こちら - ナノテクノロジービジネス推進協議会

BIZMATCH
@ nano
tech 2008
はじめに
ジェトロとナノテクノロジービジネス推進協議会（NBCI）は、ナノテク分
野での企業コラボレーションを促進するため、世界最大級の国際ナノテ
クノロジー総合展・技術会議「nano tech 2008」において、企業交流会
を開催いたします。
ジェトロでは、ナノテクシーズを有する海外企業のプ
レゼンテーションと、海外企業と国内企業との商談の場を提供します。
前回は、有望な技術を有する海外企業、12 カ国から 17 社が来日し、日
本企業 50 社との間で計 77 件のミーティングが活発に行われました。
海外企業とのビジネスをご希望される国内ナノテク関連企業の皆様、ぜ
ひ、
ご参加ください。
開催概要
イベント名　企業交流会「BIZMATCH @ nano tech 2008」
開催場所東京ビッグサイト展示会場東 5 ホール内（東京都江東区有明 3-21-1）
商談会：ジェトロブース
海外企業プレゼンテーション：シーズ＆ニーズセミナー B 会場
開
催
日 2008 年 2 月 13 日
（水）－ 15 日（金）　3 日間
参加対象者　ナノテク分野で海外企業とアライアンスを希望する国内企業・団体
参加海外企業　9 カ国 16 社（予定）
参加費無料
主催日本貿易振興機構
（ジェトロ）
共催ナノテクノロジービジネス推進協議会
（NBCI）
後援 nano tech 実行委員会
スケジュール
2月13日
（水）
会　場
シーズ＆ニーズ
セミナー B 会場
ジェトロブース
10：30 ～ 11：20
11：30 ～ 12：20
12：30 ～ 13：20
13：30 ～ 14：20
14：30 ～ 15：20
15：30 ～ 16：20
16：30 ～ 17：20
基調講演
および
海外企業
プレゼン
テーション
15 分 /1 社
※同時通訳付
2月14日
（木） 2月15日
（金）
商談（7）
商談（14）
商談（8）
商談（15）
商談（2）
商談（9）
商談（16）
商談（3）
商談（10）
商談（17）
商談（4）
商談（11）
商談（18）
商談（5）
商談（12）
商談（19）
商談（6）
商談（13）
商談（1）
企業交流会
「BIZMATCH@nano tech　2008」のメリット
通訳付きなので安心！
確かな成果！
ご希望の方には通訳を手配します。安心してミーティン
グに臨んでいただくことが可能です。
前回は、海外企業 17 社が来
日し、日本企業 50 社と延べ
77 件の商談が行われました。
海外企業とじっくりお話しいただけます！
事前にお申し込みいただければ、ご希望の海外企業と
個室ブースで、One to One ミーティングをセットします。
商談直後には以下のような
アンケート結果を頂きました。
前回の開催結果
前回の企業交流会から生まれた成功事例の一部
参加海外企業　：　17 企業
１．日本企業 A 社は、海外企業 X 社との販売パートナー
シップ契約案件が進行中。同じく日本企業 B 社
及び C 社も、計測機器分野における協業が X 社と
の間で進行している。
参加日本企業　：　50 企業・団体
商談件数　：　77 件
２．日本企業数社は、海外企業 Y 社とのコンタクト継続
中。日本企業 D・E・F 社は共同開発について、G・
H 社は OEM について協議中。
イベント直後のアンケート結果
（日本企業に対するアンケートより）
イベント全体の評価は
いかがでしたか？
やや不満 3％不満参加者（日本企業）の声
関心を持たれた
海外企業、技術・製品は
ありましたか？
6％なし 10％満足・まあ満足 91％３．日本企業 I 社及び J 社は、海外企業 Z 社とNDA 締結。
あり 90 ％ ●展示ブースでは他社の人がいるので込み入った話が
できませんが、この形式では深く話せるのでとても有
効です。ありがとうございます。
●期待以上のコミュニケーションができました。良いイ
ベントだと思いますので今後も続けて下さい。
●初日に全社のプレゼンがあり、内容を理解できました。
●２日間ありがとうございました。
スペイン、イタリア、シ
ンガポール、英国、カナダ、オーストラリアと普段接触
がない国の状況を聞け、有意義でした。来年も誘って
下さい。
●通訳の方を手配していただいたので、コミュニケー
ションが十分にとれました。内容にも満足しています。
商談お申し込み方法
海外企業との
商談申し込みは
ウェブサイトから！
S T E P1 ウェブサイトへ
http://www.jetro.go.jp/events/nanotech/ へアクセス。
S T E P2 参加企業をチェック
本冊子またはウェブサイト上の海外企業一覧より、
ご関心ある企業をお探しください。
S T E P3 いよいよ商談申し込みへ
ウェブサイト上の「お申し込みフォーム」をクリックしてください。
STEP3-1　まず、お客様基本情報を入力してください。
STEP3-2　次に、商談スケジュールを入力してください。
2月13日
（水） 2月14日
（木） 2月15日
（金）
10：30 ～ 11：20
商談（7）
商談（14）
11：30 ～ 12：20
商談（1）
商談（8）
商談（15）
12：30 ～ 13：20
商談（2）
商談（9）
商談（16）
13：30 ～ 14：20
商談（3）
商談（10）
商談（17）
14：30 ～ 15：20
商談（4）
商談（11）
商談（18）
15：30 ～ 16：20
商談（5）
商談（12）
商談（19）
16：30 ～ 17：20
商談（6）
商談（13）
STEP3-3　最後に、商談希望先の海外企業と、通訳の希望を
入力してください。
→　全ての必須項目を入力されたら、送信してください。
S T E P4 商談日時のご連絡
お申し込み受付後、ジェトロはお客様のご要望をとりまとめ、
日時を調整の上、確定のご連絡を E-mail にて差し上げます。
本 E-mail が参加証となりますので、大切に保存してください。
※商談日程確定後、やむを得ない事情で参加を取り止められる
場合は、必ずジェトロまでご連絡願います。
S T E P5 商談会への参加
商談当日は余裕を持って会場へお越しください。
ジェトロが E-mail にて送付した参加証と名刺をご用意の上、
ジェトロ・ブースまでお越しください。
S T E P 6 nano tech 2008への入場手続き
nan o te ch 20 0 8へは、n a n o t e c h 公式サイト（ http://www.
