4-11 チャープパルス増幅を利用した光発振器内での強光電磁場発生器

機械・装置
No. 4-11
チャープパルス増幅を利用した光
発振器内での強光電磁場発生器
従来のレーザー増幅システムとは異なり、高エネルギーの大型レーザー発振器と、そこから出
射された光パルス列を増強する光キャビティーを想定し、共振器内でレーザー加速等の高強度
光相互作用を起こします。これにより高繰り返しかつ安定な相互作用が実現できます。
技術の特徴
これまでは、超短パルス発振器から出てきた弱い光パルスをチャープパルス増幅法によ
り、強度を強め、それをターゲットに照射することでレーザー加速等の高強度光相互作用
の研究等が行われてきました。この方法ではレーザーシステムは複雑化し、安定動作
や高繰り返し相互作用は不可能でした。この技術は、そのような光増幅システムを想定
せず、大型の超短パルスモードロック発振器を想定することで、安定で高繰り返しの高強
度光パルスが発生できます。更にここから出射された光パルス列を、同じく大型の光
キャビティーに閉じ込めることで、また、相互作用をキャビティー中で実行することで、更
に高強度の相互作用が可能になります。
Power Supply
Vacuum Chamber
O.C.
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Gain
Compressor
I.M.
Compensator
Mode
Locker
Stretcher
Enhancement Cavity
Power Supply
CPA in Optical Cavity
Multipass Cavity
Quantum Beam Generation
10 GeV electron acceleration
従来技術との比較
従来法では、装置が複雑で不安定。繰
返しも励起レーザーの繰返し性能で制限
されていた。
本件技術は、共振器なので、安定であり
繰返しも大幅に高くなる。
研究のステージ
基礎研究段階
Interaction: ～1m capilaly discharge
利用分野
MHz コヒーレントX線発生器
MHz レーザー電子加速器
MHz レーザーイオン加速器
知財関連情報
特許第5361054号
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