研究会会場アクセスMAP

2016年度第2回光材料・応用技術研究会【研究会会場アクセスMAP】
研究会
・日時
・会場
：2016年8月26日（金）13:00～17:00
：（株）日本レーザー本社
東京都新宿区西早稲田2-14-1 TOHMA早稲田ビル3Ｆ
・アクセス：東京メトロ副都心線「西早稲田駅」下車、2番出口より徒歩約5分
名刺交換会
・時間：17:00～18:50
・会場：日本レーザー本社（研究会会場と同じ）
明治通り
（池袋方面）
日本
西早稲田駅
出口2
日本レーザー本社3F
諏訪町交差点
明治通り
（新宿方面）
当日、会場までのアクセスに関するお問合せは、光協会へご連絡願います。
03-5225-6431（研究会事務局山下宛）、当日は070-1534-2951にご連絡願います
研究会会場＆
名刺交換会会場

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