ics-inc.co.jp/nanotech/）にて事前登録をされると、
展示会無料
招待券を郵送で入手できます。
技術プレゼンテーション（同時通訳付）
日時：2008 年 2 月 13 日 ( 水 ) 11：30 ～ 17：20
場所：東京ビッグサイト展示会場東５ホール内
目　次
材料・素材
シーズ＆ニーズセミナー B 会場
Ilika Technologies Ltd.
第 1 部　11:30 ～ 15:30
Nanocomp Ltd.
10
Nantero, Inc.
12
Oxonica
14
Tekna Plasma Systems Inc.
16
(仮題)
「世界のナノテク産業の現状と今後の国際連携の可能性」
基調講演
亀井　信一　氏
（株式会社三菱総合研究所　科学・安全政策研究本部　副本部長）
海外企業の技術プレゼンテーション ①（各 15 分）
Advanced Technology Development Facility, Inc.（米国）
超微細加工技術
Kislev Metal Ltd.（イスラエル）
超微細加工技術
SCRIBA Nanotecnologie S.r.l.（イタリア）
Advanced Technology Development Facility, Inc.
18
Kislev Metal Ltd.
20
SCRIBA Nanotecnologie S.r.l.
22
Surrey NanoSystems Ltd.
24
Surrey NanoSystems Ltd.（英国）
MEMS
8
Tactologic Ltd.（ハンガリー）
Gersteltec Sarl（スイス）
バイオテクノロジー ionscope Ltd.（英国）
JenLab GmbH（ドイツ）
環境・エネルギー Nanoexa（米国）
バイオテクノロジー
第 2 部　15:40 ～ 17:20
Gersteltec Sarl
26
海外企業の技術プレゼンテーション ②（各 15 分）
ionscope Ltd.
28
JenLab GmbH
30
Ilika Technologies Ltd.（英国）
Nanocomp Ltd.（フィンランド）
材料・素材
Nantero, Inc.（米国）
Oxonica（英国）
Tekna Plasma Systems Inc.（カナダ）
評価・計測
Advanced Surface Mechanics GmbH（ドイツ）
INNOWEP GmbH（ドイツ）
※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。
評価・計測
Advanced Surface Mechanics GmbH
32
INNOWEP GmbH
34
MEMS
お申込み方法
Tactologic Ltd.
S T E P1　ウェブサイトへ
環境・エネルギー
http://www.jetro.go.jp/events/nanotech/ へアクセス。
Nanoexa
36
38
S T E P2　お申し込み
お申し込みフォームをクリックし、必要事項を記入して下さい。
S T E P3　nano tech 2008への入場手続き
n a n o te c h 20 0 8へは、n a n o te c h 公式サイト
（ ht t p: // w w w.
i c s- in c .co. jp/nan ote ch /）にて事前登録をされると、
展示会無
料招待券を郵送で入手できます。
ジェトロメンバーズ会員募集
ナノテクノロジービジネス推進協議会 (NBCI) の会員募集
41
42
NBCI ナノビズマッチ・ロードマップ 2008 年版のお知らせ 44 - 45
ジェトロベンチャーインキュベーション in USA
46
ジェトロハイテク情報メールマガジン “Tiger Gate 通信 ”
48
材料・素材
Ilika Technologies Ltd.
住
所
電
話
英国
http://www.ilika.com
Kenneth Dibben House, Enterprise Road, Southampton
Science Park, Chilworth, Southampton SO16 7NS UK
設立年
担当者
(+44) 23 8011 1400
2004 年　従業員数
Mr. Takeshi Ishikawa
FA X
(+44) 23 8011 1401
25 名　資本金
役
職
Business
￡10 million
Development Director
会社概要
当社は、高スループットのコンビナトリアルケミストリを使用し
希望提携先：
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV □出資者 □その他
た材料開発の専門会社です。当社の技術は、自動車、エレクトロニ
クスおよび生物医学的なアプリケーションに応用可能で、これま
当社は、1）燃料電池用触媒、2）水素貯蔵材料、3）バッテリ、4）
での成果として、燃料電池用触媒、水素貯蔵物質、相変化メモリ材
薄膜技術、5）光エレクトロニクス、6）光学的コーティング、7）
料および角膜用絆創膏等の開発があります。当社は、契約に基づ
液晶、8）透明導電性酸化膜、9）ピエゾ効果素材、10）生体医学、
く共同研究サービスや開発した素材のライセンス提供を行って
11）太陽光発電等における新素材開発にご関心のある日本企業
います。
と共同開発を行うことを望んでいます。
テクノロジー・製品・サービス
主要顧客・特記
当社は、高スループットのコンビナトリアルケミストリを使用し
旭化成、Arcelor Mittal、Johnson Matthey、Shell Hydrogen BV、
て新素材を共同開発するサービスを提供しています。当社は、必
日本自動車メーカー、日本電気機器メーカー
要なアプリケーション向けに多数のサンプルを作成し、迅速に評
価・スクリーニングを行う独自技術を有しています。また当社は、
無機素材研究用の薄膜サンプル、および生体適合性ポリマー用の
インクジェット印刷インクの調合などを行ってきました。これら
の技術を使用することにより、適切な素材を発見する可能性を増
大しつつ、その発見プロセスを大幅に加速させています。さらに
当社は、自動車、エレクトロニクスおよび生体医学分野での顧客
のサポートを行ってきました。
当社は、高効率物理蒸着（HT-PVD）法を業界に先駆けて開発しま
した。この方法により、組成の異なる多数の薄膜を 1 回の処理で
蒸着できます。本設備は、UHV 条件で動作し、様々なソースを使
用して独自の基板アレイ（ターゲット）上にマルチエレメント（6
種類まで）を同時に蒸着できます。特許取得済の技術により、全エ
レメントの蒸着は同時に起こり、組成プロファイルは基板全面に
渡って精密に制御されています。この技術の特徴は、合成時に各
エレメントが適切に混合されることです。
8
9
材料・素材
Nanocomp Ltd.
