株式会社ニューフレアテクノロジー 2008年3月期決算説明会 代表取締役社長 井入 正博 2008年5月21日 NuFlare Technology, Inc. Proprietary 目次 •会社概要・事業概要 •2008年3月期決算概況 •2009年3月期業績見通し・今後の成長への取組み Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 1 会社概要・事業概要 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 2 会社概要 商 号 株式会社ニューフレアテクノロジー 設 立 2002年8月（東芝機械より分社） 本 社 横浜市港北区新横浜 資本金 5,523百万円（2008年3月末現在） 人 員 390名（2008年3月末現在） 事業内容 最先端半導体製造装置の開発、製造、販売、保守 主要販売先 最先端の半導体メーカー、マスク・メーカー 上場市場 JASDAQ（銘柄コード:6256） Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 3 設立の経緯・沿革 1975年 76/12 1980年 1995年 78/2 98/12 02/8 03/4 06/6 07/3 07/4 07/10 21 May, 2008 本社を新横浜に移転 ジャスダック証券取引所に株式上場 横浜事業所開設 マスク検査装置事業に参入 ＮＹに研究開発拠点を開設 EBM‐3000 2007年 東芝機械の半導体装置事業部 を吸収分割により継承 東芝グループ内部で 技術を蓄積 マスク描画装置ＥＢＭー３０００の販売を開始 マスク描画装置ＥＢＭ ー１００の販売開始 東芝から東芝機械へ 半導体製造装置の技術移管 Do Not Copy / Do Not Distribute 2000年 4 半導体技術は、微細化、新材料、新構造により、発展を続ける トランジスタ の集積度 10７ 10６ 微細化 新材料 新構造 積層化 ムーアの法則 （２倍／２年） イメージ 10６ 微細化の減速 10５ 10４ 10３ ２ 10 半導体の 微細化 10１ 1970年 1980年 1990年 Do Not Copy / Do Not Distribute 2000年 2010年 2020年 高性能化、省電力化、低コスト化 微細化技術 zArF液浸露光技術 zダブルパターニング zEUV露光技術 Flash DRAM MPU 新材料技術 z高誘電率材料（ゲート酸化膜） MPU z低誘電率材料（層間絶縁膜） Logic zSiGe 選択エピ zエピ基板 新構造技術 z3次元トランジスタ 積層化技術 z多層チップ積層 MPU Logic Flash DRAM MPU 21 May, 2008 5 製品紹介 −半導体製造の根幹となる装置を提供し続けていきます− マスク描画装置 回路設計 z先端リソグラフィー関連製品 マスク検査装置 9 9半導体微細化をリードする先端マスク 半導体微細化をリードする先端マスク 描画装置と検査装置 描画装置と検査装置 マスク製造 9 9先端マスク描画・検査に対応 先端マスク描画・検査に対応 携帯音楽端末 自動車 薄型テレビ ウェーハ 製造 ウェーハ プロセス エピタキシャル 成長装置 組立 /テスト zウェーハ基板製品 9 9パワー半導体向け パワー半導体向け 厚膜エピ基板 厚膜エピ基板 9 9CMOS用薄膜エピ基板 CMOS用薄膜エピ基板 zウェーハプロセス用選択エピ製品 半導体 完成品 最終製品の アセンブリ z DRAM z MPU z NAND Flash z IGBT z システムLSI z MCU ・ ・ 最終製品の 完成品 パソコン DVD プレーヤー 携帯電話 最終製品メーカー 9 9SJ−MOS SJ−MOS 9 9S/D用SiGe S/D用SiGe Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 6 マスク描画装置の概要 −微細化、複雑化するパターンに的確に対応− マスク（LSIの原版）の利用イメージ マスク描画装置の構造イメージ マスクの拡大イメージ 電子銃 収束レンズ 第1成形アパーチャ 成形偏向器 投影レンズ 第２成形アパーチャ OPC概念図 マスク上の パターン 露光後のパターン 副偏向器 主偏向器 対物レンズ OPC なし OPC ※ ※光近接効果補正（Optical Proximity Correction） Do Not Copy / Do Not Distribute マスク ステージ 21 May, 2008 7 マスク検査装置の概要 −透過反射同時検査による検査効率の大幅向上− マスク検査装置の構造イメージ 光源レーザ （257/199nm） 反射光学系 マスク 制御系 ﾎｽﾄCPU 透過光学系 比較検査処理 参照データ処理 測長レーザ 設計データ ステージ 対物レンズ （透過光撮像データ） データ展開・ 参照回路 （反射光撮像データ） A センサデータ（参照） A センサデータ Die-to-Die検査 マスク上の同一パターンを比較 Do Not Copy / Do Not Distribute 比較回路 欠陥 A 設計データ（参照） Die-to-Database検査 マスク上のパターンと設計データを比較 21 May, 2008 8 マスク関連事業の戦略：トータルソリューション提供 