フレキシブルなPSQフィルム

フレキシブルな
フレキシブルなPSQフィルム
フィルム
ポリイミド代替フィルムとして
PSQと長鎖変性シリコーンを主成分とする
透明・耐熱性・しなやかなフィルムを開発しました
R
Si
O O
R
Si
R
Si
O
O R
Si
R
O
O
Si
R
O
Si O
Si
O
OO
R
OR
Si
Si
OH
R
O
Si
OH
R
目的・背景
O
ポリシルセスキオキサン
(PSQ)
● ディスプレイや各種デバイスのウエアラブル化の進展に伴
い、ポリイミドフィルムでは実現できない耐熱性と光学特性を
兼ね備えたフレキシブルフィルム
兼ね備えたフレキシブルフィルムへの要求が高まっています。
フレキシブルフィルムへの要求が高まっています。
● KRIは、ポリシルセスキオキサン(
KRIは、ポリシルセスキオキサン(PSQ
は、ポリシルセスキオキサン(PSQ)にソフトセグメントと
PSQ)にソフトセグメントと
してのシロキサンを複合化する事で、フレキシビリティを付与
した耐熱性・機械特性に
した耐熱性・機械特性に優れた
耐熱性・機械特性に優れたハイブリッドフィルムを開発し
優れたハイブリッドフィルムを開発し
ました。
ソフトセグメント
ハードセグメント(PSQ)
)
ハードセグメント(
フレキシブルハイブリッドの概念図
本技術の特徴
1.フレキシブルフィルム
・PSQをハードセグメント、変性シリコーンをソフトセグメン
PSQをハードセグメント、変性シリコーンをソフトセグメン
トとしたフレキシブルなハイブリッドフィルムを作製
弾性率: 400MPa(目的に応じて調整可能)
400MPa(目的に応じて調整可能)
可撓性(右図参照)
2.一般的な有機系材料では得られない耐熱性
・反応性PSQ
・反応性PSQによる架橋シロキサン構造導入により、
PSQによる架橋シロキサン構造導入により、
耐熱性と可撓性を両立
: 250℃以上
250℃以上
: 324℃
324℃
: 375℃
375℃
・PSQ末端、シロキサン側鎖へ官能基を導入する事で
PSQ末端、シロキサン側鎖へ官能基を導入する事で
フィルム表面の親和性を調整可能
90.00
324℃
324℃
80.00
-20.00
70.00
-30.00
%)
Weight ((%
3.官能基導入による親和性改質フィルム
0.00
-10.00
60.00
-40.00
50.00
-50.00
40.00
-60.00
30.00
熱分解
-70.00
20.00
重量減少
-80.00
10.00
-90.00
KRIからのご提案
100.0
200.0
300.0
μV)
Heat Flow (μV)
常用温度
5%重量減温度
5%重量減温度
分解温度
フレキシブルハイブリッドフィルムの外観
400.0
Temp Cel
500.0
600.0
700.0
フレキシブルハイブリッド材料の熱分解挙動
KRIでは
KRIでは、本材料
では、本材料を使用した
、本材料を使用した、以下の応用
を使用した、以下の応用を
、以下の応用を提案します。
有機EL
有機ELディスプレイに適用可能な折り曲げ
ELディスプレイに適用可能な折り曲げ可能
ディスプレイに適用可能な折り曲げ可能な透明
可能な透明
耐熱フィルムの開発
KRI目標
目標
可撓性を有するディスプレイ用保護フィルムの開発
KRIフィルム
ウェアラブルデバイス用可撓性基板の開発
ポリイミド
生体への親和性・密着性を改善する中間膜の開発
☆ 材料開発プロジェクト、応用技術開発プロジェクトと
材料開発プロジェクト、応用技術開発プロジェクトとして実施します。
可撓性
無色
透明性
400℃
℃以上
耐熱性
○
○
○
○
×
○
×
△
△
特許出願済
株式会社 KRI エネルギー材料研究部 tel:075-322-6832
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