住
所
Ensolantie 6, Fl-80710, Lehmo Finland
電
話
(+358) 13 316 616
フィンランド
http://www.nanocomp.fi
FA X (+358) 13 316 617
設立年
資本金 EUR 67,000
従業員数
17 名　1997 年　担当者
役職
Dr. Pekka Savander　VP
会社概要
当社は、基礎光学および応用光学の専門知識をハイテク製品に活
希望提携先：
□共同開発　□販売代理店　■ OEM　□ JV □出資者 □その他
用することを目的に設立されました。当社は、マスタリング、電気
鋳造の高い生産能力を持ち、ホットエンボス加工、ロールエンボ
当社の技術ポートフォリオを活かす事のできるパートナーを探
ス加工、射出成形用のニッケルスタンパーを年間数千単位で生産
しています。製品を共同開発し、製品を市場展開する際には、適切
することが可能です。
な分担生産の役割を担える、国内外において活躍している企業が
パートナーとして理想的です。
テクノロジー・製品・サービス
当社サービス：
・回折構造の設計
主要顧客・特記
IT・エレクトロニクスメーカー
当社が独自に開発した、厳密なスカラー回折原理に基づくアル
ゴリズムを、複雑な光学システムの設計、解析、シミュレーショ
ンに応用しています。
・ナノ・マイクロ構造のパターニングおよび微細加工
ナノメートルスケールのマスターを電子ビームリソグラフィ
で露光可能です。また、ミクロンオーダーの構造は、ホログラ　フィック干渉技術、またはレーザービームによる直接加工に　よっても実現できます。
・複製
高度な専門知識と生産技術に基づいた UV 硬化、ロール・ツー・
ロール方式のエンボス加工、ホットエンボス加工、プラスチッ
ク射出成型などの複製技術も提供します。
10
11
材料・素材
Nantero, Inc.
住
所
25-E Olympia Avenue, Woburn, MA 01801 USA
電
話
(+1) 781 569 0957
米国
http://nantero.com
FA　X
設立年
資本金従業員数
55 名　2001 年　担当者
役職
Dr. George Ghenciu　Director
of Materials Dept.
会社概要
当社は、カーボンナノチューブ（CNT）を使用した次世代半導体デ
希望提携先：
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　■ JV □出資者 □その他
バイス（メモリ、ロジック、その他半導体製品）を開発しています。
特にメモリ分野においては高密度不揮発ランダム・アクセス・
NRAM™ メモリと RFID を統合することによる、プリンタブル
メモリ「NRAM™」の開発を進めています。
RFID の開発や CNT 形成に特化したアプリケーションの開発を
行っているビジネスパートナーを探しており、以下の企業との
テクノロジー・製品・サービス
ミーティングを希望しています。
・マイクロエレクトロニクス企業やディスプレイメーカーへ部
主製品
「NRAM™」
は、DRAM、SRAM、
フラッシュメモリ、
そしてハー
品・部材を提供している企業
ドディスクストレージに代わるデバイスです。本製品は当社が独
・ITO に替わる新型ディスプレイ開発を検討している企業
占権を持ち、
ターゲットの市場規模は年間約 1 千億ドルです。
・プリンテッド・エレクトロニクス、特に RFID を開発している
企業
当製品は DRAM よりも速く、高密度であり、電力消費量は DRAM
やフラッシュメモリよりも大幅に少ないのにもかかわらず、フ
ラッシュメモリのようなポータブル性を持っています。また、環
境変化（高温、低温、電磁）にも高い耐性を持っています。さらに、
主要顧客・特記
不揮発性メモリメーカー、ディスプレイ及び同部品メーカー
不揮発性のチップとして、電源を切ってもデータを保存できる永
久データストレージとなります。
使用例としては、ブート、リブートが瞬時に行える「インスタン
ト・オン」コンピュータ、高密度ポータブルメモリとして数千の
曲を保存できる MP3、10 ギガバイトメモリの PDA、ハイスピー
ドネットワークのサーバ、その他多数が挙げられます。NRAM™
はスタンドアローンと組み込みメモリの両用途に対応できます。
12
13
材料・素材
Oxonica
住
所
電
話
英国
http://www.oxonica.com
7 Begbroke Science Park, Sandy Lane, Yarnton,
Kidlington, Oxfordshire OX5 1PF UK
FA X (+44) 1865 856 701
(+44) 1865 856 723　設立年
50 名　資本金
1999 年　従業員数
担当者
Dr. George Park
役
職
COO
希望提携先：
会社概要
当社は、ナノ素材の設計や応用に関する専門知識を活かし、海外
市場向けにナノ材料の開発を行っています。現在出荷している製
TM
TM
品には、ディーゼル燃料添加剤「Envirox 」、UV 吸収材「Optisol 」
があります。現在開発中の UV プロテクターの「SolacorTM」は、フ
リーラジカルを発生しない酸化チタンでできているので、様々な
□共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV □出資者 ■その他
TM
TM
当社は、現行製品の Envirox および Optisol を直接販売または
代理店経由で販売可能な顧客を求めております。また、現在開発
TM
中の Solacor 製品の顧客となり得る企業を探しております。
ポリマーを安定に存在させることが可能です。また、バイオマー
カー検出プラットフォームの「Nanoplex™」は、複数疾病マーカー
の超高感度同時検出が可能で、医療現場での検査レベルの向上と
リアルタイムの情報提供を可能にします。
主要顧客・特記
Stagecoach、Boots
テクノロジー・製品・サービス
Envirox™ 燃料燃焼用触媒は、ディーゼル駆動エンジンの燃費の
向上と汚染物質排出量を減らすために開発されました。本製品は
液体で、ディーゼル燃料と簡単に混合できます。エンジンの改造
は全く必要ありません。本製品は、予め混合した状態で燃焼室に
導入され、以下の 3 つの方法により燃費を向上します。
１．燃焼方法の改善
２．エンジン内部の廃棄堆積物の燃焼
３．二酸化炭素、未燃炭化水素、粒子状物質等の排出物の低減
TM
Optisol は、光安定性のある UV 保護材で、高性能な日焼け止め、
化粧品および老化防止製品の性能を改善することができます。当
製品は、以下のような効果をもたらします。
１．
UVA 保護効果の増大
２．光安定性による、UVA および UVB 保護の持続性向上
３．
フリーラジカル生成の最小化
14
15
材料・素材
Tekna Plasma Systems Inc.
