2016年1月13日(水)~ 15日(金)「半導体

奥野製薬工業㈱
展示会出展のご案内
記
会
期 : 平成 28 年 1 月 13 日(水)~ 15 日(金)
10:00 ~ 18:00(最終日は 17:00 終了)
開催場所 : 東京ビッグサイト 東 6 ホール
小間番号 : 東 52-20
ご来場の際は、招待券をご持参下さいますようよろしくお願いします。
出展品目
◎L/S=2/2μmの超微細回路形成および最終表面処理プロセス(トップUFPプロセス)
◎硫酸銅めっき添加剤
・スルーホールフィリング用(トップルチナLTF)
・ビアフィリング用(高速めっき対応)(トップルチナHV)
・高スローイングパワー(トップルチナHT)
・銅ピラー用(トップルチナCP)
◎無電解銅めっき関連
・ナノ銀触媒使用(NACEプロセス)
・水平搬送装置対応アルカリイオンキャタリストプロセス(OPC H-TECプロセス)
・PETへの無電解銅めっきプロセス(OPC CULMプロセス)
・SAP工法対応ポリイミドフィルムへのめっきプロセス(SAPINAプロセス)
・銅素材への黒色化処理液および後処理剤(OPCブラックカッパー/OPCブラックキープ)
◎独立回路基板用処理薬品
・高耐食性無電解Ni-P/置換Auめっきプロセス(ICPニコロンHFP/フラッシュゴールド330H)
・無電解Pd/Auめっきプロセス(トップパラスプロセス)
・低膜厚無電解Ni-P/Pd/Auめっきプロセス(トップTNPGプロセス)
・ファインピッチ用無電解Ni-Pめっき液(ICPニコロンFPF-FL)
ブース内プレゼンテーション
L/S=2/2μmの超微細回路形成および最終表面処理プロセス
独立回路基板用処理薬品
1/13 (水) 11:30 14:00
1/14 (木) 11:30 14:00
1/13 (水) 14:30 15:00
「ICPニコロンHFP/フラッシュゴールド 330H」
PETへの無電解銅めっきプロセス
硫酸銅めっき添加剤「トップルチナ」シリーズ
1/14 (木) 14:30 15:00
1/15 (金) 14:30
1/15 (金) 11:30 14:00 15:00
製品紹介映像
「ナノ銀触媒を用いた無電解銅めっきプロセス~NACEプロセス~」
「硫酸銅めっき添加剤トップルチナシリーズ」