キャビネットいらずで薄膜作製
ミニマル集光型 CVD 装置
CVD(Chemical Vapor Deposition) system for Minimal Fabs
●ハーフインチウェハ上にシリコン薄膜を熱ＣＶＤ成長
●ミニマルファブ仕様に準拠した筐体を使用
●共通仕様のウェハ搬送機構 (ＰＬＡＤ)
●ウェハを入れたミニマルシャトルを置き、ボタンひとつで
ウェハ搬入・プロセス・搬出の自動運転
このセットで
ガス検知器を内蔵
OK !!
集積ＭＦＣ・バルブ
ユニットを内蔵
プロセス用
ガスボンベを内蔵
除害筒を内蔵
主な仕様
●プロセス部
方式
： 縦型フェイスアップ方式
基板
： ミニマル規格ハーフインチウェハ
加熱温度
： 1000℃（制御放射温度計測定値）
基板回転数 ： 0 ～ 10rpm
●制御部
使用ガス
： N2 , Ar , H2 , SiHCl3 , ClF3 , B2H6
シーケンサによる全自動運転
基板加熱コントロール
異常処理動作、操作・自動インターロック
●その他
用役
： AC100V、水素希釈用窒素、圧縮空気、NW25 排気
サイズ
： W294×H1440×D450　２筐体
ミニマル集光型ＣＶＤ装置 全体図
集光加熱ランプ
制御部
リアクタ
支燃キャビネット
可燃キャビネット
MFC・バルブユニット
原料ボトル
除害筒
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ファブシステム研究会会員
2014112501C

Heated ion implantation for SiC power devices - NCCAVS