住
所
電
話
カナダ
http://www.tekna.com
2935 Boulevard Industrial, Sherbrooke,
Québec J1L 2T9 Canada
(+1) 819 820 2204 FA
X (+1) 819 820 1502
設立年
資本金従業員数
50 名　1990 年　担当者
Mr. Eric Bouchard
役
職
Director, Business Development
会社概要
当社は、誘導プラズマ技術分野において世界を先導しています。
当社は、研究所レベルおよび工業規模のナノ材料合成用統合プラ
ズマシステムの設計、開発および建設を専門としています。
希望提携先：
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　■ JV □出資者 □その他
新ナノ材料の開発、および製品の商業化のために当社と共同開発
契約を締結する意向のあるパートナー企業を探しています。すで
に確立された市場と目標とする製品仕様を持ち、新技術や研究開
発のパートナーを求めている企業が理想的です。
テクノロジー・製品・サービス
当社は、誘導プラズマ技術分野において北米、アジアおよび欧州
に販売実績があり、ナノ粉末合成、粉末球状化およびコーティン
グ用の研究所レベルおよび工業規模の広汎な総合プラズマシス
テムの設計、開発および建設を行っています。当社の誘導プラズ
マ技術は、様々な動作条件の下で広範囲のガスを使用してプラズ
マを発生させることができ、高純度環境を保持しつつ酸化還元雰
囲気を実現するので、新しい化合物および粉末の処理法の開発が
※日本国内に総販売代理店有。
主要顧客・特記
当社は、世界中の産学界のパートナーとの協業を活発に進めてい
ます。当社の活動は世界の 4 大陸に渡り、顧客の地域別割合は北
米が 50％、アジアが 30％、欧州が 20％となっています。日本で
は、1992 年に活動を開始し、当社の事業の 15%を占めています。
可能です。
当社の誘導プラズマによる粉末化処理、粉末球状化、ナノ粉末合
成およびプラズマ溶射用プロセスのデモ施設は 4000 m2 に及び、
特定アプリケーションに対する技術の適応性の評価や、商業的生
産に使用することができます。
当社は、工業用生産および研究室向けに世界で 50 システム以上
を販売し、そのうちナノテクノロジー分野用のシステムが 80%
以上を占めています。また、金属粉末の球状化および高純度化、光
ファイバーのクラッディング、高純度コーティング等の広範なア
プリケーション分野でも活発に活動しています。
16
17
超微細加工技術
Advanced Technology Development
住
所
2706 Montopolis Drive, Austin, TX 78741 USA
電
話
FA X (+1) 512 356 3425
(+1) 512 356 7000　設立年
資本金従業員数
175 名　2004 年　担当者
Dr. Shuji Ikeda
Facility, Inc.
米国
http://www.atdf.com
役職 Director of Technology Dept.
会社概要：
希望提携先：
当社は、世界の半導体メーカー、装置・材料メーカー、そして大
□共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV　□出資者　学が最先端の研究開発を行う R&D ファウンドリーです。低コス
■その他（顧客）
トで新規ツール、材料を製造工程に導入できるようベースライン
プロセスの開発を行っています。当社は、新たなツール、材料、プ
当社は日本での事業拡大を目指しています。主要な日本企業に引
ロセスの開発を行う装置および材料メーカーに次世代のテスト
き続き研究開発のサポート、加工済みウェハ、分析サービスを提
ウェハを提供しています。
供していきたいと考えています。
テクノロジー・製品・サービス：
主要顧客・特記：
当社は薄膜やパターンで加工したウェハを提供することで、お客様
主要顧客 : AMD、UMC、Elpida、Texas Instruments、Infineon、Vesta
の開発プロセスをサポートします。
当社は 4,000 種類を超えるプロ
Technology、Intel、Thunderbird Technologies、Mattson、Soitec
セスフローを所有し、他のテストウェハメーカーよりも多くのサー
ビスを提供しています。
銅のブランケットウェハから電気的特性評
受賞 : Technology Innovation Showcase Award – SEMICON 2007
価用の先端 CMOS トランジスタ試験素子まで幅広く、
北米、
アジア、
欧州の 300 社を超える顧客に出荷しています。
昨年は、合計 10 万
枚を超えるウェハを出荷しました。
当社は、装置・材料メーカーの要望に応える新製品
「Nanopattern」
を開発しました。200 ミリメートルのシリコン基板上に 40-60 ナ
ノメートルのポリシリコン線（45 ナノメートルの相互間隔）を形成
することが特徴です。
当社の最新テクノロジーサービスを通じて、お客様は新規技術に投
資を行う前に、アイデア、材料、デザイン、デバイスを当社の施設を
使って検証することができます。当社の R&D ファウンドリーサー
ビスでは、
デバイス開発、
メモリおよびロジックの試験構造、
プロセ
スモジュールの開発、新たなデバイス構造の開発を提供していま
す。
この間、お客様の知的財産は完全な機密保持によって保護され
ます。
また、迅速な開発サイクルによって新製品を極めて短時間で
市場に投入することができます。ツールアクセスプログラムでは、
お客様の製品開発ニーズに沿って当社の最先端装置を利用するこ
とで、
投資コストを削減することができます。
18
19
超微細加工技術
Kislev Metal Ltd.
