2003年度の研究メンバーと進行中の研究 テーマ 助教授 寺坂宏一 新規研究テーマ探索 粒子Gr M2 五島 崇 循環流動層内の圧力分布と粒子循環速度 M1 須山 有希子 炭酸ガス固定化のためのCO2吸収粒子の製造 B4 佐武 弘道 乾式法による室内汚染物質除去装置の開発 バイオ Gr M1 岩橋 美沙 好気性菌体による高濃度キサンタンガム生産 B4 新田 純也 高酸素移動速度をもつ気泡塔型バイオリアクター の開発 気泡Gr M1 堤野 香 高粘度液中への均一気泡分散装置の開発 B4 井上 陽介 気泡塔内を上昇する気泡の形状・速度の3D測定 B4 佐々木 マイクロチャンネルをもつソフトマテリアル製造 B4 新保 辰典 康行 マイクロバブルを利用した不純物除去技術開発 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 研究室の体制と方針 反応工学研究室では化学工学的な研究手法を基礎として、 反応装置やプロセスの研究・開発を行っています。研究の対 象となるのは「化学反応」よりは「化学反応器」や「化学反応 場」です。従って得たい成果も「物質」よりも「装置」や「方法論 (技術)」です。この点が他の研究室と最も異なる点です。 本研究室では全てのメンバーは一人ひとつずつの独立した 研究テーマを持ちます。しかし、研究を進めていくには、ユニー クな発想の装置設計や、斬新で柔軟な方法による実証が必要 です。 そこで、全研究メンバーが研究状況をプレゼンテーションし、 自分の考えを他のメンバーに伝え、評価してもらったり批判し てもらえる場として、Weekly Meetingを毎週1回行っています。 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 新4年生向け 継続テーマ① 実験装置 気泡塔内を上昇する気泡の界面積・速度 のReal time 3D測定と解析 気液反応を精密に行わせるた めには気液界面の接触面積の 推定が必要です。しかし気泡の 形や上昇速度は様々な条件に より非常に大きく変化します。従 来は写真やビデオで撮影し、現 像、焼き付けを経て、円や楕円 といった簡単な図形への近似に より解析されています。しかしこ れでは様々な誤差が混入しま す。そこで、本研究では3台の レーザーセンサーにより気泡の Phoenics V3.3による上昇気泡周りの 上昇速度と立体的な形状を瞬 速度分布計算結果 時に測定するシステムを構築し ました。得られたデジタルデータ はCFDシミュレーションに容易 に取り込むことができます。これ により精密な実験と解析が可能 になりました。 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 新4年向け 新テーマ② ソフトマテリアルを用いた3次元固定化菌体 バイオリアクターの開発 最もシンプルで雑菌汚染の少ない菌 体培養はシャーレ培養法ですが、この 方法ではシャーレ平面上の寒天培地を 菌体が埋め尽くすか、栄養素または酸 素が枯渇すると、菌体は死滅に向かい ます。 しかし、もし寒天培地表面だけでなく 内部でも菌体が成長・増殖できると、菌 体増殖は3次元的に生じ、大量生産が 可能になります。しかし一方で栄養素 や酸素がより多く必要になるため、それ らを供給する毛細血管のような流通路 が必要になります。 本研究では多数のチャンネルをもつ ソフトマテリアルゲル培地をつかったバ イオリアクターの開発を試みます。 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 新4年向け 新規テーマ③ マイクロバブルの発生機構の解明 マイクロバブルとは数ミク ロンから数100ミクロン程度 の非常に微細な泡で、通常 の数ミリから数センチの泡に 比べて、特殊な性質がある と言われていますが、その 原因や発生メカニズムはい まだ不明です。 そこで本研究室ではこれま でに培ってきた気泡発生解 析技術を使って、現象の解 明に取り組みます。 マイクロバブル生成装置 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 新4年向け 新規テーマ④ 下降液流への下向きガス分散メカニズム の解明 液体にガスを吹き込んで化学反 応させる装置は多くありますが、工 業的な装置の場合、分散器は下向 きに設置されていることが多くあり ます。これは運転中よりも起動時 や休止時にガスのパイプラインに 液が逆流しないようにするためで す。 そこで、ガス分散器からの気泡生 成状態を推定するには、気泡が浮 力に逆らって下降しながら成長す る現象の解明が必要です。 本研究では実験と数値シミュレーションの組み合わせにより開発 を進めます。 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/ 2004年度に来ていただきたい人材 本研究室は2001年度に総勢5名から出発し、本年度は9名 で研究を行っています。少なくとも3つは新テーマになりますの で、パイオニアとなって研究し、修士課程や博士課程にも進学 して大きな成果を育てたいと考えるやる気いっぱいの方を期待 しています。 既存の研究内容を知りたい方はホームページか廊下のポス ターをご覧下さい。また、新テーマや研究室の雰囲気、その他 の質問は研究室に直接お越し下さい。いつでも歓迎しています。 23棟411B号室 寺坂助教授室 E-mail [email protected] 23棟407号室・413号室 寺坂研学生居室兼実験室 http://www.applc.keio.ac.jp/ ~terasaka/
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