マスク製造 レイアウト設計 描画 検査 リソグラフィー マスク製造における トータルソリューションを提供 描画･検査データ 共通データ処理に よる生産性向上 マスク検査装置 （共通） マスク描画装置 描画 装置 装置パラメーター 検査 装置 パラメータ相互利用による、描画・検査品質の向上⇒マスク品質向上 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 9 エピタキシャル成長装置の概要 −高反応効率・高速成長を実現− z Si(シリコン)結晶基板上に結晶膜を成長させる z エピタキシャル層は結晶欠陥が圧倒的に少ない z 不純物を添加して電気抵抗値を調整できる 高速回転による気相エピタキシャル成長法 ガス供給 方向↓ 方向↓ 境界層：薄く、均一 裏面 ~1500rpm 加熱 z高いガス利用効率、速い反応速度で、均一なエピタキシャル膜を成長させます。 z選択エピにおいてマイクロローディング効果の低減が可能となります。 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 10 グローバルに展開する事業展開網 z先端半導体メーカーが集積する地域にサービス拠点を展開しています。 ドイツ 米国 韓国 日本 研究開発拠点 台湾 本社 （横浜市港北区） 管理・営業マーケティング機能 東京 サービスオフィス 横浜事業所（横浜市磯子区） 大阪 研究開発・マスク検査装置事業 沼津事業所（沼津市） マスク描画装置、エピタキシャル成長装置事業 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 11 2008年3月期決算概況 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 12 事業概況 • 事業環境 z 前期より続いた半導体微細化投資により、期初においては事業環境は好調に推移しましたが、半導体市況の低 迷、一部ロジック半導体の次世代量産化の遅延などにより顧客の設備投資の見送りや先送りが行なわれた結果、 全般的に厳しい事業環境となりました。 • マスク描画装置 z EBM-6000（45nm対応）を主力として営業活動を進めましたが、当初計画目標は未達成となりました。 z 市場シェアは、70%に増加しました。（当社調べ） z 次世代描画装置EBM-7000(32nm対応）の量産試作機を2008年3月に売上。2009年からの本格販売を計画していま す。 • マスク検査装置 z 装置の最終開発調整が完了し、量産試作機であるNT-5000（λ=199nm）を2008年3月に売上し、顧客先にて最先端検 査機として順調に稼動しています。 z 量産機販売の当初計画目標は未達成となりました。 z 2009年3月期での事業の本格立上を目指し、顧客による装置デモ評価を積極的に展開しました。 • エピタキシャル成長装置 z 売上は、EGV（縦型気相成長装置）が中心となりました。中国市場への本格的な販売を開始できました。 z HT（高速回転型枚葉式気相成長装置）は、前期に納めた装置を用いた顧客との共同評価が進展しました。 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 13 決算概況 • 受注高は前期比53.8%減少の12,899百万円 9 メモリー半導体の長引く価格低迷、一部ロジック半導体の次世代量産化の遅延などにより、 半導体メーカーやマスクメーカーにおける設備投資の見直しや先送りが行なわれ厳しい状況 • 売上高は前期比12.9%減収の20,083百万円 9 主力のマスク描画装置の計画未達 9 マスク検査装置は開発の遅れによる計画未達 • 設備投資は前期比74.6%増の2,940百万円 9 横浜事業所開設 • 研究開発費は同7.6%増の2,423百万円 9 マスク検査装置の開発費増 • 営業利益は前期比65.8%減益の821百万円、経常利益は同76.4%減益の516百万円 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 14 計画と実績の差異 【売上高】 【営業利益】 【経常利益】 【当期純利益】 期初計画比 △27.4% 期初計画比 △74.9% 期初計画比 △82.4% 期初計画比 △94.0% ＋3.4% 修正計画比 ＋26.6% 修正計画比 ＋0.4% （百万円） 30,000 修正計画比 ＋2.6% （百万円） 4,000 27,673 修正計画比 （百万円） （百万円） 4,000 4,000 3,271 20,000 20,000 20,083 2,937 3,000 3,000 3,000 2,000 2,000 2,000 1,000 1,000 1,682 10,000 1,000 800 821 500 516 80 0 0 期初 修正 計画 計画 （07.5.14） （08.3.14） 期末 実績 Do Not Copy / Do Not Distribute 0 期初 修正 計画 計画 （07.5.14） （08.3.14） 期末 実績 101 0 期初 修正 計画 計画 （07.5.14） （08.3.14） 期末 実績 期初 修正 計画 計画 （07.5.14） （08.3.14） 21 May, 2008 期末 実績 15 業績概要 2007年3月期 通期 増減 