住
所
Hashikma 3, Azur 124578 Israel
電
話
FA X (+972) 3 559 2236
(+972) 3 650 0075 設立年
資本金従業員数
19 名　2005 年　担当者
Mr. Frish Ronen
役
職
イスラエル
CEO
会社概要：
当社は、様々な材料からナノサイズの結晶を開発、製造、販売し、
広範な製品の特性向上に役立てています。これらナノサイズの混
希望提携先：
□共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV　□出資者　■その他（顧客）
和剤は、強度、耐性、柔軟性、重量等、製品に使用される工業材料の
特性を大幅に改善します。
当社は、固体ナノ粒子を使用することで製品改良を検討されてい
る、グローバルに活躍されている日本のお客様を求めておりま
テクノロジー・製品・サービス：
す。
独自技術によって特殊処理されたナノ原料を物体に注入加工す
る製品の開発を行っています。本技術によって、物体の表面の研
磨処理時間を、従来の研磨作業と比べ大幅に短縮できるのが特徴
です。直径数センチのセラミック製リングの場合、ナノ原料によ
る加工後、研磨時間は 1 分から 5 秒に短縮され、大幅なコストダ
ウン、省エネが見込まれます。
また、このナノ原料は酸化を防ぐ特殊加工がなされているため、
加工後に物体の強度を高めることになります。
本技術は全ての物質に応用でき、機械部品、塗装、歯科用インプラ
ント等、様々な製品への応用が見込まれます。
20
21
超微細加工技術
SCRIBA Nanotecnologie S.r.l.
住
所
Viale G. Fanin 48, Bologna 40127 Italy
電
話
FA X (+39) 051 4200317
(+39) 051 4200334　設立年
資本金 EUR 18,750
従業員数
10 名　2005 年　担当者
Dr. Francesco Matacotta
役
イタリア
http://www.scriba-nanotec.com
職 CEO
会社概要：
当社は、イタリア国立研究所（CNR）のスピンオフ企業です。2005
希望提携先：
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV　□出資者　□その他
年に設立され、現在、設立者、4 人の上級ナノ技術者、およびパッ
ケージング自動化で業界をリードする IMA S.p.A. により経営さ
当社は、マイクロサイズの二次元アレイの読み取りにデジタルカ
れています。当社の使命は、ナノ技術に基づいたタグシステムを
メラを使用するため、ハードウェア改良およびソフトウェアの開
物流分野向けに開発することです。
発を行いました。よって、デジタルカメラの先進企業で開発を担
当されている（かつ決定権をお持ちの）方々とお会いすることを
テクノロジー・製品・サービス：
当社製品
「EN-CODE™」は、商品の追跡や偽造防止用にナノ技術を用
いたタグシステムであり、デジタル情報を保存する超微細光学二次
元符号を使用しています。EN-CODE™ は、特別に整形されたドット
希望しています。
主要顧客・特記：
IMA S.p.A. ( 主要製薬機器メーカー )
マトリックスホログラム「EN-TAG™」上に、30 キロバイト /㎝ 2 ま
でのデジタルデータを恒久的に保存します。デジタルデータは、
以下の 2 種類のリーダーシステムで読み取り、任意のコンピュー
タ（携帯 PC、スマートフォン、PC 等）に準リアルタイムで転送さ
れます。
リーダーシステム：
・市販カメラ
コンパクトカメラの改造品（キャノンのパワーショット A 550
およびその上位機種等）。この場合、イメージ収集・処理および
復号化機能は、独自のソフトウェアをインストールした PC、携
帯 PC、スマートフォン等により実行されます。
・カスタムリーダー
工業用カメラに基づいたリーダー装置で、イメージ収集・処理
およびデータ復号化ソフトウェアはボード上に実装されてい
ます。PC、携帯 PC、スマートフォン等に高速にデータを転送で
きます。
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超微細加工技術
Surrey NanoSystems Ltd.
