 Al Filter transmission M4 Mirror (Si X 3) Reflectivity 0.8 0.6 0.4 0.2 0.0 3 4 5 6 7 8 9 2 100 3 4 5 6 7 8 9 1000 光エネルギー hv = 40 eV (G1) における高次光カット効果の確認 Logプロット 7 10 6 10 AuHO40eVOFFy AuHO40eVONy AuHO40eVAlONy 7 10 EK = 70 eVのカットは Al フィルターが効果的 6 300 1.5 6 10 3rd? 10 200 1.0 5 4th? 4 10 x10 (VB)2nd 5 10 100 Au4f 内殻 (次数 x 0.8 40 eV -84 eVが重 なってしまい定量 0.6 的評価は難しい) 0.4 6 5 1.0 0.5 0.2 5th? 4 10 4 10 0 0.0 0.0 3 10 -0.2 3 10 3 -0.5 10 -100 50 100 150 200 x10 3 10 10 AuHO40eVOFFy AuHO40eVONy AuHO40eVAlONy 2.0 6 (VB)1st [I=5E7] x10 7 10 線形プロット -0.4 50 100 150 200
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