2008年3月期 構成比（％） （百万円） 通期 構成比 金額 増減率 （百万円） （％） （百万円） （％） △15,040 △53.8 100.0 △2,979 △12.9 7,954 39.6 △542 △6.4 10.4 821 4.1 △1,577 △65.8 2,192 9.5 516 2.6 △1,675 △76.4 当期純利益 1,140 4.9 101 0.5 △1,039 △91.1 EPS（円） 12,673.29 - 1,019.35 - 12,011 - 4,883 - 受注高 27,939 - 12,899 - 売上高 23,062 100.0 20,083 売上総利益 8,497 36.8 営業利益 2,398 経常利益 受注残高 Do Not Copy / Do Not Distribute - - △7,127 21 May, 2008 △59.3 16 受注高・受注残高 （百万円） 30,000 27,939 25,000 12,748 20,000 15,000 8,234 12,899 10,468 10,000 12,011 6,357 7,190 15,192 5,903 5,000 9,376 合計 受注高（下期） 受注高（上期） 期末受注残高 18,371 17,610 4,883 7,904 6,542 0 05/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 06/3期 07/3期 08/3期 21 May, 2008 17 製品別受注高・製品別受注残高 zマスク描画装置（百万円） 30,000 20,000 24,081 16,908 10,000 受注高（下期） 17,106 11,018 6,840 5,775 受注高（上期） 9,227 3,616 0 zマスク検査装置（百万円） 3,000 期末受注残高 2,638 2,121 2,000 1,000 0 zエピタキシャル成長装置（百万円） 3,000 2,000 1,000 1,738 1,179 702 1,032 668 334 128 574 325 86 16 691 0 05/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 06/3期 07/3期 08/3期 21 May, 2008 18 製品別売上高・営業利益率 （百万円） 30,000 （百万円） 3,000 エピタキシャル成長装置 営業利益 営業利益率 マスク検査装置 25,000 マスク描画装置 20,000 14,315 10.4 20,083 1,008 17,083 15,000 2,500 23,062 1,403 1,811 2,000 10.4 2,389 972 1,054 1,500 2,398 10,000 19,847 4.1 16,685 15,055 1,489 500 0 0 06/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 07/3期 5 1,000 5,000 05/3期 10 8.9 881 329 13,103 （％） 15 08/3期 1,524 821 0 05/3期 06/3期 07/3期 08/3期 21 May, 2008 19 地域別売上高・地域別売上高比率 （百万円） 30,000 25,000 欧米 欧米 27% 27% 欧米 アジア 国内 23,062 20,083 6,147 20,000 17,083 15,000 14,315 国内 国内 46% 07/3期 46% 売上高 23,062百万円 △60.4% アジア アジア 27% 27% 2,436 3,695 +38.1% 6,301 8,700 5,188 10,000 7,877 欧米 欧米 12% 12% 4,496 10,614 5,000 4,630 5,511 05/3期 06/3期 △15.7% 8,947 08/3期 売上高 20,083百万円 アジア アジア 43% 43% 0 Do Not Copy / Do Not Distribute 国内 国内 45% 45% 07/3期 08/3期 21 May, 2008 20 営業利益増減要因分析 （百万円） 3,000 2,398 △1,097 2,000 555 売上高減少 売上原価率 改善 1,000 9横浜事業所 開設費用（減 価償却費、支 払動力料など） の発生 113 49 △76 △162 特許使用料 販売手数料 外注費減少 減少 増加 人件費増加 △220 △737 研究開発費 増加 821 その他販管費 増加 0 07/3期 08/3期 営業利益 営業利益 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 21 損益計算書の概況 2007年3月期 金額 (百万円) z売上総利益 2008年3月期 構成比 (％) 金額 (百万円) 構成比 (％) 増減額 (百万円) 売上高 23,062 100.0 20,083 100.0 △2,979 売上原価 14,564 63.2 12,128 60.4 △2,436 売上総利益 8,497 36.8 7,954 39.6 △542 販管費 6,098 26.4 7,133 35.5 +1,035 営業利益 2,398 10.4 821 4.1 △1,577 営業外収益 126 0.5 107 0.5 △18 営業外費用 332 1.4 411 2.0 +79 2,192 9.5 516 2.6 △1,675 特別利益 0 0.0 0.4 0.0 +0.4 特別損失 0.8 0.0 143 0.7 +142 税引前当期純利益 2,191 9.5 374 1.9 △1,817 当期純利益 1,140 4.9 101 0.5 △1,039 経常利益 Do Not Copy / Do Not Distribute − 売上原価率は描画装置における品質改善・ 生産の効率化により、 前期比2.8ポイント改善 − 売上総利益は売上の減少により、 前期比542百万円減少 z営業利益 − 販管費は販売手数料、横浜事業所関連費の 増加と研究開発強化などにより、 前期比1,035百万円増加 − 営業利益は売上総利益の減少と販管費の増 加により、 前期比1,577百万円減少 z経常利益 − 営業外収益は為替差益及び受取特許料の減 少により、前期比18百万円減少 − 営業外費用は支払利息の増加により、 前期比79百万円増加 − 収支差引後、経常利益は前期比 1,675百万円減少 21 May, 2008 22 貸借対照表の概況 z資産の部 2007年3月期 2008年3月期 − 流動資産：前期末比1,815百万円増加 金額 (百万円) 構成比 (％) 金額 (百万円) 構成比 (％) 流動資産 26,961 87.1 28,777 83.1 +1,815 （現預金） 2,740 8.8 2,480 7.2 △259 （売上債権） 10,807 34.9 7,638 22.1 △3,168 （棚卸資産） 12,914 41.7 17,558 50.7 +4,643 z負債・純資産の部 4,009 12.9 5,851 16.9 +1,842 総資産 30,971 100.0 34,629 100.0 +3,658 流動負債 21,634 69.8 21,655 62.5 +20 固定負債 2,194 7.1 3,909 11.3 +1,714 純資産 7,141 23.1 9,064 26.2 +1,922 30,971 100.0 34,629 100.0 +3,658 固定資産 負債純資産合計 自己資本比率 Do Not Copy / Do Not Distribute 23.1 26.2 増減額 (百万円) 9 棚卸資産の増加（4,643百万円） 9 受取手形の減少（2,216百万円） 9 売掛金の減少（952百万円） − 固定資産：前期末比1,842百万円増加 9 有形固定資産の増加（1,922百万円） − 流動負債：前期末比20百万円増加 9 短期借入金の増加（3,500百万円） 9 支払手形の増加（195百万円） 9 買掛金の減少（2,828百万円） − 固定負債：前期末比1,714百万円増加 9 長期借入金の増加（1,500百万円） − 純資産：前期末比1,922百万円増加 9 新株式発行による増資資金（2,046百万円） 9 利益剰余金からの配当金支払（225百万円） 21 May, 2008 23 キャッシュ・フロー計算書の概要 （百万円） 2007年3月期 2008年3月期 増減 z営業キャッシュ・フロー ： △4,508百万円 − 税引前当期純利益 営業活動による キャッシュ・フロー △ 239 △4,508 △4,269 投資活動による キャッシュ・フロー △ 403 △2,555 △2,152 (フリーキャッシュ・ フロー) △ 642 △7,064 △6,421 財務活動による キャッシュ・フロー △ 189 6,804 6,993 現金及び現金同等物の 増減額 △ 831 △259 571 現金及び現金同等物の 期末残高 2,740 2,480 △259 − 売上債権の減少 +374百万円 +3,168百万円 − たな卸資産の増加 △4,785百万円 − 仕入債務の減少 △2,840百万円 z投資キャッシュ・フロー ： △2,555百万円 − 有形固定資産の取得 △2,623百万円 z財務キャッシュ・フロー ： +6,804百万円 − 短期借入金の増加 +3,500百万円 − 長期借入金の増加 +1,500百万円 − 新株式発行による収入 +2,029百万円 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 24 2009年3月期業績見通し Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 25 事業環境の見通し • 事業環境 z 前期から続く半導体市況低迷の影響により、上期についてはマスク関連設備投資は低調に推移すると見てい ますが、下期に向けて半導体市況の回復と合わせてマスク関連設備投資は回復すると予測しています。 • マスク描画装置 z 次世代32nm対応マスク開発を可能にするEBM-6000PLUS（DP:Double Patterning対応）を本格販売し、顧 客の先端開発ニーズの先取により需要を引き出します。 z EBM-7000を2009年より本格販売します。本装置は、次世代32nm対応量産用であり、EUV露光用マスク描画も可 能になります。 z 顧客ロードマップ要求に合わせた製品投入を持続的に進めることで、今後も70%を超えるシェアの維持をはかりま す。 • マスク検査装置 z 下期に向けた半導体市況の回復基調に合わせて、次世代マスク検査装置の選定評価が活発化しています。 