住
所
電
話
英国
http://www.surreynanosystems.com
Unit 24 Euro Business Park, New Road,Newhaven
BN9 0DQ UK
FA X (+44) 1273 512311
(+44) 1273 515899　設立年
資本金従業員数 18 名 2006 年　担当者
役
Mr. Duncan Cooper　職
Director, Sales and Marketing
会社概要：
当社は、シリコン素材に替わる材料として注目されているカーボ
希望提携先：
□共同開発　□販売代理店　■ OEM　■ JV　□出資者　□その他
ンナノチューブ（CNT）やナノワイヤーなど、先端技術に利用され
ているナノ材料の生産用プラットフォームを提供しています。
研究グループ、大学関係者、および半導体メーカーとのミーティ
ングを希望しています。
テクノロジー・製品・サービス：
当社は、ナノチューブやナノワイヤーの作製のためのモジュ
ラー・プラットフォームである、
「NanoGrowth™」を提供します。
主要顧客・特記：
ITA-Trapani, Italy、IET-Poland、University of Surrey 他
本製品は、多用途に使える CVD/PECVD 用プロセッシングツール
であり、温度に敏感な基板上にも CNT を形成することが可能と
なります。
誘導結合プラズマ（ICP）を使った PECVD 法により、エネ
ルギーは表面の金属触媒に集中的に供給され、CNT 成
長時の基板温度を従来よりも低く保つことが可能です。これらの技術や先進的コントロールシステムを使うことにより、
高温環境に脆弱な基板上においても高精度の CNT 形成が可能に
なり、半導体産業等において利用可能性が広がります。
主要製品概要 :
NanoGrowth Catalyst - CNT の研究、
開発、
生産のための高性能ツール
特長 :
・内蔵型の PVD 触媒の導入
・中低温での CNT 成長方法
・内蔵型のウェハ / 基板の自動搬送
・基板サイズは 75 ～ 150 ミリメートル（3 ～ 6 インチ）
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バイオテクノロジー
Gersteltec Sarl
住
所
General-Guisan 26 1009, Pully Switzerland
電
話
FA X (+41) 21 728 35 83
(+41) 79 564 34 23 設立年
資本金 US$ 20,000
従業員数
8 名　2004 年　担当者
役職 CEO　Mr. Moshe Judelewicz　会社概要：
当社は、2004 年にスイスで設立され、SU-8 フォトレジストお
スイス
http://www.gersteltec.ch
希望提携先
■共同開発　■販売代理店　■ OEM　■ JV　■出資者 □その他
よびその関連製品のサービスと製品生産のソリューションプロ
バイダーとして成長してきました。当社は、MEMS、MOMES、バ
ナノチューブまたはナノ粒子を生産し、当社のノウハウを使用し
イオ MEMS および LIGA アプリケーション用 SU-8 光エポキシ
てジョイントベンチャープロジェクトを立ち上げ､ SU-8 機能製
を販売しています。当社の顧客には、バイオ医薬品製造、光通信、
品を開発して市場へ投入し、SU-8 光エポキシを生産ラインに追
ディスプレイ等の世界の大手企業が含まれており、また、新興企
加することに興味がある企業を探しています。
業および欧州の研究機関のプロジェクトにおいて卓越した役割
を果たしてきました。当社は、様々な MEMS、MOMES およびマ
イクロ流体分野で新しいソリューションを提供します。
主要顧客・特記
Samsung、BenQ、コダック、TECAN、日産化学工業、SemFab、
テクノロジー・製品・サービス：
Siemens、Du Pont、Tessera、ソニー、Dalsa、Leister、Rolex、
HK University Kowloon、CNRS、Microstencil
当社は、SU-8 光レジストおよび微細加工向けの特性を持った新
機能 SU-8 フォトレジストの製造および商業化を行っています。
顧客企業と密接に協力することでそのニーズを理解し、カスタム
化された製品とサービスを提供します。当社は、ローザンヌ工科
大学（EPFL）等の大学パートナーと共に専門知識と製品の性能試
験を提供することにより、微細構造エポキシシステムの最適な組
み合わせを顧客が選択できるようサポートします。当社のサービ
スは、新しい SU-8 機能材料の設計から、準量産用の生産委託も含
めた完全な製品開発に及びます。
全世界の MEMS システム市場が 2010 年までに 950 億ドルに成
長すると期待されている中で、当社は 2009 年に 5,000 万ドルの
売り上げを達成することを目標としています。
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バイオテクノロジー
ionscope Ltd.
住
所
電
話
英国
http://www.ionscope.com
The London BioScience Innovation Centre,
2 Royal College Street, London NW1 0NH UK
(+44) 20 7691 2078
設立年
2003 年　従業員数
担当者
Dr. Shelley Wilkins
FA X (+44) 20 7681 3447
4 名　役
職
資本金 -
Head of Sales and Marketing
会社概要：
希望提携先
当社は、インペリアル･カレッジおよびケンブリッジ大学に勤務
■共同開発　□販売代理店　■ OEM　□ JV　□出資者
する科学者チームとの共同開発により生まれた、新しい走査型
■その他
（顧客）
イオンコンダクタンス顕微鏡（SICM）の開発、製造および販売を
行っています。当システムにより、生体細胞膜の像を従来の光学
当社技術の認知度とアプリケーションを拡大させることを目指
顕微鏡の 50 倍の解像度で観察できます。
しており、当社装置の能力を拡張し、最先端の研究に使用される
研究者および共同研究者を探しています。
テクノロジー・製品・サービス：
これまでの走査型顕微鏡技術は、生細胞と干渉するか生細胞を殺
してしまいました。SICM は、液中での観察を可能にするため、生
細胞に対して作用が穏やかで、長時間にわたって観察できます。
この技術はナノスケールでの生体プロセスの研究に応用でき、今
日ではニューロン、心筋肉、腎臓、精液および幹細胞を観察するだ
けでなく、ポリマー薄膜のナノスケール機能の研究にも使用でき
ます。
以下、SICM の特性を記載します。
画期的技術 : どの表面にも接触することなく液中での表面トポ
グラフィを観察することができます。
ハイブリッド技術 : 他の研究室システムと組み合わせて、ステ
アード･パッチ･クランピング、マイクロピットを使ったイオン
分子等の物質の供給、表面共焦点顕微鏡、走査型近接場光学顕微
鏡（SNOM）等のハイブリッド化が可能です。
取り付け : 走査ヘッドと顕微鏡との組み合わせ、または超コンパ
クトな走査ヘッドとして単体で使用することもできます。
マイクロピペット : プローブは、必要な径に引き伸ばされた、交
換容易な硼珪酸ガラス製ピペットチップを使用しています。
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バイオテクノロジー
JenLab GmbH
ドイツ
http://www.jenlab.de
住
所
Schillerstr 1, Jena 07745 Germany
電
話
(+49) 36 41 47 05 01
設立年
担当者
従業員数
1999 年　Mr. Jens W. Müller
FA X
(+49) 36 41 47 05 43
資本金
10 名　役
職
-
Sales & Marketing Dept.
