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■ 2014 年 10 月 有機合成化学協会誌の 10 月号に有機合成化学協会賞(技術的なも の)受賞論文(総説)が掲載されました。 Pーキラルホスフィン配位子の合成と触媒的不斉合成への利用 今本恒雄,杉矢 正,大原宣彦,田村 健 有機合成化学協会誌,2014, 72 , 1084-1096. t-Bu Me
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BisP*
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QuinoxP*
目
次
はじめに 1. P-キラルホスフィン配位子に関する歴史的背景 2. ホスフィン—ボランを用いる P—キラルホスフィン配位子の合成 2.1 光学活性 1,2-ビス(ジアリールホスフィノ)エタンの合成 2.2 P-キラルトリアルキルホスフィン配位子(BisP*と MiniPHOS)の合成 2.3 ロジウム錯体触媒不斉水素化のエナンチオ選択性発現機構 3. キラルビスホスホランおよび類縁配位子の合成 4. 三象限遮蔽不斉ジホスフィン配位子 5. 空気中で安定な P-キラルジホスフィン配位子(QuinoxP*と BenzP*)の合成 5.1 QuinoxP*の合成 5.2 BenzP*の合成 6. P-キラルホスフィン配位子の工業的製造法 7. QuinoxP*と BenzP*の不斉触媒能 7.1 不斉水素化反応 7.2 不斉水素化以外の反応への適用例 8. その他の P-キラルホスフィン配位子 おわりに 謝 辞 文 献