z 基本性能で競合他社に比して優れているNPI-5000PLUS （λ=199nm） を次世代装置として2008年3月にリリース し、受注獲得を目指しています。 z NPI-5000PLUS では、顧客から要望が強い「アシストパターン部検出感度緩和機能」、「装置感度設定/支援機能」 をリリースし、ユーザーフレンドリーを実現しました。 z NPI-6000 （λ=199nm ） 32nm量産/22nm開発対応装置（EUV本格対応）の2010年リリースを目指して開発中です。 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 26 事業環境の見通し • エピタキシャル成長装置 z 中国市場からはEGV（縦型気相成長装置）のリピートオーダーをすでに受けており、今期以降さらに拡大を見 込んでいます。 z HT （高速回転型枚葉式気相成長装置）は、パワー半導体向けのデモ評価や客先開発が進展し今期は量産機へ の展開を計画しています。 z パワー半導体向けに関心を寄せていただいている顧客向けデモを中心に受注活動を強化する計画です。 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 27 業績予想 2008年3月期 通期 増減 2009年3月期（計画） 構成比（％） （百万円） 通期 構成比 金額 増減率 （百万円） （％） （百万円） （％） 受注高 12,899 - 36,700 - 売上高 20,083 100.0 29,000 7,954 39.6 営業利益 821 経常利益 +23,800 +184.5 100.0 +8,916 +44.4 10,460 36.1 +2,505 +31.5 4.1 2,000 6.9 +1,178 +143.6 516 2.6 1,600 5.5 +1,083 +209.5 当期純利益 101 0.5 800 2.8 +698 +689.8 EPS（円） 1,019.35 - 8,000.00 - 4,883 - 12,600 - 売上総利益 受注残高 Do Not Copy / Do Not Distribute - - +7,716 21 May, 2008 +158.0 28 業績見通し • 受注高は前期比184.5%増の36,700百万円 9 マスク描画装置は、次世代機EBM-7000の受注が本格化 9 マスク検査装置は、NPI-5000PLUSの受注獲得を推進 • 売上高は前期比44.4%増の29,000百万円 9 マスク描画装置は、高付加価値製品EBM-7000による増収 9 マスク検査装置は、販売台数増による増収 • 設備投資は前期比40.4%減の1,751百万円 • 研究開発費は同4.1%増の2,523百万円 • 営業利益は前期比143.6%増益の2,000百万円、経常利益は同209.5%増益の1,600百万円 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 29 受注高・受注残高の見通し （百万円） 40,000 36,700 35,000 30,000 27,939 20,600 25,000 20,000 15,000 17,610 18,371 8,234 10,468 12,899 12,600 12,011 6,357 15,192 5,903 5,000 12,748 7,190 10,000 9,376 7,904 05/3期 06/3期 合計 受注高（下期） 受注高（上期） 期末受注残高 16,100 6,542 4,883 0 Do Not Copy / Do Not Distribute 07/3期 08/3期 09/3期（計画） 21 May, 2008 30 製品別受注高・製品別受注残高 zマスク描画装置（百万円） 30,000 20,000 10,000 16,908 24,081 21,000 17,106 6,840 5,775 11,018 受注高（下期） 受注高（上期） 9,227 3,616 6,200 期末受注残高 0 zマスク検査装置（百万円） 15,000 12,400 10,000 5,000 86 16 0 2,638 2,121 325 4,700 574 zエピタキシャル成長装置（百万円） 5,000 3,300 1,738 2,500 0 702 128 05/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 1,179 668 334 06/3期 07/3期 1,032 691 08/3期 1,700 09/3期（計画） 21 May, 2008 31 製品別売上高・営業利益率の見通し （百万円） （百万円） 30,000 25,000 1,403 1,811 20,000 15,000 29,000 合計 エピタキシャル成長装置 マスク検査装置 マスク描画装置 23,062 2,300 14,315 881 329 10,000 営業利益 営業利益率 2,398 2,500 8,300 20,083 2,000 1,008 17,083 972 1,054 3,000 （％） 15 2,389 1,489 2,000 10.4 10.4 10 8.9 1,524 1,500 19,847 16,685 15,055 