会社概要
希望提携先
当社は、イエナ・フリードリヒ・シラー大学医学部からのスピン
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　□ JV
オフ企業です。生物工学、細胞生物学、医療分野において、フェム
■その他
（共同研究）
□出資者
ト秒レーザー技術に基づく革新的な生体計測の開発と確立を目
的としています。
医薬品業界（皮膚科学）、幹細胞研究センター、生体臨床医学（遺伝
子研究者）、化粧品業界
テクノロジー・製品・サービス
DermaInspect®：皮膚に対し非侵襲生体内光学的生体検査を行
える、細胞等の超高分解能のイメージング装置です。このクラス
主要顧客・特記
皮膚科学研究センター、化粧研究センター
1M システムは走査型フェムト秒パルスレーザービームを使用し
て、NAD(P)H、フラビン、ポルフィリン、エラスチン、メラニン等
の生体分子の多光子励起を行います。これによる蛍光および第二
高調波発生シグナルは単一光子レベルの高感度、高速の光電子倍
増管（PMT）検出器によって記録されます。
TauMap®：高分解能 3 次元断層撮影法と蛍光寿命イメージング
を組み合わせたイメージングシステムです。これによりサブミク
ロンの空間分解能およびサブナノ秒の時間分解能での 4 次元の
x,y,z,τ面でフルオロフォアのマッピングが得られます。本システ
ムを用いることで、生細胞と組織切片に対しその場で薬物モニタ
リングおよび蛍光共鳴エネルギー移動を行う事ができます。この
装置は従来の蛍光顕微鏡がベースとなっています。
Femt-O-Cut：フェムト秒近赤外レーザー加工を使ったナノプロ
セッシング装置です。特長は、超緻密な切断・穴あけが可能であ
ること、プロセッシングと同時に非観血式で高画質な 3D イメー
ジングを行えることです。本製品は、コンパクトなフェムト秒近
赤外レーザーを使い、透明な材料でも 3D ナノプロセッシングを
行うことができます。
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評価・計測
Advanced Surface Mechanics GmbH
住
所
Bautzner Landstrasse 45, Radeberg D-01454 Germany
電
話
(+49) 351 2695 348
設立年
担当者
FA X (+49) 351 2695 346
従業員数
6 名　2003 年　Dr. Thomas Chudoba
ドイツ
http://www.asmec.de
役
職
資本金
EUR 25,000
Managing Director
会社概要
当社は、ケムニッツ工科大学物理学研究所からスピンオフし、表
希望提携先
□共同開発　■販売代理店　□ OEM　□ JV □出資者 □その他
面力学の分野における、ソフトウェアおよびハードウェアの開
発と供給、ならびに顧客サービスを行っています。特に、ミクロお
表面力学または材料科学分野におけるパートナーを探しており
よびナノ範囲での摩耗、スクラッチ、マイクロ張力、疲労試験等を
ます。
行っています。
主要顧客・特記
テクノロジー・製品・サービス
大学、産業界、材料研究所他
UNAT システムは、機械的な表面特性を、ミクロおよびナノ範囲
で測定するための機器です。本機器の特徴は、同じ解像度で垂直
力および横力の荷重変位曲線を測定できる、独立した 2 つの測定
ヘッドを持っていることです。他社の既存のスクラッチ・磨耗試
験機とは異なり、ナノメートルでの精度が横方向でも可能です。
２つの測定ヘッドは、ともに圧縮および張力モードでも作動しま
す。ダイヤモンドチップを、他の固形物インデンターに交換する
だけで、原材の接触面を、他社とは比較にならない精度で検査す
ることができます。
２つの測定ヘッドを組み合わせたことで、硬質、磨耗、スクラッ
チ、ミクロ張力および疲労試験機、さらに側面計としても利用で
きます。また、高解像度光学顕微鏡と組み合わせることで、小さな
インデントや磨耗痕の高解像度画像も見ることができます。本機
器は、原子間力顕微鏡、白色光共焦点顕微鏡および電子顕微鏡と
組み合わせて使用することもできます。
また、当社のソフトウェアによって、ほぼ全ての荷重変位を自由
に制御することができます。ほぼ無限のポイントに対し、さまざ
まなサイクルを定義でき、測定を自動的に行えます。
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評価・計測
INNOWEP GmbH
ドイツ
http://www.innowep.com
住
所
Haugerring 6 Wuerzburg 97070 Germany
電
話
FA X (+49) 931 3229812
(+49) 931 322980 設立年
資本金
従業員数
10 － 20 名　1990 年　担当者
Mr. Wolfgang P. Weinhold
役
職
-
President
会社概要
当社は、表面検査、材料検査、および機能検査装置の専門企業で
す。当社の独自技術により、非常に複雑なナノ、マイクロ、およ
びマクロレベルの形状物、研磨、引っかき抵抗性、磨耗、触覚、マイ
クロトライボロジー、マイクロ摩擦、連続体弾性学、粗さ、トポグ
ラフィ、構造、および寸法のその場測定を行います。
当社技術は、
研究開発、
品質保証、
製造プロセス等で適用可能です。
OptoTop® – 非接触の光学式表面トポグラフィ・ジオメトリ装置
ナノおよびマクロスケールでの非常に複雑な地形および形状を
手軽に非接触で測定する光学式表面測定システムです。PC を含
む、コンパクトな単体の研究室用システムです。
希望提携先
■共同開発　□販売代理店　■ OEM　□ JV □出資者 □その他
※日本国内に総販売代理店有。
テクノロジー・製品・サービス
TRACEiT® – モバイル、非接触光学式表面分析装置
特許取得済の TRACEiT® システムは、携帯型の非接触表面形状測
定装置です。高精密な 3D トポグラフィ分析、粗さの測定、および
可視化が可能となります。当製品は、様々な製品表面の外観と品
質評価をデータ化し、解析および評価を行う、携帯型の初めての
主要顧客・特記
BMW、Daimler、Ford、Volkswagen、Audi、PSA、Porsche、
Nokia、Motorola、SonyEricsson、BenQ、P&G、Sanofi Aventis、
研究機関および大学
市販製品です。
UST® – 材料のマイクロメカニカル特性の汎用試験装置
表面粗さ、全変形、弾性および塑性、材料不整合、各層の膜厚 / 構
造、マイクロ硬度 / 構造、書き込み感度、書き込みおよび切断抵抗、
触覚および柔らかさ、研磨および引っかき抵抗性、マイクロ摩擦
係数、緩和およびダンピングなど、材料表面の機械的特性をその
場で測定します。
ABREX® – 業界標準の化学機械研磨および引っかき試験装置
当試験は、IEC 68-2-70 / DIN EN 60068-2-70 の試験手順に従って
いるため、結果の繰り返し再現性が確保されています。装置の柔
軟性により、あらゆる用途に対応します。他の装置とは異なり、化
学機械的な効果を含むリアルタイムの研磨が可能です。
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MEMS
Tactologic Ltd.
