早稲田大学ナノテクノロジー研究所 ナノテクノロジー要素技術養成プログラム 1/3 ページ 2006年ナノテクニシャン養成コース 第2回 ナノ化学プロセスII／ナノ・マイクロ加工 ● 日程 2006年2月8日（水）、9日（木）、10日（金）、15日（水）、16日（木）、17日（金）の計6日間 原則として9:00～18:00まで（実習は延長する可能性があります） ● 場所 早稲田大学研究開発センター120-5号館 ● 概要 下記のどちらかをご選択ください。 ナノ化学プロセスII ナノ・マイクロ加工 リソグラフィーとめっきを組み合わせたパ UVナノインプリント及び熱ナノインプリント の原理を学び、前述の技術を使いサンプ ルを試作し評価基本技術も体験して頂き ます。ナノインプリント技術を熟知した方 よりもむしろ初心者を歓迎します。装置と しては、EVG101、EVG620、EVG520HE、 光学顕微鏡、SEM、SEM用イオンコータ、 ICP-RIE、 miniSEM等を使用します。 ターンめっきプロセスの実習を通して、加 工、評価装置（露光機、レジスト塗布装 置、めっき装置、触針式膜厚計、機械物 性評価装置、FIB）に関するスキルを養成 します。基板にレジストとマスクを用いて 紫外線露光によるパターンニングを行 い、そのパターンニングされたレジストパ ターンをマスクに電解めっきを行います。 めっき材料はNiめっきを想定。レジストを 除去した後で、めっき膜厚の測定、電流 効率、膜硬度、形状観察を行います。 １．リソグラフィーとめっきを組み合わせた パターンめっきプロセス ２．露光装置、レジスト塗布装置、めっき 前洗浄方法、めっき装置、触針式膜厚 計、物性評価、FIB装置の操作 注１） 今回は電解めっきの実習なので、 無電解めっきは行いません 注２） 汎用マスクパターンを使用します が、独自マスクパターンはカバーしませ ん 1. ナノインプリントの実験 UV硬化樹脂を塗布した基板に対して石 英金型でUVナノインプリント、熱可塑性 樹脂を塗布した基板に対してシリコン金 型で熱ナノインプリントをし、ナノパターン の転写実験を行う。スピンコーター、ＵＶ ナノインプリント装置、ホットエンボス装置 の操作を学ぶ。 2. ナノパターンの評価 実際にパターニングした基板を光学顕 微鏡及びSEMを使い評価する。 3次元顕微鏡、SEM用イオンコータ、SEM 装置の操作を学ぶ。 3. 評価・まとめ http://www.waseda-nanolearning.jp/nt/2006-02/2006-02.html 2006/04/13 早稲田大学ナノテクノロジー研究所 ナノテクノロジー要素技術養成プログラム 2/3 ページ 実験レポートの作成 カリキュラム カリキュラム ● 対象とする受講生 下記のどちらかをご選択ください。 企業等に勤務する技術者、研究者（社会人に限ります） ナノ化学プロセスII z z z z z ナノ・マイクロ加工 pHメーター、天秤、ピペット等の 使用経験 基本的な薬品知識（塩酸などの 薬品を使用） 長時間におよぶクリーンルーム 内作業と白衣着用に耐えられる こと e-MailとMicrosoft Officeの使用 経験 勤務先または自宅のPCがインタ ーネットに接続していること z z z 長時間におよぶクリーンルーム 内作業と白衣着用に耐えられる こと e-MailとMicrosoft Officeの使用 経験 勤務先または自宅のPCがインタ ーネットに接続していること ● 講師 共通講義 庄子（早稲田大学理工学術院） ナノ化学プロセスII ナノ・マイクロ加工 齋藤 (早稲田大学ナノテクノロジー研 究所) 水野 (早稲田大学ナノテクノロジー研 究所) 塚本 （NEC三栄） 江面 (早稲田大学ナノテクノロジー研 究所) 講師 (日立計測器サービス） 石田 (EVGジャパン) ● 定員 ナノ化学プロセスII 5名程度 ナノ・マイクロ加工 5名程度 ● 選考方法 エントリシートを審査し、受講要件を満たしていると判定された方には受講申込書をメー ルでお届けします。 受講申込書には、上長の推薦文と署名捺印が必要です。エントリシートを送付する前に 必ず承認を得ておいてください。