18,400 6.9 1,000 821 5 4.1 13,103 500 5,000 0 0 05/3期 06/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 07/3期 08/3期 09/3期 (計画 ) 0 05/3期 06/3期 07/3期 08/3期 09/3期 (計画 ) 21 May, 2008 32 製品別売上高（半期比較）の見通し （百万円） 25,000 20,500 エピタキシャル成長装置 マスク検査装置 20,000 マスク描画装置 14,978 15,000 12,957 10,000 5,000 合計 11,912 8,084 8,171 8,500 下期 上期 4,126 0 上期 下期 06/3期 Do Not Copy / Do Not Distribute 上期 下期 07/3期 上期 08/3期 下期 09/3期 （計画） 21 May, 2008 33 研究開発費、設備投資、減価償却費の見通し 設備投資 研究開発費 売上高研究開発比率 （百万円） 減価償却費 （％） （百万円） 5,000 15 5,000 横浜事業所新設 横浜事業所新設 12.1 4,000 4,000 10.3 9.8 8.9 8.7 3,000 2,253 2,000 1,480 2,423 10 2,523 1,516 2,940 3,000 2,000 5 820 1,000 1,000 309 140 0 0 05/3期 06/3期 07/3期 08/3期 09/3期 （計画） Do Not Copy / Do Not Distribute 1,751 1,684 355 277 292 06/3期 07/3期 1,045 0 05/3期 08/3期 09/3期 （計画） 21 May, 2008 34 マスク描画装置の取組み シェア拡大と収益性の改善により、安定した売上高の確保と収益の拡大を目指す 研究開発への 持続的投資 新規顧客開拓 事業体制強化 Do Not Copy / Do Not Distribute • 高性能・高品質な製品開発により高付加価値化を推進 • EBM-7000、EBM-8000の投入により高い競争力を維持 • 顧客ニーズの把握 • 新規顧客への拡販を推進 • リードタイムの短縮、原価低減把握を強化 • 品質保証・サービス体制のさらなる強化 21 May, 2008 35 マスク検査装置の取組み 市場への本格参入と拡販により、新たな成長軸とする • 新製品投入 9 高分解能検査性能、高生産性、充実したフレンドリー機能 • 積極的な拡販 事業体制の確立 Do Not Copy / Do Not Distribute NPI-5000PLUSの市場投入（2008年3月リリース） NPI-6000（EUV本格対応）の2010年市場投入に向けた開発推進 • 積極的な製品プロモーション展開 • 顧客デモ評価による製品性能アピール • 生産リードタイムの短縮、原価低減、品質保証体制の強化 • 描画装置との連携したサービス体制の充実 21 May, 2008 36 エピタキシャル成長装置の取組み HT2000/3000による高付加価値製品市場への本格展開を実現 既参入市場 （200mm基板エピ） 新規参入市場 （300mm基板エピ） • • • パワー半導体向けエピ基板市場をターゲット トップシェアを目指す 強みであるプロセス性能に加え、装置の安定稼動性を強化 • 先端デバイス向け300mmプロセスエピ市場をターゲット • 売上の伸長を目指す • 重点顧客との共同評価により装置の量産化技術を強化 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 37 NuFlare, Beyond The Leading Edge 最先端の半導体を通じて、 半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること。 それがニューフレアテクノロジーのビジョンです。 Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 38 本資料における注意事項等 • 本プレゼンテーション資料には、株式会社ニューフレアテクノロジーの業績、戦略、事業計画などに関 する将来的予測を示す記述および資料が記載されております。 • これらの将来的予測に関する記述および資料は過去の事実ではなく、発表時点で入手可能な情報に基づ き当社が判断した予測です。 • また経済動向、他社との競合状況などの潜在的リスクや不確実な要因も含まれています。その為、実際 の業績、事業展開または財務状況は今後の経済動向、業界における競争、市場の需要、その他の経済・ 社会・政治情勢などの様々な要因により、記述されている将来予測とは大きく異なる結果となる可能性 があることをご承知おきください。 【本資料及び当社ＩＲに関するお問い合わせ先】 株式会社ニューフレアテクノロジー 総務部 IR担当 TEL 045-471-1982 FAX 045-470-7085 URL : http://www.nuflare.co.jp Do Not Copy / Do Not Distribute 21 May, 2008 39
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