住
所
電
話
設立年
担当者
ハンガリー
http://www.tactologic.com
H-1083 Budapest, Práter utca 50/a Hungary
FA X
(+36) 30 9416455 従業員数
2007 年　(+36) 30 6149161
資本金
2 名　Mr. Ferenc Lakatos
役
職
3 million HUF
CEO
会社概要：
当社は、MEMS 技術を駆使して、3 軸接触センサーアレイを製
希望提携先
■共同開発　□販売代理店　■ OEM　■ JV
□出資者 □その他
造しています。単軸測定の圧力マッピングシステムと違い、当社
の装置は、最大 64 個のセンサー素子を持ち、3 軸全てについて
当社の装置はロボット、バーチャルリアリティ、医療、産業、科学
負荷プロファイルを測定します。
など様々な用途に利用できるため、当社と一緒に開発、OEM、あ
るいは合弁事業等でご協力頂ける日本企業との商談を希望して
テクノロジー・製品・サービス
います。
当社が扱う全装置の中核となるのが、ピエゾ抵抗方式を利用した
シリコンベースの MEMS 接触センサーです。当社の特許技術に
より、ポーラスシリコンエッチングと標準 CMOS プロセスを用
い、高性能な 3 軸力センサーを作製しました。センサーアレイの
各接触要素（taxel）は内蔵型ひずみゲージ方式で、アンダーエッチ
ングされた変形可能な十字型のシリコンブリッジで構成されて
います。構造材料であるバルクシリコンは、高い線形特性と堅牢
な機能性を持ち、独自の形状設計により印加力の 3 軸成分それぞ
れについて正確に測定できます。小さな taxel サイズと高密度の
アレイ構造により、人間の触覚に匹敵する空間分解能が実現され
ます。
当社の強み :
2
1cm 当たりのセンサー数、および検出感度、走査速度、アレイの
サイズにおいて他社を凌駕しています。
対象セグメント :
当社の装置はロボット、バーチャルリアリティ、医療、産業、科学
と幅広い用途に利用できます。
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環境・エネルギー
Nanoexa
米国
http://www.nanoexa.com
住
所
863 Mitten Road, Burlingame, CA 94010 USA
電
話
FA X (+1) 650 204 6007
(+1) 650 204 6000 設立年
資本金 US$ 2 million
従業員数
15 名　2005 年　担当者
役
Mr. Richard D’sa 職
COO
会社概要
当社は、カリフォルニア州シリコンバレー中心部に位置し、量子
希望提携先
■共同開発　□販売代理店　□ OEM　■ JV ■出資者 □その他
論的な材料の探索、モデリング、最適化および実験検証を行い、新
たなバッテリ用素材を開発しているクリーンエネルギー企業で
素材会社や、バッテリ / 太陽電池企業や投資家、プラグインハイ
す。当社の革新的ツールは、ソーラーおよび他のエネルギー関連
ブリッド車（PHEV）等の自動車のベンチャー企業との面談を希望
のナノ素材に適用可能です。
しています。
テクノロジー・製品・サービス
当社の使命は、バッテリ、太陽エネルギー発電および貯蔵に使用
する、代替グリーンエネルギー素材の開発期間を短縮し、大量導
入を実現することです。
当社は、特許取得済の革新的な計算機論および量子論モデリング
技術により、新規素材と組成の発見、最適化および開発を加速し、
これまでリチウムイオン電池、太陽電池およびスーパーキャパシ
18650/26650
タ等のクリーンエネルギー製品の材料性能を劇的に改善してき
ました。
当社はリチウムイオン市場への参入後には、携帯および据え置き
型アプリケーション用の太陽電池、およびこれらクリーンエネル
ギー源の貯蔵装置の開発を進めていきます。
Quantum Modeling
and Simulations
Driving Innovation in
New Battery Materials
Introduce nano-morphology and
new compositions
Innovative system level
cell design for
engineering prototypes
Introducing quantum
Engineering validation
of material followed by
prototyping on
level materials
commercial production
behavior in system
lines
level designs
Internal testing with
customer products
With test results and samples
customer can retrofit existing product
and incorporate in next generation
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免責事項
・お申し込み受付後、商談日時の設定調整をいたしますので、しばら
くお時間を頂戴する場合がございます。その場合、日時が確定した
後、改めて確定のご連絡をいたします。
・商談は、海外企業の意向も考慮して設定しますので、必ずしもご希望
に添えない場合がございます。
・海外企業の都合により、急遽来日を取りやめる場合もございます。
その場合、ジェトロから速やかにご連絡をさせていただきますが、
あらかじめご了承ください。
・商談時に開示される情報につきましては、すべて公開情報とさせて
いただきます。海外企業との商談の際、やむを得ず機密情報を開示
する必要がある場合は、個別に機密保持の契約を結んでいただき
ます様お願いいたします。商談の際に開示された情報に基づいて
被ったいかなる損害に対しても、ジェトロはその理由如何にかかわ
らず一切の責任を負うものではございませんので、あらかじめご了
承ください。
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