この他、写真２枚も同封して頂きます。 http://www.waseda-nanolearning.jp/nt/2006-02/2006-02.html 2006/04/13 早稲田大学ナノテクノロジー研究所 ナノテクノロジー要素技術養成プログラム 3/3 ページ ● 修了要件 下記の３要件を満たした受講生に対し、早稲田大学より「ナノテクニシャン」の称号を授 与し、修了証を発行します。 z z z 共通講義、実践講義、実習にすべて出席すること 実習とレポートにおいて所定の学習目標を達成すること（評価基準は事前に開 示されます） 技能評価委員会で修了が承認されること ● 費用 保険料、クリーンルーム防塵料、装置・施設利用料、消耗品購入費、ソフトウェア保守費 として、7万5千円を実費として徴収いたします。 ● 募集締切日 2006年12月22日（木）【定員に達したので募集を締め切りました】 http://www.waseda-nanolearning.jp/nt/2006-02/2006-02.html 2006/04/13 ナノ加工カリキュラム カテゴリ 科目 ガイダンス － 共通講義 NTRC： 早稲田大学ナノテクノロジー研究所 ASMeW： 先端科学・健康医療融合研究機構 実施日 2006/02/8（水） 時間 内容 実施場所 NTRC303A 講師／説明者 8:30-9:00 概要説明、履修要件、事務連絡など 早稲田大学の人材養 2006/02/8（水） 成の取り組み 9:00-10:00 本プログラムの開催の意図、今までの運用 NTRC303A 実績、世間動向、今後の予定等の紹介 庄子教授 実践講義 ナノ加工 2006/2/8（水） 10:15-12:00 ・インプリント概論 ・実習内容の説明 水野助教授 実習I ナノ加工 2006/2/8（水） 13:00-18:00 NTRC1FCR内での装置紹介及び実験手順 NTRC の説明 水野助教授、江面講師、石田 講師 実習II ナノ加工 2006/2/9（木） 9:30-18:00 UV及び熱ナノインプリント実験方法説明及 NTRC び実技、AFM評価装置の説明 実習III ナノ加工 2006/2/10（金） 9:30-18:00 UV及び熱ナノインプリント実験及び評価 NTRC 実習IV ナノ加工 2006/2/15(水) 9:30-12:00 途中評価結果フリーディスカッション ASMeW011 実習IV ナノ加工 2006/2/15(水) 13:30-18:00 UV及び熱ナノインプリント実験及び評価 NTRC 水野助教授、江面講師、石田 講師、中島講師 水野助教授、江面講師、石田 講師 水野助教授、江面講師、石田 講師 水野助教授、江面講師、石田 講師 実習V ナノ加工 2006/2/16(木) 9:30-18:00 UV及び熱ナノインプリント実験及び評価 NTRC 水野助教授、江面講師、石田 講師 実習VＩ ナノ加工 2006/2/17(金) 9:30-18:00 UV及び熱インプリント実験、解析及びまと め NTRC 水野助教授、江面講師、石田 講師 ガイダンス － 2006/2/17(金) 18:00-18:15 レポート、修了要件等 NTRC303A 関口 懇親会 － 2006/2/17( 金) 18:30-20:00 受講生同士および受講生と講師との親睦を 早稲田駅前ビル 池田、西川 目的としてささやかな懇親会を催します ４F会議室 ASMeW011 村上事務長/関口助教授 荒川助手および大学院生１名でサポート ナノ加工 お名前 平均 Q1:講師の説明 Q2:講義と実習のレ ベル 4.8 Q3:教材 4.4 Q4:同僚へのお勧めレベル 4.2 Q5:会社の業務への適 用レベル 4.8 Q6:予習教材の品質 4.2 4.0 普通 Q7:コース全般についての満足度 Q6:予習教材の品質 Q5:会社の業務への適用レベル Q4:同僚へのお勧めレベル Q3:教材 Q2:講義と実習のレベル Q1:講師の説明 2.0 2.5 3.0 3.5 4.0 4.5 5.0 Q7:コース全般に ついての満足度 4.6
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